Cтраница 3
Чем выше валентность стабильного иона и его концентрация, тем большие помехи создаются для адсорбции радиоактивных изотопов. Поэтому растворы, направляемые на очистку с помощью глины, не должны содержать алюминий, цирконий и другие катионы в заметных концентрациях. [31]
На основании изложенного представления о строении двойного электрического слоя была предложена классификация возможных видов адсорбции радиоактивных изотопов. Первым процессом, приводящим к адсорбции радиоактивных изотопов, является кинетический обмен ионами между поверхностью кристалла и раствором. Если в растворе были ионы, могущие входить в поверхностный слой кристаллической решетки осадка, то в результате такого обмена часть этих ионов перейдет в поверхностный слой кристалла. Этот вид адсорбции является первичной обменной адсорбцией. Процесс кинетического обмена между поверхностью кристалла и раствором приводит также к отклонению состава поверхностного слоя от стехиометрического соотношения и, следовательно, к образованию свободного электрического заряда на поверхности кристалла. [32]
В качестве примера можно привести исследования Курбатова с сотрудниками [ 18В ], посвященные изучению адсорбции двухвалентных радиоактивных изотопов Sr, Ba, Ra, Co на осадке гидрата окиси железа. Постановка его опытов страдает рядом недостатков, поэтому количественная интерпретация полученных результатов затруднена, но адсорбция Sr и Ва на осадке гидрата окиси железа является несомненным фактом. [33]
В качестве примера можно привести исследования Курбатова с сотрудниками [ 15в ], посвященные изучению адсорбции двухвалентных радиоактивных изотопов Sr, Ba, Ra, Co на осадке гидрата окиси железа. Постановка его опытов страдает рядом недостатков, поэтому количественная интерпретация полученных результатов затруднена, но адсорбция Sr и Ва. Следует отметить, что авторы сами не придерживаются какой-либо определенной точки зрения на механизм изучаемых процессов и ограничиваются в отдельных работах полуэмпири-чегкими формулами, но качественно им удалось показать зависимость адсорбции от ряда факторов, в том числе рН раствора, концентрации радиоактивного изотопа, концентраций посторонних солей и др. Общий характер захвата радиоактивных изотопов гидратными осадками в зависимости от перечисленных факторов напоминает закономерности вторичной обменной адсорбции на полярных кристаллах. [34]
Исходя из этого положения, авторы считали, что присутствие солей может оказать влияние на адсорбцию радиоактивных изотопов лишь в том случае, если те и другие вещества находятся в идентичном состоянии. Так как соли в водном растворе находились в ионном состоянии, то в том же состоянии должны были находиться и исследуемые радиоактивные изотопы. Эти данные также, казалось, подтверждали указанное выше предположение об ионном состоянии радиоактивных изотопов в растворе. [35]
Наряду с изучением закона распределения ряд исследований был посвящен: состоянию микроколичеств радиоактивных изотопов в растворах, адсорбции радиоактивных изотопов, электрохимии радиоактивных изотопов, эманированию, разработке методов радиохимического анализа. [36]
При использовании пористой диафрагмы ошибки, связанные с влиянием конвекции, уменьшаются, однако появляется возможность серьезного искажения результатов из-за адсорбции радиоактивных изотопов на сильно развитой поверхности диафрагмы. [37]
Присутствие в растворе посторонних ионов и хорошо адсорбирующихся поверхностью осадка веществ влияет на ход адсорбции, изменяет величину и даже знак заряда поверхности, что может способствовать или подавлять адсорбцию радиоактивных изотопов из раствора. [38]
Одним из самых распространенных адсорбентов является стекло, гидратированная поверхность которого, содержащая крем-некислотные группы, может удерживать самые разнообразные радиоактивные изотопы за счет первичной и вторичной адсорбции. Адсорбция радиоактивных изотопов стеклом зависит от сорта и предварительной обработки стекла, а также от состава раствора, содержащего радиоактивный изотоп. Это нетрудно проследить на примере захвата стеклом 32Р в виде фосфат-иона. [39]
Для адсорбции радиоактивных изотопов Кольтгофом [19 20], Фервеем [21 22] и Ратнером [23] были предложены классификации, основанные на разграничении видов адсорбции по местонахождению сорбированных ионов, которые могут находиться в поверхностном слое кристаллической решетки или в растворе у границы раздела. Адсорбционные силы в этих двух случаях различны, и соответственно следует различать эти два вида адсорбции. В первом случае адсорбированные ионы дегидратируются и входят в состав кристаллической решетки адсорбента, и этот вид адсорбции называется первичной. Во втором случае адсорбированные ионы остаются в растворе, не входят в кристаллическую решетку адсорбента, и этот вид адсорбции называют вторичной. [40]
Кроме того, при работе с малыми количествами радиоактивных изотопов адсорбция на фильтрах в процессе фильтрования раствора обусловливает подчас большие потери, искажающие результаты опытов. Поэтому изучение адсорбции радиоактивных изотопов на бумажных фильтрах в широких интервалах рН и в различных средах представляет не только один из методов изучения состояния радиоактивных изотопов в растворе, но также позволяет избежать больших ошибок в практической работе с радиоактивными изотопами. [41]
Псевдоколлоиды получаются в результате адсорбции радиоактивных изотопов на крупнодисперсных или коллоидных частицах загрязнений, находящихся в растворе, главным образом на коллоидных частицах кремневой кислоты, почти всегда имеющихся в растворах. [42]
На основании изложенного представления о строении двойного электрического слоя была предложена классификация возможных видов адсорбции радиоактивных изотопов. Первым процессом, приводящим к адсорбции радиоактивных изотопов, является кинетический обмен ионами между поверхностью кристалла и раствором. Если в растворе были ионы, могущие входить в поверхностный слой кристаллической решетки осадка, то в результате такого обмена часть этих ионов перейдет в поверхностный слой кристалла. Этот вид адсорбции является первичной обменной адсорбцией. Процесс кинетического обмена между поверхностью кристалла и раствором приводит также к отклонению состава поверхностного слоя от стехиометрического соотношения и, следовательно, к образованию свободного электрического заряда на поверхности кристалла. [43]