Хлорид - рутений
Cтраница 2
Сульфат рутения можно получить при длительном выпаривании растворов хлорида рутения или хлорорутената аммония с серной кислотой до ее паров Однако следы хлор-ионов удалить трудно. [16]
Наиболее простой метод получения двуокиси рутения состоит в нагревании одного из хлоридов рутения в токе кислорода. Аойама применял для этой цели кислоту H2 [ Ru02Cl4 ] - 3H20 ( синтез см. стр. [17]
Первый комплекс с молекулой N2 был описан в 1965 г.; его получили при восстановлении хлорида рутения ( III), содержавшего примесь рутения ( IV), гидратом гидразина. [18]
Гидрат окиси рутения ( III), выделяющийся из раствора в виде черно-коричневого осадка при нейтрализации раствора хлорида рутения ( III), нерастворим в щелочах, трудно растворим в серной и азотной кислотах, но легко растворим в соляной и бромистоводородной кислотах. Окисляется с самовоспламенением в токе воздуха при 60 - 65 С. [19]
Гидрат окиси рутения ( III), выделяющийся из раствора в виде черно-коричневого осадка при нейтрализации раствора хлорида рутения ( III), нерастворим в щелочах, трудно растворим в серной и азотной кислотах, но легко растворим в соляной и бромистоводородной кислотах. Окисляется с самовоспламе нением в токе воздуха при 60 - 65 С. [20]
Для нанесения покрытия используют пасту, состоящую из носителя ( изопропилового спирта), стабилизатора ОШ И) и хлорида рутения. После нанесения производятся сушка на воздухе и прокаливание при 250 - 500 С. [21]
Ддя нанесения покрытия используют пасту, состоящую из носителя ( изопропилового спирта), стабилизатора ( Ш С1) и хлорида рутения После нанесения производятся сушка на воздухе и прокаливание при 250 - 500 С Титановые аноды, основная часть покрытия которых представляла окисел полупроводникового металла ( И. [22]
Дгш нанесения покрытия используют пасту, состоящую из носителя ( изопропилового спирта), стабилизатора ( Jffl / iCI) и хлорида рутения. После нанесения производятся сушка на воздухе и прокаливание при 250 - 500 С. [23]
Наличие в составе покрытия соединений, содержащих металл, кислород, хлор, придает ему более высокую устойчивость например йа, HoOg, 2.i Q2, TiOClg) / 59 60 / Для нанесении покрытая используют пасту, состоящую из носителя ( изопропилового спирта), стабилизатора GSH CI) и хлорида рутения. После нанесенжя производятся сушка на воздухе и прокаливание при 250 - 500 С. [24]
Максимальная валентность по отношению к фтору, с которым рутений непосредственно соединяется приблизительно при 800, равна пяти ( см. табл. 81 на стр. Хлорид рутения RuCl3 получают непосредственным взаимодействием металла с хлором при температуре красного каления; он представляет собой черно-бурые кристаллы, нерастворимые в воде и кислотах. Эти галоге-ниды рутения легко дают комплексные соединения. [25]
 |
Окислительно-восстановительные потенциалы комплексов металлов. [26] |
Рутений занимает в периодической системе положение, очень близкое к железу, и поэтому можно было ожидать, что его комплексы с 2 2 -дипирйди-лом и о-фенантролином будут напоминать комплексы железа и смогут применяться в аналитической химии. Комплекс хлорида рутения ( II) и 2 2 -дипири-дила [ Ки ( дипи) 3 ] С12 - Н2О, исследованный Берсталлом [89], а также Штейг-маном, БирнбаумомиЭдмондсом [94], имеет окислительно - восстановительный потенциал, равный 1 33 в. Концентрированные растворы окрашены в оранжево-красный цвет, который при окислении изменяется до зеленого. У разбавленных растворов окраска изменяется от желтой до бесцветной. Относительно слабо выраженное изменение цвета отрицательно влияет на применение его в качестве индикатора окисления. Комплексы о-фенантролина с ионами двухвалентного рутения, по-видимому, пока еще недостаточно исследованы. [27]
Водные солянокислые растворы хлорида рутения ( II) катализируют гидрирование а р-ненасьпценных карбоновых кислот или азидов, но неактивны в восстановлении простых алкенов и большинства других органических субстратов. [28]
Похожее явление наблюдается у хлоридов рутения. В твердом состоянии высшим устойчивым хлоридом рутения является трихлорид, а в парах существует тетрахлорид. Значит, и здесь верхний предел плеяды при переходе от газообразных веществ к конденсированным изменяется. [29]
 |
Прибор для отгонки четырехокисей осмия и рутения. [30] |
Страницы: 1 2 3