Cтраница 1
![]() |
Совмещение подложки и ИМС с жесткими выводами. [1] |
Точность совмещения на подложке при монтаже методом перевернутого кристалла зависит от типа ориентирующей системы. [2]
Точность совмещения может быть проконтролирована и другим методом, который основан на последовательном экспонировании на одну подложку двух совмещенных фотошаблонов; причем изображение первого фотошаблона проявляется неполностью, а только до появления серых тонов, достаточно различимых при работе на установке совмещения. [3]
![]() |
Виды фигур совмещения. [4] |
Точность совмещения является основным параметром этих установок. От точности совмещения модулей фотошаблонов на операциях фотолитографии зависит качество и выход годных полупроводниковых приборов, особенно в тех случаях, когда размеры элементов микросхемы составляют единицы микрон. [5]
Точность совмещения шкалы с изображением предмета проверяется методом параллакса. В том случае, когда изображение предмета действительно лежит в плоскости окулярной шкалы, небольшие боковые смещения глаза не приводят к сдвигу шкалы относительно предмета. Если это не так, положение тубуса слегка регулируется винтом точной наводки до устранения параллакса. [6]
Точность совмещения изображений окулярной и объектной шкал проверяется методом параллакса. [7]
На точность совмещения влияет контраст изображения и его освещенность, постоянство освещенности, параллакс изображения, утомление наблюдателя. [8]
Поэтому точность совмещения фотошаблонов может быть относительно невысокой. Кроме того, окно для базовой диффузии в фотошаблоне может иметь значительные размеры, охватывая базовые области нескольких транзисторов, разделенных окислом. [9]
Повышение точности совмещения перед экспонированием на кремниевых пластинах достигается за счет автоматизации и исключения таким образом субъективных ошибок человеческого глаза. Для этого установки совмещения и экспонирования снабжают фотоэлектрическими микроскопами, обеспечивающими точность совмещения 0 1 мкм по линейным координатам и 5 по углу. [10]
Требования к точности совмещения возрастают с уменьшением линейных размеров элементов и схем. Чем тоньше прорези в трафаретах, тем быстрее нарастает на них слой напыляемого материала, в результате чего требуется частая чистка, а в отдельных случаях и замена трафаретов. [11]
![]() |
Общий вид передающей стерео - приблизительной оценки его количества в промежуточном ковше. Для значительного уменьшения габаритов в камере размещены только. [12] |
В результате точность совмещения объектов, находящихся в одной плоскости, перпендикулярной к оси камеры, составляет 1 - 3 мм. [13]
Чем определяется точность совмещения динамических и статических данных на экране. [14]
Принцип контроля точности совмещения по шаблону состоит в совмещении печатного слоя с шаблоном по единым технологическим базам и контроле наличия или отсутствия просвета между краем контрольного отверстия и краем контактной площадки слоя. Совмещение внутренних слоев МПП будет обеспечено, если контактные площадки полностью закроют контрольные отверстия шаблона. [15]