Возможность - легирование - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Если из года в год тебе говорят, что ты изменился к лучшему, поневоле задумаешься - а кем же ты был изначально. Законы Мерфи (еще...)

Возможность - легирование

Cтраница 2


То обстоятельство, что из ряда простейших синтетических шлаков можно осадить на катоде хром, марганец, кремний, алюминий, ванадий и другие элементы, указывает на возможность легирования металла без применения ферросплавов, а также получения последних электролизом жидких шлаков.  [16]

Низкая величина коэффициентов диффузии бора, фосфора, сурьмы и других легирующих примесей в двуокись кремния и связанная с этим маскирующая способность окисла при диффузии в кремний обусловили возможность очень точного локального легирования кремния.  [17]

К важным особенностям НК относятся не только их совершенная структура, выгодные геометрические размеры и форма роста в виде нити или узкой ленты с четкой кристаллографической огранкой и ориентацией, но и возможность легирования в процессе роста, позволяющая в широких пределах изменять их электрические, магнитные, оптические и другие свойства.  [18]

Примером пассивного керамического флюса является флюс марки КС-1, а сильно легирующего - КС-С. Достоинствами керамических флюсов являются: возможность легирования наплавленного металла в широких пределах, что особенно ценно при наплавке слоев с особыми свойствами, возможность при сварке малоуглеродистых и низколегированных сталей получения швов малочувствительных к порообразованию при попадании в сварочную ванну влаги и ржавчины, а также безокислительный характер некоторых флюсов, имеющий большее значение при сварке высоколегированных сталей.  [19]

Важным преимуществом этого способа является также возможность легирования металла свариваемого шва. Для этой цели применяется легированная сварочная проволока.  [20]

Для получения - гонких легированных слоев перспективны процессы ионного Легирования ( ионной имплантации), при к-рых введение примесных атомов в приповерхностный слой материала осуществляется путем бомбардировки соответствующими ионами с энергией 0т неск. Возможность введения практически любой примеси в любой П.м., низкие рабочие т-ры процесса, гибкое управление концентрацией и профилем распределения вводимой примеси, возможность легирования через диэлектрич. Однако в процессе ионного легирования генерируются собств. Поэтому для получения качеств, легированных слоев необходим последующий отжиг введенных дефектов. Отжиг проводят при т-рах существенно более низких, чем при диффузии ( для 81, напр. После отжига св-ва имплантированных слоев близки к св-вам материала, легированного до тех же концентраций традиц.  [21]

Достоинство метода: простота и воспроизводимость процесса; рост пленки осуществляется при температуре, значительно меньшей температуры плавления, что препятствует загрязнению пленки неконтролируемыми примесями; возможность точного легирования пленок в процессе их роста.  [22]

Она выполняется сплошной проволокой, порошковыми проволокой и лентой, имеет большую производительность ( до 5 кг / ч), лучшую равномерность по свойствам наплавленного металла по его сечению. Применение порошковых наплавочных материалов существенно повышает диапазон легирования. Особенно расширяется возможность легирования и уменьшается степень перемешивания основного и присадочного материалов благодаря применению специально изготовленной магнито-легирующей шихты.  [23]

По химическому составу флюсы различают в зависимости от содержания в них окислов и солей металлов. Для получения необходимых свойств флюса в него вводят и другие составляющие, например плавиковый шпат, а также окислы СаО, : Mg0, AljjOs, которые в сварочных условиях практически не реагируют с металлом. При большом содержании во флюсе МпО и SiC2 проявляется возможность легирования металла марганцем и кремнием, но одновременно и его окисление. Если это не соблюдается, то недопустимо возрастает окисление легирующих элементов в стали. Нежелательным может быть и дополнительное легирование металла кремнием и марганцем. Окислительные флюсы преимущественно применяют для сварки углеродистых и низколегированных сталей. Безокислительные флюсы содержат фториды CaFa, прочные окислы металлов и практически не имеют окислов кремния и марганца. Эти флюсы преимущественно используют для сварки высоколегированных сталей. Химическая активность флюса тесно связана с химическим составом металла, особенно проволоки. Флюсы различают также и по размеру зерен. Так, флюсы АН-348А, АН-26П имеют размер зерен 0 35 - 3 мм, флюсы АН-348АМ, ОСЦ-45М - - 1 6 мм, флюсы АН-22 и АН-26С - 0 35 - 4 мм. По строению частиц плавленые флюсы разделяют на стекловидные ( АН-348А, АН-348АМ, АН-22, АН-26С), пемзовидные ( АН-60) и кристаллические. В обозначении марки флюса буквы означают: М - мелкий, С - стекловидный, П - пемзовидный, СП - смешанный. Для автоматической сварки трубопроводов, резервуаров и других конструкций используют стекловидный флюс с размером зерен не более 2 5 - 3 мм и пемзовидный - с размером зерен не более 4 мм с проволокой диаметром не менее 3 мм. Для автоматической и полуавтоматической сварок проволокой диаметром 3 мм применяют стекловидный флюс с размером зерен не более 1 6 мм.  [24]

Так, например, процесс переноса носителей заряда в аморфном кремнии, осаждаемом посредством вакуумного испарения, и оптические свойства этого материала полностью определяются влиянием структурных дефектов, при наличии которых образуются состояния, локализованные в диапазоне энергий, соответствующем щели для подвижности. Поскольку в первых экспериментах по осаждению пленок аморфного кремния с помощью вакуумного испарения и ионного распыления получаемые образцы всегда содержали большое количество дефектов, сложилось мнение, что возможность легирования пленок аморфных полупроводников отсутствует. Основанием для такого вывода послужили экспериментальные данные, свидетельствующие о том, что в аморфном кремнии, создаваемом традиционными методами, в частности вакуумным испарением, высокая концентрация дефектов ( ненасыщенных связей) обусловливает настолько большую плотность локализованных состояний ( - 1020 см-3), что уровень Ферми занимает строго фиксированное и стабильное положение. Поэтому можно предположить, что именно водород, присутствующий в пленках a - Si: Н, осаждаемых в тлеющем разряде, существенным образом изменяет их свойства.  [25]



Страницы:      1    2