Увеличение - скорость - испарение
Cтраница 3
Обоснованы конструктивные особенности аппаратов для испарения жидкости и реакционных гетерофазных процессов на основе обнаруженного эффекта увеличения скорости испарения жидкости в СВЧ - поле при помещении в обрабатываемую среду аккумулирующих излучение твердых веществ-термотрансформаторов, обеспечивающих подвод энергии с равномерным распределением ее в объеме. [31]
При испарении жидкости из открытого сосуда ( в закрытом сосуде пары через некоторое время становятся насыщенными) увеличению скорости испарения способствует движение газа над свободной поверхностью. Поток газа уносит молекулы испарившейся жидкости, уменьшая вероятность конденсации. Испарение проходит тем быстрее, чем больше площадь открытой поверхности жидкости. [32]
В условиях [27] увеличение потока пара с поверхности металла увеличивает плотность пара вблизи зоны воздействия электронного луча, а увеличение скорости испарения металла определяется увеличением температуры поверхности металла. Таким образом, увеличение температуры металла увеличивает плотность парового облака. Изменение плотности парового облака определяется конкуренцией двух процессов: скоростью накопления пара в облаке за счет испарения металла и столкновений атомов в паре и скоростью рассасывания облака за счет оттока пара на периферию. Предположим, что скорость оттока пара на периферию зависит от плотности пара. [33]
Если же применять вакуум 10 - 5 мм рт. ст., то для получения того же соотношения следует перегревать испаряемый материал с целью увеличения скорости испарения. [34]
В работах Райхбаума и Костюковой [68, 74] показано, что скорость испарения примесей влияет на коэффициент использования паров ( f): по мере увеличения скорости испарения и повышения струйности течения паров атомы концентрируются у оси электрода и f растет. [35]
Например, при отжиге в интервале температур 0 75 - 0 8 Тпл и при степени разрежения 1 10 - 4 мм рт. ст. в наших опытах происходило разрушение окисной пленки, приводящее к повышению диффузной подвижности атомов на поверхности и увеличению скорости испарения. [36]
 |
Зависимость полноты испарения конденсата от относительного его расхода на испарительное оклажде. [37] |
При относительном расходе конденсата на испарительное охлаждение йГВпР0 015 кг / кг сухого воздуха ( кривая 2, рис. 77) наблюдается более интенсивное снижение температуры нагнетаемого воздуха с повышением степени повышения давления, так как при этом рост температуры воздуха оказывает большее влияние на увеличение скорости испарения капель спектра распы-ливания конденсата, чем повышение давления, способствующее замедлению скорости испарения. [38]
 |
Распределение радия после медленного осаждения хлорида бария из растворов, пересыщенных вначале до одинаковой степени. [39] |
Из результатов опытов видно также, что значение X зависит от скорости испарения; это указывает на то, что не достигается полного равновесия между поверхностными слоями осадка и раствором. Увеличение скорости испарения не обязательно приводит к уменьшению значения X. Мумбрауер [ М40 ], например, нашел, что для системы нитрат бария - нитрат радия значение X составляет 1 25, если испарение совершается медленно при 17 С. [40]
Увеличения скорости испарения можно достичь также повышением степени разрежения, так как и в этом случае увеличивается разность температур между теплоносителем и материалом. [41]
 |
Зависимость константы скорости испарения растворителя Ъ от температуры t.| Зависимость константы скорости испарения растворителя b от концентрации паров растворителя над жидкой пленкой с. [42] |
Скорость испарения растворителя оказывает влияние на температурный профиль усадки мембран для отжига и полученные при этом эксплуатационные характеристики. С увеличением скорости испарения проницаемость мембран снижается при одной и той же селективности. [43]
Малая скорость испарения ряда металлов приводит к образованию пленок аморфной структуры. С увеличением скорости испарения пленки приобретают кристаллическую структуру. [44]
Емкость, тангенс диэлектрических потерь и стабильность пленочных конденсаторов сильно зависят от условий испарения. При увеличении скорости испарения обычно происходит частичное разложение окисла с выделением чистого металла. В связи с этим увеличивается проводимость диэлектрика и тангенс диэлектрических потерь конденсатора. [45]
Страницы: 1 2 3 4