Cтраница 2
Как видно из материала гл. IV, практически любые замещенные ароматические азиды эффективно распадаются под действие света, а образовавшиеся нитрены структурируют самые разнооб разные полимеры. [16]
Опыт показал, что часто для завершения реакции достаточно кипячения в течение 1 часа при этой температуре, но для перегруппировки некоторых азидов требуется ббльшая продолжительность нагревания или более высокая температура. Перегруппировку многих ароматических азидов удобнее проводить в кипящем толуоле, а некоторые из наиболее инертных азидов карбаминовых кислот приходится подвергать кипячению с ксилолом или декалином. [17]
Компоненты растворяют в 100 мл о-ксилола и полученный светочувствительный состав наносят на подложку центрифугированием, сушат при 60 С, облучают через диапозитив лампой ДРШ-250, засвечивают и проявляют ксилолом или уайт-спиритом. Диффузию проводят при 1300 С в течение 4 ч на воздухе в пластины p - Si с удельным объемным электрическим сопротивлением р 50 Ом см. Полученный р - - переход имеет вольт-амперную характеристику, близкую к теоретической, и время жизни 10 мкс. Поверхностная концентрация 1015 - 1018 атом / см3 зависит от концентрации ароматического азида и режима диффузии [ а. Подобные же азидсодержащие элементорганиче-ские композиции описаны для селективного легирования полупроводниковых пластин мышьяком [ а. Диффузию из фоторезиста в этом случае проводят на воздухе при 1250 С, полученные р-п переходы также имеют время жизни неосновных носителей порядка 8 - 10 мкс. [18]
Компоненты растворяют в 100 мл о-ксилола и полученный светочувствительный состав наносят на подложку центрифугированием, сушат при 60 С, облучают через диапозитив лампой ДРШ-250, засвечивают и проявляют ксилолом или уайт-спиритом. Диффузию проводят при 1300 С в течение 4 ч на воздухе в пластины p - Si с удельным объемным электрическим сопротивлением р 50 Ом см. Полученный р - n - переход имеет вольт-амперную характеристику, близкую к теоретической, и время жизни 10 мкс. Поверхностная концентрация 1015 - 1018 атом / см3 зависит от концентрации ароматического азида и режима диффузии [ а. Подобные же азидсодержащие элементорганиче-ские композиции описаны для селективного легирования полупроводниковых пластин мышьяком [ а. Диффузию из фоторезиста в этом случае проводят на воздухе при 1250 С, полученные р-п переходы также имеют время жизни неосновных носителей порядка 8 - 10 мкс. [19]
Описанная реакция имеет общее значение - она дает хорошие результаты с фосфитами разного строения, причем алифатические фосфиты реагируют активнее ароматических. В противоположность этому алифатические азиды проявляют большую пассивность при взаимодействии с фосфитами, чем ароматические азиды; последние уступают в этом отношении ацилазидам. [20]
Состояние, достигаемое при сенсибилизации, таким образом, может быть заселено при поглощении света. С другой стороны, наблюдается четкая корреляция скорости тушения флуоресценции углеводородов модельными наф-тил - и фенилазидами и изменения энергии Гиббса переноса заряда в системе. Отсюда представляются возможными два различных механизма сенсибилизации азидов: 1) разрешенный по спину перенос энергии, включающий переход на термически заселяемую нелинейную конфигурацию основного состояния азида и 2) перенос электрона с основного состояния азида на возбужденное состояние сенсибилизатора. Первый механизм характерен, вероятно, для всех азидов, а второй распространяется на ароматические азиды. Оба механизма в органических азидах действуют конкурентно, но один или другой в каждом конкретном случае может оказаться преобладающим. [21]
Обе подложки, согласно разработанному способу получения изображения с переносом, приводят в контакт только в присутствии жидкого активатора, избирательно действующего на пластичность, набухаемость, растворимость экспонированных либо неэкспонированных участков. Перенесенный на лист рисунок может быть использован для контроля качества изображения. Если светочувствительный слой водорастворим, то в состав активатора входит вода. Активатор часто содержит смесь вышеуказанных веществ. Например, для светочувствительных составов, содержащих ароматические азиды, а в качестве связующего - циклокаучуки или НС, в качестве активатора рекомендуется смесь трихлорэтилена с метилэтилкетоном, а для составов на основе диазосмол или содержащих диазониевые соли - смесь этанола, воды и кислоты. [22]
В течение последних лет была исследована возможность применения в светочувствительных слоях большого числа различных диазосоединений. Последнее может быть отчасти объяснено отсутствием достаточно точных представлений о химизме процессов, происходящих под действием света в копировальных слоях, содержащих наряду с диазосоедине-ниями также синтетические или природные высокомолекулярные вещества. Наиболее вероятно, что в большинстве случаев дубление полимеров необходимо рассматривать как результат сшивки линейного полимера радикалами, образующимися при фотолизе диазосоединений. В некоторых случаях, однако, дубление полимера, проявляющееся в потере полимером растворимости, является результатом иных химических реакций, например этерификации групп, обуславливающих растворимость полимера или аналогичных процессов ( см. стр. Для получения рельефных изображений на основе синтетических и природных полимеров применяются главным образом соли диазо-ния. Кроме них, определенное применение нашли ароматические азиды, легко получающиеся при действии азида натрия на водные растворы солей диазония. Общность фотохимических процессов, происходящих при облучении азидов и диазосоединений, и структурная близость к последним, а также возможность применения азидов в копировальных слоях, дубление которых вызывается также диазосоединениями, оправдывает целесообразность рассмотрения азидов совместно с диазосоединениями. [23]
В течение последних Лет была исследована возможность применения в светочувствительных слоях большого числа различных диазосоединений. Последнее может быть отчасти объяснено отсутствием достаточно точных представле ний о химизме процессов, происходящих под действием света. Наиболее вероятно, что в большинстве случаев дубление полимеров необходимо рассматривать как результат сшивки линейного полимера радикалами, образующимися при фотолизе диазосоединений. В некоторых случаях, однако, дубление полимера, проявляющееся в потере полимером растворимости, является результатом иных химических реакций, например этерификации групп, обуславливающих растворимость полимера или аналогичных процессов ( см. стр. Для получения рельефных изображений на основе синтетических и природных полимеров применяются главным образом соли диазо-ния. Кроме них, определенное применение нашли ароматические азиды, легко получающиеся при действии азида натрия на водные растворы солей диазония. Общность фотохимических процессов, происходящих при облучении азидов и диазосоединений, и структурная близость к последним, а также возможность применения азидов в копировальных слоях, дубление которых вызывается также диазосоединениями, оправдывает целесообраз-ность рассмотрения азидов совместно с диазосоединениями. [24]