Cтраница 1
Эмульсионный фотошаблон - фотошаблон, на котором изображение элементов схемы образовано галоидо-серебряной фотографической эмульсией. [1]
![]() |
Схемы процессов изготовления фотошаблонов. [2] |
Обычно комплект эмульсионных фотошаблонов не выдерживает более 15 - 20 циклов совмещений. [3]
![]() |
Схема процессов изготовления фотошаблонов. [4] |
Обычно комплект эмульсионных фотошаблонов не выдерживает более 15 - 20 циклов совмещений. В связи с этим широко применяют фотошаблоны, в которых в качестве оптически плотного слоя используют не фотоэмульсии, а более износостойкие покрытия, например хром. На рис. 27, а изображена схема изготовления фотошаблонов фотомеханическим методом. Мультипликация ( или фотоповторение) необходима ввиду того, что, как правило, подложка ИМС имеет ряд симметрично расположенных идентичных изображений фотооригинала. [5]
При изготовлении эмульсионных фотошаблонов требуется оптическая плотность порядка 3 5, для чего толщина эмульсии должна быть около 4 мкм. Вследствие того, что металлические пленки характеризуются значительно большим коэффициентом поглощения, вышеуказанное значение плотности может быть получено при толщине слоя хрома менее 0 08 мкм. [6]
Минимальный размер элемента эмульсионного фотошаблона определяется наименьшей длиной волны рисующего света, разрешающей способностью фотоэмульсии и механической точностью оборудования. [7]
Полученные на этапе мультипликации эмульсионные фотошаблоны имеют механически непрочное изображение и могут выдержать лишь 20 - 30 контактных отпечатков. Поэтому их рассматривают как эталонные фотошаблоны, с которых затем снимают копии - рабочие фотошаблоны. Рабочий шаблон получают путем напыления на стеклянную пластину сплошной пленки хрома ( порядка 1000А) с мелкозернистой структурой и проведения по этой пленке фотолитографии, включающей в себя контактную фотопечать с эмульсионного эталонного фотошаблона. При этом происходит некоторая потеря точности. Износостойкое хромовое покрытие позволяет получить до 1000 отпечатков без заметного снижения качества рисунка. [8]
![]() |
Сравнение градиентов оптической плотности на краях рисунка фотошаблона ( ширина линии 5 мкм, толщина пленки хрома 0 5 мкм.| Ширина линии рисунка в зависимости от времени экспозиции. [9] |
При перепечатке хромовых фотошаблонов с эмульсионного фотошаблона для получения требуемых размеров рисунка необходимо точно подобрать время экспонирования. Для этого на одном фотошаблоне экспонируют последовательно отдельные области с увеличением времени экспонирования. Затем фотошаблоны проявляют, травят и измеряют один из размеров. Оптимальное время может быть определено в точке пересечения кривой с осью ординат. [10]
Когда оптические системы были разработаны для условий производства эмульсионных фотошаблонов и фоторезистов с высокой разрешающей способностью, естественно, стали задумываться о создании фотошаблонов, в которых рисунок был бы вытравлен в тонкой пленке металла. В опубликованных работах в значительной степени все сводилось к применению для этих целей хрома, хотя это и не единственный металл, который имеет хорошую адгезию и дает высокопрочные пленки. [11]
![]() |
Различные профили тонких пленок после травлении. [12] |
Таким образом, метод контактной печати с использованием эмульсионных фотошаблонов, позволяет получать ширину линий в слое фоторезиста с точностью 2 5 мкм для средних значений ширины линий. В литературе отсутствуют сравнительные сведения для узких линий ( 10 мкм) в случае использования позитивных фоторезистов. Более узкие пределы допусков можно достигнуть, применяя проекционное экспонирование фоторезистов ( см. разд. [13]
![]() |
Схема фотохимического метода изготовления монометаллических трафаретов.| Схема изготовления биметаллических трафаретов.| Схема изготовления трехслойных трафаретов. [14] |
Зеркальные фотошаблоны изготавливаются обычно фотохимическим травлением хрома, нанесенного на стекло методом вакуумного напыления: первый-травлением рисунка по эмульсионному фотошаблону, второй - травлением рисунка по первому хромовому фотошаблону. [15]