Cтраница 2
Термостойкое защитное покрытие поверхностей рабочих лопаток первой и второй ступеней наносится с помощью электронно-лучевой технологии. [16]
Нами была исследована возможность применения метода атомной абсорбции для непрерывного аналитического контроля процесса электронно-лучевой технологии рафинирования тугоплавких металлов на примере очистки ванадия от примеси железа. [17]
Преобразователи ПКА, кроме того, используются для заданного изменения аналоговой величины с очень высокой точностью, для градуировки измерительных устройств, для автоматизации экспериментов и испытаний, в системах цифрового управления, например в прецизионных станках с программным управлением положением инструмента, в установках электронно-лучевой технологии с программным управлением положением луча, в генераторах напряжений с программным управлением, при частотном и фазовом управлении. [18]
![]() |
Входные и выходные сигналы мультиплексора К154КП15. [19] |
Преобразователи ПКА, кроме того, используются для заданною изменения аналоговой величины с очень высокой точностью, для градуировки измерительных устройств, для автоматизации экспериментов и испытаний, в системах цифрового управления, например в прецизионных стайках с программным управлением положением инструмента, в установках электронно-лучевой технологии с программным управлением положением луча, в генераторах напряжений с программным управлением, при частотном и фазовом управлении. [20]
Преобразователи ПКА, кроме того, используются для заданного изменения аналоговой величины с очень высокой точностью, дпя градуировки измерительных устройств, для автоматизации эспериментов и испытаний, в системах цифрового управления, например в прецизионных станках с программным управлением изложением инструмента, в установках электронно-лучевой технологии с программным управлением положением луча, в генераторах напряжений с программным управлением, при частот-нэм и фазовом управлении. [21]
Для сваркопайки может быть использован широкий ряд установок для электронно-лучевой сварки, например, А 306.13, У-570 М, У-579, ЭЛУ-19, ЭЛУ-20, УЛ-144, У-401. Применение электронно-лучевой технологии благодаря вакуумной защите и точному дозированию количества теплоты часто предпочтительнее других методов, особенно при наличии в соединяемой паре высокоактивного металла. [22]
Это позволяет получать конфигурации элементов микросхем непосредственно на подложке, покрытой слоем электронорезиста или фоторезиста, без использования фотошаблонов. Особенно важна гибкость электронно-лучевой технологии, легко перестраиваемой с одной конфигурации на другую, в производстве схем высокой степени интеграции. [23]
Даны общие закономерности преобразования электрической энергии в другие виды как основы электротехнологии, методы расчета, выбора и применения электротехнологического оборудования. Показаны возможности и перспективы электротермии и электронно-лучевой технологии в сельском хозяйстве. Рассмотрены области применения ЭВМ и микропроцессоров для проектирования, оптимизации и автоматизации электротехнологических процессов и оборудования. [24]
Дальнейшие перспективы совершенствования методов построения БИС на МДП транзисторах, ПЗС структурах и других типах активных элементов связаны с решением весьма сложных технологических задач. К ним относятся улучшение исходных материалов, совершенствование обработки полупроводниковых пластин для уменьшения числа неконтролируемых поверхностных состояний, освоение электронно-лучевой технологии для получения линий шириной около 1 мкм, создание методов формирования сплошных диэлектрических пленок окислов толщиной 20 - 40 нм, формирование диффузионных областей размером 0 5 мкм и др. Это позволит повысить плотность размещения элементов и быстродействие БИС примерно на порядок, уменьшить мощности, необходимые для работы запоминающих схем, до уровня десятков нВт / бит, расширить возможности цифровых систем до уровня, обеспечивающего решение сложных логических задач. [25]
Главной проблемой технологии микроэлектронного производства является создание рисунка топологии. Уменьшение размеров рисунка, созданного оптическими методами, ограничено Змкм из-за влияния дифракции света. Поэтому в настоящее время применяется электронно-лучевая технология создания рисунка. Ускоряющее напряжение электронного луча обычно составляет 20 кВ и выше. Так как длина волны электрона менее 1 нм, то явление дифракции электронного луча не влияет на создание рисунка. Однако при непосредственном облучении пленки ре-зиста электронным лучом электроны, прошедшие через пленку резиста, попадают в подложку, рассеиваются в ней и возвращаются обратно в пленку. Этот эффект, называемый обратным рассеянием электронов, снижает точность размеров рисунка. Так, например, для двух близко расположенных элементов рисунка эффекты обратного рассеяния каждого из этих элементов складываются, что приводит к так называемому эффекту близости-соседние элементы рисунка смыкаются в результате размытия их кромок. В настоящее время с помощью электронного луча получают элементы с размерами до 0 25 мкм. [26]
ИЦ на предприятиях Миннефтегазстроя в самое ближайшее время будет свариваться до 60 % стыков всех трубопроводов. Срок изготовления сложного оборудования не превышает сегодня двух лет. Не менее интересен опыт ИЦ электронно-лучевой технологии, отвечающего за внедрение в народное хозяйство новых технологий и материалов, полученных на базе исследований физико-химических закономерностей электронно-лучевой плавки и испарения неорганических материалов в вакууме. Внедрение результатов этих работ на 40 предприятиях дало экономический эффект ( учитывая долевое участие ИЦ) более 10 млн. руб. Наряду с внедрением законченных разработок Центр оказывает промышленным предприятиям необходимую консультативную и техническую помощь. [27]
Многокомпонентные покрытия CoCrAlY, NiCrAlY, NiGoGrAlY наносились на образцы с применением электронно-лучевой технологии со скоростью конденсирования 2 мкм / мин. [28]
На основании разработок ИЦ на предприятиях Миннефтегазстроя в самое ближайшее время будет свариваться до 60 % стыков всех трубопроводов. Срок изготовления сложного оборудования не превышает сегодня двух лет. Не менее интересен опыт ИЦ электронно-лучевой технологии, отвечающего за внедрение в народное хозяйство новых технологий и материалов, полученных на базе исследований физико-химических закономерностей электроннолучевой плавки и испарения неорганических материалов в вакууме. [29]
В конструкцию электронной пушки обычно входит также отклоняющая система 5, служащая для перемещения электронного луча по обрабатываемой поверхности. Перемещение луча осуществляется вследствие его взаимодействия с лоперечным магнитным полем, создаваемым отклоняющей системой. Обычно для этой цели электронная пушка имеет две пары отклоняющих катушек, обеспечивающих перемещение луча по двум взаимно перпендикулярным направлениям. При питании отклоняющих катушек током определенной частоты и амплитуды можно получить практически любую траекторию перемещения электронного луча по обрабатываемой поверхности, что широко используется в электронно-лучевой технологии. [30]