Установка - совмещение
Cтраница 1
 |
Установка контактного совмещения и экспонирования ЭМ-517.| Установка совмещения и экспонирования ЭМ-512А. [1] |
Установка совмещения и экспонирования ЭМ-517 ( рис. 48) предназначена для изготовления пленочных микросхем методом фотолитографии. Применение метода совмещения по механическим базам повышает производительность и облегчает условия труда. [2]
 |
Виды установок экспонирования. [3] |
Установка совмещения шаспекеО при мунь типРика - ции преекц, тина с уменбшея. [4]
 |
Процессы фотолитографии, используемые при производстве полупроводниковых ИС. [5] |
Такая установка называется установкой совмещения и экспонирования. [6]
В табл. 26 приведены основные характеристики установок совмещения и экспонирования. [7]
 |
Отметки совмещения. [8] |
При фотолитографии второго и последующего слоев в установке совмещения и экспонирования производят совмещение отметок фотошаблона непосредственно с отметками на предыдущем слое. [9]
 |
Виды фигур совмещения. [10] |
Совмещение, прижим и экспозиция осуществляются на установках совмещения. [11]
 |
Принципиальная оптическая схема установки проекционного совмещения и экспонирования. [12] |
Проекционная фотолитография с реализацией больших полей изображения преимущественно применяется в установках совмещения. [13]
 |
Способы совмещения выводов с контактными площадками. [14] |
Вторичная ориентация кристалла ( совмещение выводов с контактными площадками) происходит непосредственно на установке совмещения. При этом кристалл захватывается инструментом-присосом из кассеты. [15]
Страницы: 1 2