Фотоокисление
Cтраница 2
Фотоокисление является основным процессом, вызываемым светом при эксплуатации резин в атмосферных условиях. Как и при-окислении эластомеров в отсутствие света, их светостойкость в значительной степени зависит от ненасыщенности молекулы. По убывающей скорости фотоокисления эластомеры можно расположить в ряд, который качественно совпадает с уменьшением содержания двойных связей: НК, бутадиеновый бутадиен-стирольный бутилкаучук полиизобути-лен. Бутилкаучук, однако, менее стоек к действию света, чем следовало ожидать в соответствии с его малой ненасыщенностью. По скорости поглощения кислорода ( рис. 1.2) растворами каучуков ( кинетические параметры этого процесса отличаются от параметров их окисления в твердой фазе) каучуки можно расположить в следующий ряд: НКСКБ, БСКБ. Значительной светостойкостью характеризуются резины из фтор - и силоксановых каучуков. [16]
 |
Кинетика фотоокисления элементо. [17] |
Фотоокисление перечисленных выше соединений без растворителя и в н-нонане изучалось в интервале температур от - 30 до 40 С для гексаэтилдиолова, от 20 до 80 С для тетраэтил-олова и от 0 до 60 С для тетраэтилсвинца. [18]
Фотоокисление гидробромида ( - - -) - 3-метокси - М - метил-морфинана ( LXXXIII) [ торговое название гидробромида - ромилар ( Roche) ] можно заметить уже при стоянии водных растворов этого вещества на дневном свету благодаря постепенному появлению интенсивной желтой окраски. Продукт окисления выделил Хефлингер с сотрудниками [97] примерно с 10 о-ным выходом. [19]
Фотоокисление тетрахлорэтилена проводят в установке, описанной на стр. В колонку загружают 100 г ( 0 6 М) тетрахлорэтилена, нагревают его до кипения ( 120) и пропускают кислород со скоростью 100 мл / мин при одновременном облучении реакционной жидкости ртутно-кварцевой лампой ПРК-7 с рефлектором, установленной на расстоянии 15 см от реакционного сосуда ( см. примечание 2); интенсивность облучения 116.101 С квант / мин. [20]
Фотоокисление тетрахлорэтилена проходит более медленно, чем трихлорэтилена. Максимальный выход трихлорацетилхлорида ( 80 %) достигается через б часов, Так как температуры кипения трихлорацетилхло-рида ( 118е) и тетрахлорэтилена ( 120 - 121) близки, ати вещества трудно разделить фракционной разгонкой, и для получения чистого трихлорацетилхлорида реакцию проводят до полного окисления тетрахлорэтилена. [21]
Фотоокисление аценов впервые наблюдалось на примере рубрена XVI, образующаяся перекись имеет эндо-циклическую структуру XVII. Замечательным свойством этой перекиси является ее способность диссоциировать при нагревании на кислород и рубренм. При фотоокислении дифенилантрацена была лолучена перекись XVIII, также способная к диссоциации. [22]
Фотоокисление цитохрома / происходит только на свету, поглощаемом ФС /, т.е. СЫ я / в красных водорослях. [23]
Фотоокисление полимеров представляет собой сложную совокупность, физических и химических процессов, протекающих в полимере под действием света. Анализ всех возможных элементарных реакций фотоокисления пропилена, проведенный Шляпиптохом [16], показал, что этот процесс представляет собой цепную реакцию с вырожденным фоторазветвлением на гидроперекиси и с квадратичным обрывом цепи. [25]
 |
Зависимость содержания золь - ( / и гель-фракции ( 2 от продолжительности облучения для пленки толщиной 12 мкм при фотоокислительной деструкции и поли-2 6-диметил - 1 4-фе-ниленоксида. [26] |
Фотоокисление поли-2 6-диметил - 1 4-фениленоксида при облучении УФ-лампой сопровождается деструкцией или структурированием полимера. При этом молекулярная масса неструктурированной части полимера уменьшается. [27]
Фотоокисление полипропилена протекает по цепному механизму с квадратичным обрывом цепи и вырож-денным фоторазветвлением на гидропероксиде. [28]
Фотоокисление хлорэтанов достаточно хорошо изучено. [29]
Фотоокисление полиолефинов развивается ( при невысокой температуре, когда гидроперекиси термически устойчивы) как цепная фотовырожденная реакция, в которой образующиеся при окислении карбонильные и гидроперекисные группы увеличивают скорость фотоинициирования. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5