Интенсивность - резонансная линия
Cтраница 3
 |
Вид оптической функции воз - возбуждения спектральной линии. буждения спектральной линии. в соответствии с эксперименталь. [31] |
Роль каскадных переходов при возбуждении спектральных линий, как мы указывали в предыдущем параграфе, может быть большой. Интенсивность резонансной линии / 10, выражаемая формулой ( 16) § 77, зависит не только от эффективного сечения ее верхнего уровня Q01, но и от эффективных сечений Q0 / всех вышележащих уровней. [32]
Интенсивность резонансной линии 2320 А повысилась почти в десять раз, тогда как интенсивность ионной линии 2316 А снизилась примерно в три раза. Известно, что кривизна градуировочного графика для никеля вызывается присутствием близкой ионной линии, отстоящей всего на 0 3 А от резонансной линии. [34]
ЯМР-спектр полимера указывает на наличие трех типов протонов метильных групп и двух типов протонов этиленового мостика, что говорит об образовании обеих форм структуры полимера. Сравнение интенсивности резонансных линий протонов этиленового мостика I и II структур позволяет сделать вывод о том, что эти структуры имеются в полимере в одинаковых количествах. [35]
Пусть в момент времени г положение спина, резонансная линия которого подлежит насыщению, изменится и осуществится переход из положения В в положение А. В этом случае интенсивность резонансной линии, соответствующей положению А, уменьшится. Эффективность этого метода, с одной стороны, определяется длительностью интервала т, в течение которого осуществляется обмен, и скоростью обмена в системе 1 / ТА. С другой стороны, эффект уменьшается по мере установления равновесного распределения Больцмана, которое характеризуется временем продольной релаксации Т А. [36]
 |
Зависимость логарифма интенсивности полос QdO при 536 ммк ( 1 и ЕгО при 506 7 ммк. [37] |
На интенсивность излучения щелочных металлов меньше все - го влияет азотная, затем серная кислоты. На рис. 51 показана зависимость интенсивности резонансных линий калия, рубидия и цезия от концентрации различных кислот. Как видно из графиков, степень понижения интенсивности излучения зависит не только от рода кислоты и ее концентрации, но также и от рода щелочного металла. [38]
Для этого необходимо было сравнить экспериментальную зависимость интенсивности резонансной линии иона ртути от тока разряда с расчетной. [39]
 |
Вид функции Ф ( те. а в интервале т от 0 до 15. б в интервале тг от 0 до 2. [40] |
Следовательно, в большинстве случаев максимум кривой распределения электронов по скоростям лежит при потенциалах, меньших критического ( Ve Vk), и возбуждение линии происходит за счет хвоста максвелловской кривой. По формуле ( 6) при прямых возбуждениях интенсивность резонансной линии пропорциональна концентрации электронов Ne и зависит от электронной температуры Те. В газоразрядной плазме в положительном столбе при возрастании плотности разрядного тока - / обычно происходит возрастание Ne и спад Те. При этом концентрация электронов растет либо линейно с разрядным током, либо несколько быстрее. Спад же электронной температуры происходит медленно, так что в определенном интервале плотностей разрядного тока можно приближенно считать ее постоянной. [41]
То обстоятельство, что наиболее сильные абсорбционные линии большинства элементов располагаются в области 2000 - ЗОООА ( для ряда элементов они располагаются в вакуумном ультрафиолете, например Se 1961А и Hg 1850A), существенно упрощает метод. В этой области эмиссия пламени обычно незначительна сравнительно с интенсивностью резонансных линий, испускаемых лампой с полым катодом, что делает возможным использование простых атомно-абсорбци-онных спектрофотометров. [42]
Это происходит оттого, что в рассматриваемых условиях разряда число актов испускания линии равно числу актов возбуждения ее исходного уровня. Однако следует иметь в виду, что в действительности на интенсивность резонансных линий сильно влияет явление самопоглощения, на котором мы здесь не останавливаемся. [43]
Интенсивность резонансных линий труднолетучих металлов ( А1, Са, Со, Сг, Си, Fe, Mg, Mo, Ni и Ti) при изменении давления аргона и неона проходит через максимум, а интенсивность излучения резонансных линий легколетучих металлов ( Bi, Cd, Pb, Sb, Sn, Zn) не имеет максимума и непрерывно возрастает при уменьшении давления. На рис. 14 и 15 представлены графики, характеризующие зависимость интенсивности резонансных линий для указанных двух групп металлов от давления инертных газов: гелия, неона, аргона и ксенона. [44]
Для определения константы равновесия диссоциации окисла металла в пламя, питаемое горючей смесью определенного состава, вводится раствор соли металла известной концентрации. Парциальное давление паров металла РШ в пламени определяется на основании спектроскопического измерения интенсивности резонансных линий атомов металла. Парциальное давление паров окислов РШО может быть вычислено в предположении, что реакция Ме -) - 0 МеО есть единственная, в которой принимает участие металл в пламени. [45]
Страницы: 1 2 3 4