Толщина - фосфатная пленка - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Длина минуты зависит от того, по какую сторону от двери в туалете ты находишься. Законы Мерфи (еще...)

Толщина - фосфатная пленка

Cтраница 1


Толщина фосфатной пленки колеблется от 7 - 8 до 40 - 50 мкм и зависит от вида механической обработки, способа пол готовки поверхности к покрытию, а также от состава раствора и режима фосфатирования.  [1]

Толщина фосфатной пленки колеблется от 7 - 8 до 40 - 50 мк и зависит от вида механической обработки, способа подготовки поверхности к покрытию, а также от состава раствора и режима фосфатирования.  [2]

Толщина фосфатной пленки колеблется от 7 - 8 до 40 - 50 мкм и зависит от вида механической обработки, способа подготовки поверхности к покрытию, а также от состава раствора и режима фосфатирования.  [3]

Толщина фосфатных пленок зависит от размеров кристаллов и контролируется теми же Факторами, которые оказывают влияние на рост кристаллов. Составляющие пленку кристаллы растут до взаимного смыкания, затем доступ раствора к поверхности прекращается и рост пленки прекращается. В отличие от гальванических покрытий, дальнейшее наращивание толщины после завершения процесса роста пленки при фосфатировании методом погружения не осуществимо.  [4]

Толщина фосфатных пленок может изменяться в весьма широких пределах: от долей микрометра до 100 мкм и болееШа бпл оказывает влияние состав металла и особенно способ обработки его поверхности, режим фосфатирования, а также природа и концентрация первичных фосфатов и ускоряющих добавок.  [5]

Толщина фосфатной пленки составляет в среднем 5 - 8 мкм.  [6]

Толщина фосфатных пленок, полученных при 85 С в течение 10 мин, составляет 6 мкм. Для деталей с жесткими допусками оксидное фосфатирование можно производить при 73 - 78 С в течение 3 - 5 мин. Коррозия фосфатных пленок, образующихся при 80 - 85 и 73 - 78 С, при неполном погружении в воду наступает соответственно через 9 - 12 и 6 сут.  [7]

Толщина фосфатной пленки, образующейся пр н 85 С в течение 10 мин, составляет-6 мкм. Для стальных деталей с жесткими допусками оксидное фосфатирование разрешается производить при 73 - 78 С в течение 3 - 5 мин. При этом образуется мелкокристаллическая пленка с удовлетворительными защитными свойствами: при испытании в водопроводной воде ( неполное погружение) коррозия стали наступает через - 6 сут.  [8]

Толщина фосфатной пленки, образующейся при 85 С в течение 10 мни, составляет - 6 мкм.  [9]

Толщина фосфатной пленки, образующейся при 85 С в течение 10 мни, ссставляет - - 6 мкм.  [10]

Толщина фосфатной пленки не оказывает значительного влияния на изменение-размеров фосфатируемых деталей, так как при образовании пленки происходит только некоторое растворение поверхностного слоя металла.  [11]

Толщина фосфатной пленки зависит от режима фосфа-тирования и может достигать 20 мк. Фосфатная пленка хорошо прирабатывается и притирается.  [12]

Исследования показали, что на процесс сварки и качество сварного шва оказывает влияние толщина фосфатной пленки. Образующаяся при обычном ( горячем) способе фосфатирования фосфатная пленка с бпл 20 - 30 мкм, а также пленка от фосфорной кислоты, способствуют возникновению пор в сварном шве, а поверхность последнего имеет побитость. Получающаяся при холодном фосфа-тировании пленка с бпл 8 - 40 мкм не вызывает видимых изменений качества сварного шва и не оказывает существенного влияния на процесс сварки.  [13]

В последние годы в фосфатирующие растворы вводят полифосфаты, добавка которых в количествах 200 - 300 мг / л снижает шламообразование, толщину фосфатной пленки и, соответственно, расход реактивов140 148 за счет способности полифосфатов прочно связывать ионы двухвалентных металлов в растворимые комплексы. В результате гидролиза полифосфаты переходят в ор-тофосфаты, поэтому их необходимо непрерывно добавлять в раствор так же, как и нитрит натрия.  [14]

Толщина фосфатных пленок зависит от режима и состава раствора, а также от способа подготовки поверхности обрабатываемых изделий. На стальной полированной поверхности в обычных растворах образуются мелкокристаллические пленки толщиной 2 - 5 мкм, па шероховатой поверхности - пленки с крупнокристаллическим строением толщиной 10 - 15 мкм. Фосфатные покрытия не смачиваются расплавленным металлом, что позволяет использовать их в металлургии и машиностроении. Хорошие электроизоляционные св-ва дают возможность использовать фос-фатированные изделия в электропромышленности и приборостроении.  [15]



Страницы:      1    2