Cтраница 1
Поверхностное скрытое изображение обнаруживает более сильное отклонение от взаимозаместимости при высоких освещенностях, чем внутреннее или суммарное скрытое изображение. [1]
Поверхностное скрытое изображение образуется только в сравнительно совершенных несенсибилизированных кристаллах; в этом случае образуется весьма незначительное внутреннее скрытое изображение. [2]
Регрессия поверхностного скрытого изображения, определенная физическим проявлением. [3]
Сенситометрическая характеристика поверхностного скрытого изображения, созданного при температуре - 186, сильно изменяется с типом эмульсии. [4]
Эффективность разрушения поверхностного скрытого изображения окисляющим раствором контролировалась путем проявления экспонированных и окисленных пластинок в поверхностном проявителе при стандартном времени проявления; во всех случаях проявления не наблюдалось или оно было весьма незначительно. [5]
Теория образования поверхностного скрытого изображения, предложенная Митчеллом [10-15], является, с другой стороны, теорией взаимодействия как дырок, так и электронов с группами атомов и молекул, введенными при химической сенсибилизации. Согласно Митчеллу [10], серебро, переходящее в скрытое изображение во время освещения, присутствовало в галоидосеребряном микрокристалле еще до освещения, а эквивалентное количество брома было удалено при химической сенсибилизации. [6]
Химической природы внутреннего и поверхностного скрытого изображения, находится в кажущемся противоречии с результатами работы, описанными в статье 22 и обнаружившими различие их свойств в чистом золе бромистого серебра. [7]
Следовательно, регрессия поверхностного скрытого изображения, протекающая после освещения, определенно не обусловлена действием брома. Это, конечно, не означает, что в отдельных случаях регрессия не может вызываться бромом. [8]
Напротив, для поверхностного скрытого изображения характерно отсутствие бромной регрессии при условии достаточного уровня акцептирования брома окружающей средой. [9]
Автор полагает, что поверхностное скрытое изображение образуется по двум механизмам. [10]
Рассмотрим две теории образования поверхностного скрытого изображения в химически сенсибилизированных эмульсионных микрокристаллах. [11]
Рассмотрим возможные механизмы образования поверхностного скрытого изображения в химически сенсибилизированных кристаллах. Сенсибилизация восстановителями увеличивает чувствительность кристаллов к образованию как поверхностного, так и внутреннего скрытых изображений. [12]
Возможно, что процесс образования поверхностного скрытого изображения в золе протекает не до конечной фазы чистого элементарного серебра, а останавливается на скоропроходя-щей стадии, которую можно рассматривать как коллоидное серебро. [13]
В данном случае опять-таки наличие поверхностного скрытого изображения не может вызвать никаких осложнений, поскольку внутренняя светочувствительность значительно превышает поверхностную. [14]
Исходя из этих механизмов образования поверхностного скрытого изображения, объясняющих увеличение чувствительности с помощью различных методов химической сенсибилизации, можно предположить, что два последовательных события не могут произойти в одной и той же точке поверхности кристалла, так как на поверхности каждого деформированного участка имеется большое число эквивалентных мест. [15]