Cтраница 3
В экспериментах по насыщению с образцами большого объема, расположенными, например, вдоль оси резонатора, напряженность СВЧ-поля в образце в разных его точках будет различная. Одни спины будут насыщаться, в то время как другие - нет. В большинстве случаев распределение СВЧ-поля HI внутри образца описывается функцией sin лх / а ( фиг. При этом фактор насыщения s содержит член sin2 их / а. Фактор заполнения, так же как и фактор насыщения, имеет наименьшую величину в верхней и нижней частях рабочей ампулы. Для достижения наилучших результатов следует использовать только треть или четверть ампулы около ее середины. [31]