Cтраница 2
Такие изменения контраста связаны с тем, что определенные участки объекта попадают в отражающее положение, при этом интенсивность луча нулевого максимума существенно уменьшается, а дифрагированный луч задерживается апертурной диафрагмой. На рис. 149 это схематически изображено для кристаллического объекта, состоящего из блоков, несколько разориентированных по отношению друг к другу. [16]
![]() |
Построение линии равных значений степени колебательности, в плоскости параметров настройки, регулятора. [17] |
Значения со задаются в интервале частот, соответствующих участку РАФХ объекта, расположенному в третьем квадранте. [18]
При совмещенном способе монтажные работы выполняются одновременно на нескольких участках объекта, что позволяет расширить фронт работ и ускорить их выполнение. [19]
![]() |
Оптическая схема вычитания путем пространственной фильтрации поля двукратно экспонированной спеклограммы. 1-спеклограмма, 2 - экран с отверстием ( щелью, 3 - плоскость наблюдения, Л, Л, - линзы. [20] |
На практике это означает, что в изображении будут присутствовать только те участки объекта, которые отсутствовали во время одной из экспозиций или претерпели изменения за время между экспозициями. [21]
![]() |
Схема стенда для испытания насосов, работающих на жидких металлах и расплавах соли. [22] |
Увеличение при съемке подбирается таким образом, чтобы полная ширина кадра пленки соответствовала участку объекта, равному 3 мм. В качестве магнитострикционного вибратора используется резонансный вибратор с частотой 6 8 кгц. [23]
Выявление дефектов просвечиванием основано на неравномерном ослаблении рентгеновских или - лучей, проходящих через участки просвечиваемого объекта с различной толщиной и плотностью. Излучение, прошедшее через такие участки, вызывает почернение фотопленки, неравномерное свечение флюоресцирующего экрана или неодинаковый электрический ток в ионизационной камере, позволяя тем самым регистрировать наличие дефектов. [24]
Кроме Того, различные отражатели позволяют изменять направление лучей источника света, сосредоточить световой поток на определенных участках объектов съемки или, наоборот, использовать рассеянный свет источника. [25]
![]() |
Усилительное звено. 156. [26] |
Таким образом, пользуясь понятием элементарного звена, под которым в конкретных, практических случаях понимают как собственно элементарные участки объекта регулирования, так и объект регулирования в целом, можно достаточно подробно исследовать различные САР. [27]
![]() |
Изображение объекта получено методом обычной фотографии. [28] |
Существенно, что на каждую точку освещенной части фотопластинки наряду с опорной волной падают световые волны, рассеянные всеми участками объекта наблюдения. Поэтому любой участок голограммы содержит полную информацию о всем объекте наблюдения. [29]
Необходимо обратить внимание на то, что при малых углах оттенения слишком длинные тени затемняют структуру соседних участков, точнее, соседние участки объекта остаются неоттенен-ными и по-прежнему обладают малым контрастом, вследствие чего имеющиеся на них детали и мелкие частицы плохо различаются. [30]