Cтраница 1
Начальная стадия роста fc с последующим ее быстрым уменьшением после прохождения через максимум времени релаксации может быть описана предложенной выше моделью только в том случае, если константы скорости А - и А / в начале и конце процесса мицеллообразования меньше, чем для предмицеллярных агрегатов среднего размера. При этом условии из параметров, выбранных для подгонки теоретической кривой к экспериментальным точкам, можно сделать вывод, что переход ожидается между шестой и седьмой стадией ассоциации предмицеллярных субъедиющ. Так как fc связана со временем химической релаксации тхим уравнением 1 / тхим 2тт / с, которое в свою очередь определяет константу скорости процесса изомеризации, fc 5 - Ю7 Гц может рассматриваться как нижний предел частоты флуктуации внутри ( почти) сформированной мицеллы. [1]
Начальная стадия роста пузырька характеризуется резким увеличением давления и плотности газа. В дальнейшем давление снижается и становится постоянным. [2]
Начальная стадия роста кристаллического зародыша, сопровождаемая увеличением свободной энергии системы ( преодолением потенциального барьера), не может быть объяснена приведенными термодинамическими зависимостями. [3]
![]() |
Пример дневного графика японских свечей котировок акций Intel Corp. ( NASDAQ. INTC. [4] |
На начальной стадии роста мы видим на графике преобладание белых свечей в полном соответствии с бычьими настроениями участников рынка. Как видно из графика, рост происходил с многочисленными коррекциями и откатами, отображенными черными свечами. [5]
![]() |
Полюсные фтуры молибденовых покрытий толщиной 20 мкм. [6] |
На начальной стадии роста кристаллы всей совокупности имеют направление роста, совпадающее с нормалью к поверхности подложки; при этом возникает аксиальная текстура. Затем начинает сказываться неоднородность кристаллов по дефектности. Направление роста наиболее дефектных кристаллов начинает отклоняться в направление молекулярного пучка. В результате возникают условия для образования ограниченной текстуры, которая охватывает совокупность наклонных кристаллов. В результате вся совокупность-кристаллов разбивается на две совокупности, с аксиальной и ограниченной текстурами. В процессе дальнейшего роста совокупность с аксиальной текстурой с увеличением наклона кристаллов приобретает признаки ограниченной текстуры. На этом этапе роста вся совокупность кристаллов приобретает однотипную ограниченную текстуру. [7]
Рассмотрим начальную стадию роста предельно маленького пузырька. [8]
Рассмотрим начальную стадию роста сферического газового пузырька начального радиуса R0 в многокомпонентном пересыщенном растворе в процессе диффузии в него растворенных в жидкости компонентов небольшой концентрации. Принимаем, что процесс изотермический, коэффициенты DiL, B и S - постоянные. Пузырек достаточно мал, так что всплытием его в жидкости можно пренебречь. [9]
На начальных стадиях роста, когда особенно значительно перес щение, структура стержня состоит из большого количества тоню дендритов, расположенных так же, как структура затравки ( рис. 101 Затем в процессе роста выклиниваются дендриты с неблагоприятнь направлениями роста и структура формируется дендритами, распол женными радиально. [11]
На начальных стадиях роста пузыря, когда силы близки к равновесию, рост происходит медленно, но ускоряется с расширением пузыря, так как сила поверхностного натяжения уменьшается. Однако когда скорость роста пузыря становится заметной, температура и, следовательно, давление внутри пузыря падают, уменьшая скорость роста. [12]
![]() |
Развитие винтовой дислокации в механизме спирального роста кристалла. [13] |
Итак, начальная стадия роста эпитаксиального слоя состоит в формировании на поверхности системы зародышей. Далее атомы, молекулы или кластеры исходной фазы, осаждаясь на поверхность подложки, мигрируют по ней и закрепляются у зародышей, увеличивая их размер и образуя так называемую островковую структуру. Наконец, островки сливаются в сплошной непрерывный слой, который растет при сохранении даже незначительного пересыщения в системе. [14]
При анализе начальной стадии роста следует в первую очередь определить разрешающую способность метода наблюдения за образованием зародышей новой фазы и охарактеризовать рельеф поверхности подложки. [15]