Cтраница 2
Так как Ка ( Кь) - некоторые постоянные, степень протолиза увеличивается по мере снижения исходной концентрации кислоты и становится равной единице при бесконечном разбавлении. Поэтому в сильно разбавленных растворах вода почти полностью протолизирует слабые протолиты. В отличие от Ка и Кь степень протолиза зависит от разведения и поэтому мало пригодна для количественного сравнения силы кислот и оснований. [16]
Подобно тому как диссоциацию соли определяют степенью диссоциации, в качестве меры протолиза вводят степень протолиза. [17]
Рассчитайте молярную концентрацию для Н3О и Н2РО4 ( по точной формуле, см. задачу 7.59), для НРО - и РО % - и степень протолиза ( %) для Н3РО4 ( по точной формуле, см. задачу 7.63), а также для Н2РС 4 и НРОд в 0 1М растворе ортофос-форной кислоты. [18]
Известно, что связь лантаноид - вода в аквакатионах [ Ьп ( НаО) 8 ] 3 упрочняется при переходе La к Lu. Как изменяется степень протолиза аквакатионов. [19]
Мольная доля сопряженного протолита, образовавшегося в результате протолиза растворенного протолита, показывает, какая часть растворенного протолита подвергается протолизу. Эта мольная доля обычно называется степенью протолиза. [20]
Молярная доля сопряженного протолита, образовавшегося в результате протолиза растворенного протолита, показывает, какая часть растворенного протолита подвергается протолизу. Эта молярная доля обычно называется степенью протолиза. [21]
Аналогичное соотношение известно и для протолиза слабого основания. Из закона разбавления Оствальда следует, что с уменьшением концентрации слабой кислоты или слабого основания значение степени протолиза увеличивается. [22]
Так как Ка ( Кь) - некоторые постоянные, степень протолиза увеличивается по мере снижения исходной концентрации кислоты и становится равной единице при бесконечном разбавлении. Поэтому в сильно разбавленных растворах вода почти полностью протолизирует слабые протолиты. В отличие от Ка и Кь степень протолиза зависит от разведения и поэтому мало пригодна для количественного сравнения силы кислот и оснований. [23]