Электрическая характеристика - прибор - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Пока твой друг восторженно держит тебя за обе руки, ты в безопасности, потому что в этот момент тебе видны обе его. Законы Мерфи (еще...)

Электрическая характеристика - прибор

Cтраница 1


Электрические характеристики прибора связаны с переходом Cu2S - CdS. Некоторые авторы [7] даже связывают возрастание чувствительности в области 5800А с генерацией электронно-дырочных пар в сульфиде меди.  [1]

И, наконец, разброс электрических характеристик приборов при электролитическом способе травления значительно меньше, чем при химическом травлении поверхности.  [2]

Разработчикам схем нужны лишь количественные описания внешних электрических характеристик приборов, которые имели бы требуемую точность и были достаточно простыми. Сложные модели полупроводниковых элементов ИС, учитывающие особенности структуры: геометрические размеры и форму областей, параметры р - n - переходов, изолирующие слои, расположение и форму контактных площадок ( рис. 10.9), концентрацию и подвижность носителей заряда, электрофизические характеристики материалов - предназначены в основном для разработчиков приборов. Однако с целью учета схемных критериев при отработке небольших компоновочных блоков ИС используют схемотехническое проектирование с применением физико-топологических моделей. Кроме того, подобные модели могут быть полезны для получения параметров моделей более простой структуры или макромоделей.  [3]

Элементы измерительной схемы с реохордом обеспечивают стабильность электрических характеристик приборов. Сопротивления измерительной схемы намотаны на катушки и хорошо доступны для смены пределов измерения.  [4]

Однако такой контроль оказывает очень небольшое влияние на электрические характеристики приборов.  [5]

Моделирование ставит своей задачей установление связей между физическими параметрами и электрическими характеристиками приборов. Особенно необходимо моделирование при разработке интегральных микросхем, когда по простым и точным моделям приборов удается определить поведение сложной схемы.  [6]

7 Механическая обработка кремниевых монокристаллических пластин.| Зависимость скорости травления кремниевых подложек от температуры для различных концентраций хлористого водорода в водороде ( числа над кривыми указывают концентрацию НС1 в объемных %. [7]

Окончательный выбор процесса обработки должен обеспечивать отсутствие влияния нарушенного слоя на электрические характеристики приборов и удовлетворять требованиям высокой разрешающей способности в последующих технологических процессах. На рис. 11 - 2 приведена схема механической обработки кремниевых пластин. Перед проведением эпитаксии применяется газовое термическое травление подложек, которое проводится в тех же аппаратах.  [8]

Уменьшение расстояния связано с техническими трудностями и может привести к ухудшению электрических характеристик прибора. Увеличение времени жизни - значительно более выгодный путь, но, к сожалению, представляет собой одну из труднейших задач в производстве германия для изготовления полупроводниковых усилителей.  [9]

Предложена методика выбора необходимых соотношений между физическими параметрами структуры для получения требуемых электрических характеристик прибора.  [10]

В этом случае активная часть прибора располагается в тонком высокоомном слое, параметры которого определяют электрические характеристики прибора, а толстая низкоомная подложка обеспечивает механическую прочность. Использование такой структуры приводит к значительному уменьшению последовательного сопротивления полупроводника в коллекторе и, что самое главное, ограничивает область, в которой возможно расширение нейтрального базового слоя. Использование эпитаксиальной технологии для создания лавинного транзистора предъявляет очень жесткие требования к однородности и совершенству кристаллической структуры эпитаксиально наращенного слоя.  [11]

Существует несколько технологически различных методов получения диффузионных транзисторов, причем очень часто различие в технологии приводит и к различным электрическим характеристикам прибора.  [12]

13 Структура интегрального биполярного транзистора ( а и ее двумерный ( в плоскости XZ электрический аналог ( б. [13]

Проектирование полупроводниковых приборов и интегральных схем с помощью ЭВМ эффективно в полной мере только с применением моделей, связывающих электрические характеристики прибора с его электрофизическими и геометрическими параметрами.  [14]

Для окончательного выбора удельных сопротивлений материала базовой и эмиттерной областей необходимо учитывать и другие факторы, оказывающие влияние на электрические характеристики прибора.  [15]



Страницы:      1    2