Cтраница 2
Остаточные газы осаждаются не только в процессе роста пленки, но и после прекращения осаждения, поскольку продолжается процесс адсорбции остаточного газа поверхностью пленки. [16]
Поэтому бомбардировка нарушает равновесие в адсорбционном процессе в сторону увеличения десорбции и не позволяет при работе катода молекулам остаточных газов адсорбироваться вблизи микровыступов на рабочей поверхности полиакрилонитрильного волокна, откуда преимущественно и происходит эмиссия. В режиме адсорбции молекулы остаточных газов тоже вначале адсобируются не на микровыступах, а в трещинах и в порах волокна, и лишь после заполнения трещин и пор молекулы могут располагаться вблизи микровыступов. Сказанное и объясняет то, что адсорбция остаточных газов слабо влияет на работу выхода электронов из ПАН-волокон. [17]
Важнейшей проблемой при разработке и эксплуатации криос-татов является их защита от вредных теплопритоков. Притоки тепла к термостатируемой полости обычно вызываются следующими причинами: излучением, теплопритоками вдоль тепловых мостов, теплопроводностью остаточного газа в вакуумной полости. Помимо этих основных причин, источниками тепловыделений может быть джоулево тепло в электропроводниках, теплота адсорбции остаточного газа, а в некоторых случаях даже механические вибрации. [18]
Рост монокристаллических пленок вообще связан со структурными лсфекгами, такими как дислокации, двойникова-ние и дефекты упаковки. Непосредственное наблюдение дает подробную информацию о природе и источниках таких дефектов. Эти сведения могут быть более подробными, если этот метод исследования совмещают с наблюдением муаровых картин, образовавшихся между пленкой и подложкой. В таких условиях адсорбция остаточных газов на подложке или на растущей пленке может оказывать основное влияние на характер зародышеобразования и рост тонких пленок. Следовательно, процесс жидкообразного срастания может быть подвержен влиянию остаточных газов, определяющих в значительной степени, окончательную структуру пленки. Это обусловливает необходимость электронно-микроскопических исследований в процессе роста пленок в условиях более высокого вакуума. Попа [252] и Вэлдре и др. [256] предложили видоизмененные камеры для образцов, в которых можно проводить осаждение в условиях сверхвысокого вакуума; о результатах их применения для изучения зародышеобразования и роста монокристаллических пленок не сообщалось. [19]
Как следует из рис. 3.15, а также и из других аналогичных изученных зависимостей, геометрия поверхности катода в целом сохраняется на протяжении всех циклов испытания, что дает нам право утверждать, что изменение тока обусловливается не изменением геометрии, а именно адсорбцией остаточных газов. Особый интерес вызывают случаи, когда катоды из волокна длительное время ( более 1 месяца) находятся при давлении Р 10 - мм рт. ст. Здесь первоначальное изображение в начале очередного рабочего периода после столь длительного периода адсорбции сильно отличается от изображения, полученного в конце предыдущего и текущего периода. Объяснением этому может служить то, что адсорбированные молекулы ориентированы таким образом, что прозрачность потенциального барьера увеличивается. Мы полагали, что адсорбция остаточных газов понижает работу выхода. В действительности возможно как ее уменьшение, так и ее увеличение. Например, полярная молекула воды может адсорбироваться как положительным, так и отрицательным концом диполя наружу; в первом случае работа выхода уменьшится, во втором - увеличится. [20]
К нижней части внутреннего сосуда припаяна адсорбционная камера 4, в которую загружается около 15 кг силикагеля КСМ. Пространство между кожухом и сосудом имеет ширину приблизительно 150 мм. Оно засыпается через специальные люки аэрогелем и после заварки люков вакуумируется до давления 0 3 - 0 5 мм рт. ст. При откачке внутренний сосуд подогревается воздухом до 370 К. После заполнения сосуда жидкостью давление снижается до 0 01 - 0 02 мм рт. ст. вследствие адсорбции остаточных газов, охлажденным силикагелем. [21]
К нижней части внутреннего сосуда припаяна камера 4, в которую загружается около 15 кГ силикагеля КСМ. Пространство между кожухом и сосудом имеет ширину приблизительно 150 мм. Оно засыпается через специальные люки аэрогелем и после заварки люков вакуумируется до давления около 1 мм рт. ст. При откачке внутренний сосуд подогревается паром или воздухом до 100 С. После заполнения сосуда жидким кислородом давление снижается до 0 02 - 0 04 мм рт. ст. за счет адсорбции остаточных газов охлажденным силикагелем. [22]