Фотосшивание
Cтраница 2
Иногда же изменение свойств полимеров под действием света происходит в нужном направлении. Такая модификация часто имеет место при фотосшивании. [16]
Процесс деформации эластомеров под длительным действием ультрафиолетового излучения ( рис. 4.6) протекает с затуханием. Одной из причин затухания фотодеструкционных процессов в эластомерах является реакция фотосшивания. [18]
В настоящем сообщении изложены результаты исследования фотополимеризации эпоксиакрилатного олигомера в присутствии комплексов меди с сульфоксидами и трибутилфосфа-том. Показано, что сульфоксидные и трибутилфосфатные комплексы меди ( комплексы с переносом заряда) являются сильными ингибиторами фотосшивания данных олигомеров, а комплексы кобальта ( комплексы без переноса заряда) в незначительной степени влияют на процесс полимеризации. Обнаружено, что как в случае фотополимеризации виниловых мономеров, так и полифункциональных олигомеров, механизм ингибирования радикальных процессов соединениями меди одинаков. Однако при фотосшивании эпоксиакрилатных олигомеров в присутствии комплексов меди ингибирующее действие последних может быть определено только косвенно - по времени образования полимера. Измерение констант передачи цепи ( kz / kp) как, например, для виниловых мономеров, при фотополимеризации эпоксиакрилатных олигомеров не представляется возможным. [19]
В спектре поглощения соединения, в котором А В NH2, Ямакс 355 - 360 нм; введение в. Водорастворимые композиции включают преимущественно гидроксил - или аминосодержащие полимеры, что обусловливает их невысокую кислотостойкость. На скорость фотосшивания этих слоев оказывает влияние кислород. [20]
В некоторых случаях возможен и обратный процесс - деструкция сшитых полимеров под действием облучения. Так, обратимость фотосшивания наблюдается для водорастворимых полимеров ( желатины, полиакриламида, поливинилового спирта) в присутствии ионов металлов переменной валентности. Модификация полимеров путем их фотосшивания используется для повышения прочности, снижения растворимости и изменения ряда других свойств полимерных пленок и волокон. Сшивающиеся при облучении полимеры ( фоторезисторы) используют в электрофотографии, в типографском деле, при изготовлении печатных микросхем для электроники и вычислительной техники. [21]
Целесообразно визуализировать элементы изображения непосредственно после экспонирования. По цвету видимого изображения точнее выбирается экспозиция, облегчается проявление фоторельефа. Наибольшую сложность представляет введение красителей, не приводящее к уменьшению скорости фотосшивания. Поскольку этого трудно достичь, то технологичными считаются уже те фоторезистные композиции, в которых скорость структурирования слоя уменьшается не более, чем на порядок. Исходя из этих соображений, предлагается введение в слои лейкооснований три-фенилметановых красителей, а также производных ксантена, тио-ксантена или диметилантрацена. [22]
Целесообразно визуализировать элементы изображения непосредственно после экспонирования. По цвету видимого изображения точнее выбирается экспозиция, облегчается проявление фоторельефа. Наибольшую сложность представляет введение красителей, не приводящее к уменьшению скорости фотосшивания. Поскольку этого трудно достичь, то технологичными считаются уже те фоторезистные композиции, в которых скорость структурирования слоя уменьшается ке более, чем на порядок. Исходя из этих соображений, предлагается введение в слои лейкооснований три-фенилметановых красителей, а также производных ксантена, тио-ксантена или диметилантрацена. [23]
В настоящем сообщении изложены результаты исследования фотополимеризации эпоксиакрилатного олигомера в присутствии комплексов меди с сульфоксидами и трибутилфосфа-том. Показано, что сульфоксидные и трибутилфосфатные комплексы меди ( комплексы с переносом заряда) являются сильными ингибиторами фотосшивания данных олигомеров, а комплексы кобальта ( комплексы без переноса заряда) в незначительной степени влияют на процесс полимеризации. Обнаружено, что как в случае фотополимеризации виниловых мономеров, так и полифункциональных олигомеров, механизм ингибирования радикальных процессов соединениями меди одинаков. Однако при фотосшивании эпоксиакрилатных олигомеров в присутствии комплексов меди ингибирующее действие последних может быть определено только косвенно - по времени образования полимера. Измерение констант передачи цепи ( kz / kp) как, например, для виниловых мономеров, при фотополимеризации эпоксиакрилатных олигомеров не представляется возможным. [24]
Рекомбинация образовавшихся радикалов или их присоединение по двойным связям приводит сначала к разветвлению молекул, а затем - к сшиванию. Возможно протекание аналогичных процессов и в боковых заместителях. В присутствии кислорода механизм сшивания усложняется. При наличии реакционноспособных групп и связей в основной цепи или в боковых заместителях процесс фотосшивания идет наиболее интенсивно. [25]
Деструктирующее влияние света находит применение при создании фоторазрушаемых полимеров. Необходимость в таких материалах обусловлена требованиями экологии. В естественных условиях полимерная тара одноразового использования может сохраняться много лет, что приводит к загрязнению окружающей среды. Введение в полимеры сенсибилизаторов фотодеструкции ( например, ароматических кетонов, 9, 10-антрохинона, меркаптобензтиазола, производных акридина и др.) позволяет значительно ускорить процесс разрушения полимерной тары, образующиеся в процессе деструкции вещества включаются в естественные биологические циклы. Под действием света может происходить фотосшивание макромолекул полимеров. Оно может наблюдаться даже при облучении полимеров, молекулы которых не содержат реакционноспособных групп в основной цепи или в боковых заместителях. В этом случае акту сшивания предшествует возникновение свободных радикалов и накопление ненасыщенных фрагментов молекул. [26]
Страницы: 1 2