Время - распыление
Cтраница 4
До установления стационарного режима подложка должна быть перекрыта заслонкой. Замечено [37], что при распылении Mg, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, Bi в инертных газах поверхность катода принимает коническую микроструктуру, а следовательно, нарушается пропорциональность толщины от времени распыления. После установления окончательной формы поверхности, определяемой условиями эксперимента, процесс распыления становится стационарным. Наличие конусной структуры легко обнаруживается по матовой поверхности катода. При температуре катода выше комнатной и при распылении в химически активных газах ( О2, Н2, N2) это явление не наблюдается. [46]
По показанию весов ( 4) определяется количество лакокрасочного материала ( Qg), осевшего на экране. Затем на головку краскораспылителя надевается отрезок гибкого шланга ( чтобы предотвратить - разбрызгивание краски по сторонам), лакокрасочный материал распыляется в специальную емкость для сбора краски ( 5) и взвешивается. Время распыления на экран ( 3) ив емкость ( 5) выдерживается строго одинаковым. [47]
При оптимальных навеске пыли и давлении распыляющего воздуха изменяют время распыления через 0 2 - 0 3 с. Для каждого значения времени распыления проводят по три опыта и определяют среднеарифметическую величину давления взрыва. Наибольшее давление взрыва соответствует оптимальному времени распыления. [48]
 |
Колба Бабкока для экспериментов по экстракции. [49] |
При необходимости вновь центрифугируют 10 мин, чтобы снова разделить фазы. Анализируемый элемент определяют в органической фазе, погружая пластмассовый капилляр от распылителя непосредственно в горлышко колбы. Нулевой сигнал устанавливается во время распыления МИБК, которое производится после каждой пробы. Чтобы скомпенсировать обогащение пламени органическим растворителем, расход ацетилена снижают до такой степени, что пламя только слегка выступает над головкой горелки. Эталоны экстрагируют аналогичным образом. [50]
Активатор наносится на траверзу какой-нибудь сетки, которая на определенном этапе тренировки разогревается током до 500 - 550 С. Испаряясь при этой температуре, магний напыляется на катод и активирует его. Наряду с этим магний во время распыления поглощает газы, выделяющиеся из нагретой сетки. Применяется алюминиево-магниевый активатор в тех лампах, где обычные откачка и тренировка не могут создать в оксидном слое достаточного запаса бария. [51]
Так, катодное распыление позволяет осаждать более однородные пленки тугоплавких и сложных по химическому составу материалов на большой площади. Однако в процессе катодного распыления происходит реакция распыляемого вещества с остаточными газами в камере, что существенно ухудшает воспроизводимость основных свойств таких пленок. Наличие остаточных газов в виде неконтролируемых, добавок к инертному газу связано с их десорбцией во время распыления с внутренней поверхности рабочей камеры. Эффективность откачки десорбированных газов при сравнительно высоком давлении в рабочей камере, необходимом для поддержания плазмы, является недостаточной. [52]
При этом в основном образуются нейтральные атомы и лишь приблизительно 1 % частиц несет электрический заряд. Пленки получаются при осаждении распыленных частиц на - подложку. При нанесении распылением ионной бомбардировкой возможна точная регулировка толщины пленок путем вариации значения разрядного тока и времени распыления. [53]
Покраска обычно наносится при помощи безвоздушных распылителей. Маляры осуществляют доступ к надстройкам при помощи строительных лесов, лестниц и различного подъемного оборудования, которое использовалось во время подготовки поверхности. Защитное ограждение ( если таковое имеется), которое применялось при продувке, остается на месте для сдерживания перелива краски во время распыления. [54]
Из-за больших количеств рассеиваемого тепла и возможности ионной бомбардировки любых открытых для ионов поверхностей, в распылительных устройствах при ионном распылении происходит значительно более интенсивное газовыделение, чем в устройствах термического испарения. Эта проблема еще больше осложняется из-за того, чго любые малые увеличения давления атмосферы остаточных газов, происходящие в результате газовыделения ( или какой-либо другой причины), могут оказаться незамеченными в сравнении с высоким давлением распыляющего газа. Для большинства систем вместо отпайки системы и установки в ней нужного давления распыляющего газа целесообразно осуществить постоянный напуск свежего газа и его откачку во время распыления. Непрерывное прохождение через рабочий объем относительно больших количеств чистого свежего газа предназначено в основном для уменьшения концентрации выделяющихся газовых примесей. Оно способствует также охлаждению системы. Ввиду того, что со временем газовыделение уменьшается, между подложкой и катодом принято помещать заслонку, открывая ее после начала распыления спустя некоторое время, в течение которого произойдет достаточно хорошая очистка системы, см. разд. [55]
В колбу распылителя заливают приготовленную взвесь тест-штамма, после чего вставляют форсунку. Устанавливают распылитель на уровне отверстия воздуховода, включают компрессор и оба импактора. Соблюдаются следующие условия: скорость распыления по жидкости Q e 1 мл / мин, скорость распыления по воздуху V 50 л / мин, время распыления - 10 мин, средний диаметр аэрозольных частиц dcp 2 4 мкм ( Igd 0389), максимальный диаметр частиц dam 7 мкм при логарифмически нормальном распределении ( среднее квадратичное отклонение ( Igd 0 229); скорость отбора проб аэрозоля импактором БП-50 V 50 л / мин время отбора проб аэрозоля - 10 мин. По истечении срока отключают сначала компрессор, а затем импакто-ры. Чашки Петри вынимают из импакторов и инкубируют при 37 С в течение 2 суток. После проведения опыта установку дезинфицируют. [56]
Плотность напыляемого ионного пучка можно регулировать изменением тока эмиссии вольфрамового катода, давления инертного газа, а также напряженности магнитного поля соленоида, с помощью которого легко повысить концентрацию плазмы и увеличить скорость распыления при неизменном потенциале мишени. Скорость осаждения может изменяться в очень широких пределах: от нескольких ангстрем до нескольких тысяч ангстрем в минуту. Количество распыленного материала линейно зависит от времени, а толщина пленки при постоянном режиме разряда определяется соотношением между током мишени, напряжением на ней и временем распыления. Для получения очень тонких пленок нужно подавать на мишень небольшое напряжение ( около 200 в), при котором получаются очень малые и хорошо регулируемые скорости осаждения. Равномерность толщины пленки при ионно-плазменном распылении достигает 1 - 2 %, что значительно выше, чем при распылении в тлеющем разряде, где искажения вносятся непроводящей подложкой, расположенной между катодом и анодом. [57]
Страницы: 1 2 3 4