Толщина - диффузная часть
Cтраница 4
 |
Потенциальная энергия взаимодействия между двумя одинаково заряженными частицами. [46] |
С увеличением концентрации любого электролита происходит перестройка двойного электрического слоя, окружающего коллоидные частицы: все большая часть противоионов вытесняется из диффузной в адсорбционную часть двойного электрического слоя. Толщина диффузной части двойного электрического слоя ( слой 4 на рис. 101), а вместе с ней и всего двойного электрического слоя ( слой 2 на рис. 101) уменьшается. [47]
Остальная часть противоионов составляет диффузный слой, в котором концентрация ионов по мере удаления от поверхности коллоидной частицы постепенно убывает. Толщина диффузной части двойного электрического слоя зависит от полярности дисперсионной среды и от природы и - концентрации находящихся в ней электролитов. [48]
С увеличением концентрации любого электролита происходит перестройка двойного электрического слоя, окружающего коллоидные частицы: все большая часть противоио-нов вытесняется из диффузной в адсорбционную часть двойного электрического слоя. Толщина диффузной части двойного электрического слоя ( слой 4 на рис. 10.14), а вместе с ней и всего двойного электрического слоя ( слой 2 на рис. 10.14) уменьшается. В результате этого потенциальный барьер отталкивания ( J5MaKC) уменьшается и смещается в сторону меньшего расстояния между коллоидными частицами. Когда двойной электрический слой сжимается до толщины адсорбционного слоя ( слой 3 на рис. 10.14), то вся кривая взаимодействия дисперсных частиц оказывается в области притяжения ( кривая 4 на рис. 10.17), наступает быстрая коагуляция. Такое измерение устойчивости коллоидного раствора происходит при добавления любого электролита. [49]
При изображении градиента потенциала на рис. 125 было сделано предположение, что, несмотря на изменение концентрации и природы электролита, эффективная толщина двойного слоя остается постоянной. Однако толщина диффузной части двойного слоя, очевидно, уменьшается при увеличении концентрации ионов в растворе, особенно в случае ионов высокой валентности. [50]
Ур-ние ( 6) учитывает особенности искажения силовых линий вблизи частицы. С увеличением толщины диффузной части ДЭС скорость электрофореза начинает сложным образом зависеть от отношения дебаевского радиуса в электролите к диаметру частицы. [51]
В этом ур-нии учитываются особенности искажения силовых линий электростатич. С увеличением толщины диффузной части ДЭС скорость электрофореза начинает зависеть от отношения дебаевского радиуса к диаметру частицы. В общем случае эта зависимость имеет довольно сложный характер. [52]
Изменение исходной концентрации ионов магния в поровом растворе суглинка в ту или иную сторону приводит к снижению интенсивности электрохимической миграции. Это обусловлено зависимостью толщины диффузной части ДЭС, структуры и агрегированности грунтов от концентрации порового раствора. Данные показатели определяют скорость электроосмотической миграции и ее вклад в суммарный процесс электрохимического массопереноса. [53]
Толщина диффузной части двойного электрического слоя зависит от концентрации раствора и уменьшается с увеличением концентрации. В очень разбавленных растворах толщина диффузной части составляет примерно 1Q - 6 м, в достаточно концентрированных растворах толщина диффузного слоя уменьшается, толщина двойного электрического слоя приближается к толщине его плотной части, а изменение потенциала в двойном электрическом слое приближается к скачку потенциала в плотной его части. [54]
Страницы: 1 2 3 4