Cтраница 3
Катодное травление, основанное па механическом и химическом влиянии водорода на слой окислов, очень редко применяют при травлении стали и ее сплавов из-за значительного насыщения водородом травимых заготовок. В качестве анода в этом процессе применяют свинцовые или чугунные плиты с большим содержанием кремния. Обычно после окончания катодного травления заготовки в течение короткого периода подвергают анодному травлению для удаления с поверхности случайно попавшего постороннего металла. [31]
Катодное травление происходит за счет бурного выделения на катоде газообразного водорода и механического отрыва им окислов. Хорошие результаты получаются только при травлении нелегированных сталей. [32]
Катодное травление основано на электрохимическом восстановлении оксидов железа и их отделении от металла выделяющимся в большом количестве водородом. При этом следует учитывать возможность наводороживания изделия и появления хрупкости, так что для коррозионно-стойких сталей этот способ неприменим. [33]
Катодное травление стальных изделий по способу Буллард-Дана применяется на автозаводе им. Сталина ( Москва), где весь процесс травления автоматизирован. [34]
Катодное травление рельефных изделий, имеющих толстый слой окалины, является длительным процессом, зачастую сопровождающимся неравномерностью травления. [35]
Для катодного травления применяются аноды из нерастворимого кремнистого чугуна, плотность тока 6 - 8 а / дм2, время выдержки 3 - 10 мин. [36]
Для катодного травления применяются аноды из нерастворимого кремнистого чугуна, плотность тока DK 8 а / дм2, время выдержки 3 - 10 мин. [37]
Недостатком катодного травления может быть наводорожива-ние металла, что способствует появлению хрупкости. [38]
![]() |
Скорость катодного травления пленок в тлеющем разряде по Тсуи. [39] |
Метод катодного травления в ВЧ тлеющем разряде имеет и свои недостатки. По данным, приведенным на рис. 18 и в табл. 13, скорость катодного травления защитного покрытия фоторезиста колеблется в широких пределах, а в целом ее величина превышает скорости травления большинства других материалов. Поэтому защитные покрытия должны быть существенно толще пленки, подвергаемой травлению. Скорость катодного травления фоторезистов сильно зависит от температуры подложки, особенно при ее увеличении, и от присутствия остаточных газов. [40]
Процесс катодного травления исключает опасность перетравливаниж металла, но при этом выделяющийся на изделиях водород частично проникает в поверхность металла и делает его хрупким. [41]
После катодного травления на поверхности шлифа не образуется никаких поверхностных пленок, поэтому указанный метод можно применять для металлографического и особенно электронномикроскопического исследования сплавов. [42]
![]() |
Составы электролитов и режимы травления легированной стали. [43] |
После катодного травления изделия должны прогреваться в течение 2 - 3 час. [44]
При катодном травлении происходит восстановление и механический отрыв окислов металла выделяющимся водородом. В зависимости от обрабатываемого металла применяют электролиты, содержащие и серную, и соляную кислоты. [45]