Возрастание - напряженность - поле
Cтраница 3
При возрастании напряженности поля кривая релаксации при больших временах становится более крутой, приближаясь к простому экспоненциальному закону ехр - ( Г / т2)) - Более того, т2 изменяется как F-2 ниже Fc 104 В см 1 и как F - l выше Fc. Теория МПВ имеет дело с приведенным полем у eFa / 2kT, где а - длина повторяющегося звена полимера ( в ПТС а 4 9 А), ах - относительная концентрация ловушек. [31]
Если на диаграмме восприимчивость-энтропия провести линии постоянного магнитного поля, то оказывается, что в случае слабых полей у этих кривых обнаруживается максимум у. Этот максимум с возрастанием напряженности поля смещается в сторону более низких значений энтропии и уже для средних полей выходит за пределы экспериментально достижимой области. В случае хромовых квасцов при более высоких полях наблюдается еще второй максимум, однако природа этого максимума совершенно неясна, и здесь мы не будем на этом останавливаться. [32]
Вследствие этого должно наблюдаться быстрое увеличение зарядов облачных капелек, удельный заряд облачной воды может достигнуть ( 7 - н13) 10 - 7 Кл / кг. Коагуляция таких капелек может привести к возрастанию напряженности поля до пробивных значений. [33]
Указанная зависимость получена экспериментально для давления воздуха 760 мм рт. ст. при использовании плоских электродов с закругленными краями, которые создают поле, близкое к однородному. Таким образом, при уменьшении зазора происходит возрастание напряженности поля, вызывающего пробой. [34]
 |
Блок-схема прибора контроля разности скоростей нанесения пленок двух свидетелей. [35] |
Еще одним подтверждением зависимости скорости роста пленки от напряженности поля является следующее рассуждение. Предположим, что скорость роста пленки увеличивается с возрастанием напряженности поля. [36]
 |
Экранирующая одежда. [37] |
Под воздействием поля эти слабые связи нарушаются, возникает электронная проводимость и ткань приобретает свойства экрана. В принципе можно создать ткань, электропроводимость которой увеличивается с возрастанием напряженности поля. [38]
Если диполь находится в неоднородном поле, то силы Рм и Р () не равны и тогда, кроме момента М, на диполь действует равнодействующая сил Гм и р (), равная их разности. Очевидно, эта сила Р сообщает диполю поступательное движение в направлении возрастания напряженности поля. [39]
 |
Зависимость разности скоростей нанесения двух металлических пленок от времени. [40] |
Оказалось, что справедливым является последнее из предположений. Пленки, изготовленные в электрическом поле, характеризуются меньшей градиентной погрешностью, и, следовательно, скорость роста пленки убывает с возрастанием напряженности поля. [41]
Мы перечислили несколько факторов, которые могут быть ответственны за возрастание проводимости в сильных полях. Некоторые из них ( рост температуры, переброс зарядов, уменьшение барьера) начинают проявляться уже при относительно слабых полях, но они вызывают сравнительно малое увеличение а с возрастанием напряженности поля. Другие факторы ( увеличение ионизации при соударениях) проявляются при более сильных полях, но зато при наличии их проводимость растет быстрее. Для рассмотренных в данной статье явлений большее значение, оказывается, имеют первые из вышеназванных факторов. Если они не вызывают термического пробоя, то начинают действовать факторы второго рода, приводящие к пробою. [42]
Мы перечислили несколько факторов, которые могут быть ответственны за возрастание проводимости в сильных полях. Некоторые из пих ( рост температуры, переброс зарядов, уменьшение барьера) начинают проявляться уже при относительно слабых полях, но они вызывают сравнительно малое увеличение о с возрастанием напряженности поля. Другие факторы ( увеличение ионизации при соударениях) проявляются при более сильных полях, но зато при наличии их проводимость растет быстрее. Для рассмотренных в данной статье явлений большее значение, оказывается, имеют первые из вышеназванных факторов. Если они не вызывают термического пробоя, то начинают действовать факторы второго рода, приводящие к пробою. [43]
Она была получена на одном из четырех сферических монокристаллов, упоминавшихся в связи с фиг. D); как приложенное, так и измерительное поля были направлены параллельно кубическим осям. С возрастанием напряженности поля максимум восприимчивости быстро смещается в сторону более низких значений энтропии. Он исчезает уже при 8 эрстед, однако в области между 50 и 200 эрстед обнаруживается новый максимум. [44]
Она была получена на одном из четырех сферических монокристаллов, упоминавшихся в сняли с фиг. D); как приложенное, так п измерительное коля были направлены параллельно кубическим осям. С возрастанием напряженности поля максимум восприимчивости быстро смещается в сторону более низких значений энтропии. Он исчезает уже при 8 эрстед, однако в области между 50 и 200 эрстед обнаруживается новый максимум. [45]
Страницы: 1 2 3 4