Интенсивность - фон
Cтраница 3
Зависимость величины SC от свойств спектрального прибора, интенсивности фона и свойств фотопластинки теперь очевидна: минимальная обнаружимая концентрация прямо пропорциональна яркости сплошного спектра источника и обратно пропорциональна контрастности фотопластинки и практической разрешающей способности прибора. От других параметров регистрирующего устройства она не зависит. [31]
Многими наблюдениями установлено изменение относительных интенсивностей линий, интенсивности фона и отношения интенсивности линии к интенсивности фона при помещении источника света в атмосферу какого-либо инертного или другого газа. [32]
 |
Теоретические пределы определения примесей в бериллии. [33] |
У Л1 ф, где N, - интенсивность фона, полученная при измерении в течение 10 мин. [34]
 |
Значения интегральных коэффициентов отражения Sft ( оптимизированных по Р различных МИС как функция резонансной длины волны Я0. / - Ru - В. 2 - Ru-С. 3. Ni - С. 4 - Ni - Be. [35] |
R ( К), при этом измеряется интенсивность фона. [36]
В заключение следует заметить, что задача вычитания интенсивности фона может быть поставлена и при построении логарифмического измерителя средней скорости счета. Однако к простому вычитанию токов двух выходных устройств прибегать, естественно, нельзя, так как это соответствует не вычитанию, а делению измеряемых величин. Поэтому необходимо перед логарифмическим интенсиметром вводить дифференциальное счетное устройство, обеспечивающее создание разностной последовательности сигналов уже на входе интенсиметра. [37]
 |
Конусы лучей, приводящие к появлению линий Кикучи на электронно-дифракционной картине. [38] |
Один конус содержит избыточное излучение по сравнению с интенсивностью фона, второй - недостаточное. Пересечение этих конусов с плоскостью наблюдения приводит к появлению линий Кикучи от этой отдельной дифрагирующей плоскости, причем линия меньшей интенсивности расположена ближе к пятну первичного пучка. Появление линии Кикучи свидетельствует, во-первых, о высокой степени совершенства кристалла. Отражающие плоскости, которые приводят к появлению пар линий, должны иметь одинаковую ориентацию по всему кристаллу. Если их соосность изменяется, то линии Кикучи расширяются и сливаются с фоном. Во-вторых, картина линий Кикучи может быть использована для определения ориентации тонких монокристаллических пленок с большей точностью, чем это возможно выполнить по одним только брэгговским рефлексам. Для идентификации ориентации алмазной кубической и гране-центрированной [13], а также и для объемно-центрированной и гексагональной [ 14J монокристаллических пленок опубликованы схемы картин Кикучи. Его величина и, в особенности, его знак важны для интерпретации дифракционного контраста в просвечивающей электронной микроскопии. Для s 0 линии повышенной и пониженной интенсивности проходят через дифракционное пятно и пятно первичного пучка. Для s О обе линии смещены в направлении, идущем от пучка к дифракционному-пятну, в то время как для. Рентгеновским аналогом линий Кикучи являются линии Косселя, которые возникают, когда источник расходящихся рентгеновских лучей расположен близко к поверхности кристалла. [39]
Чувствительность спектрального анализа определяется отношением интенсивности аналитической линии к интенсивности фона вблизи нее. Тем самым увеличение чувствительности может быть достигнуто либо увеличением интенсивности аналитических линий, либо уменьшением интенсивности фона спектра. [40]
Электронограммы газовых молекул представляют собой наложение быстро убывающего по интенсивности фона, обусловленного атомным ( когерентное и некогерентное) рассеянием, и ряда максимумов и минимумов, обязанных молекулярному рассеянию и отражающих структуру молекул. [41]
Родившийся в августе был зачат в ноябре, когда интенсивность микроволнового фона максимальна; в мае интенсивность микроволнового фона минимальна, и его действие скажется меньше всего на тех, кто родился в феврале. Как и в обычной астрологии, планеты и их спутники ( которые, за исключением, быть может, Юпитера и Луны, дают небольшой вклад в интенсивность микроволнового излучения на Земле) могут оказывать слабое воздействие - так сказать, эффекты второго порядка малости. [42]
Такие дефекты ведут к ослаблению интенсивности линий и увеличению интенсивности фона. [43]
Иногда для повышения чувствительности определения летучих примесей, снижения интенсивности фона сплошного спектра или сокращения продолжительности анализа ограничиваются частичным испарением пробы. [45]
Страницы: 1 2 3 4