Отрицательное выравнивание
Cтраница 2
На микропрофиле вследствие его эквипотенциальности характер связи между распределением суммарной и парциальной плотностей тока меняется на обратный - распределение суммарной плотности тока ( то есть вторичное распределение тока) зависит от распределения парциальных плотностей тока. Неравномерное распределение суммарной плотности тока на микропрофиле при наличии побочных реакций не влияет на распределение скорости осаждения металла и не может быть причиной положительного или отрицательного выравнивания. [16]
В тех случаях, когда скорость электроосаждения металла зависит от условий диффузии каких-либо ионов или молекул к катоду ( от катода), микрораспределение скорости осаждения будет неравномерным. Отрицательное выравнивание ( плохое микрорассеивание) возможно, когда с ростом эффективной толщины диффузионного слоя ( 6) скорость электроосаждения ( при е const) уменьшается, положительное истинное выравнивание - когда с ростом 6 скорость осаждения увеличивается. [17]
 |
Микрораспределение металла. [18] |
Микрорельеф поверхности электроосажденного металла зависит от начальных микрогеометрических характеристик поверхности катода и от характера микрораспределения осаждаемого металла. При положительном выравнивании в микроуглублениях наблюдаются более высокие скорости осаждения, чем в микровыступах, при отрицательном выравнивании характер микрораспределения меняется на противоположный. [19]
Микропрофиль - это совокупность отдельных элементов рельефа с размерами, не превышающими десятых долей миллиметра; он зависит от начальных микрогеометрических параметров поверхности катода и от характера микрораспределения осаждаемого металла. Под термином микрораспределение обычно понимают распределение скорости электроосаждения на отдельных элементах рельефа - выступах и впадинах. При положительном выравнивании в микроуглублениях наблюдаются более высокие скорости осаждения, чем на микровыступах, при отрицательном выравнивании характер микрораспределения меняется на противоположный. [20]
Равенство ( 2) означает, что поляризационная кривая не одинакова на всей поверхности образца, а меняется при переходе от одной точки микрорельефа к другой. Причиной изменения формы поляризационной кривой в точках, расположенных во впадинах и на выступах, служит различие в концентрации разряжающихся ионов, ионов комплексообразователя или поверхностно-активной добавки, диффундирующей к электроду и расходующейся при электролизе, разная толщина образовавшихся окисных пленок или пленок, составленных из продуктов электролиза и др. В зависимости от причин, вызвавших местные отличия в форме поляризационных кривых, поляризация может в одних случаях расти, а в других уменьшаться в направлении от впадины к выступу. Направление изменения поляризации определяет и характер самого явления. Например, для случая выравнивания поляризация IB направлении выступов растет, а для случая отрицательного выравнивания наоборот - падает. [21]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на микровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [22]
Пели рост кристаллической шероховатости в процессе элек - ТроосаЖдения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слои металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрорасцределсиии скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое, выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а п микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное подрастание толщины слоя на микровыстунах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [23]
Если рост кристаллической шероховатости в процессе электроосаждения не играет существенной роли в формировании микрорельефа, то распределение толщины осажденного слоя металла или сплава по микропрофилю катодной поверхности определяется суммарным воздействием эффектов геометрического и истинного ( положительного или отрицательного) выравнивания. При равномерном микрораспределении скорости осаждения толщина осадка одинакова во всех точках микропрофиля, если отсутствует геометрическое выравнивание. При положительном истинном выравнивании толщина слоя на микровыступах снижается, а в микроуглублениях возрастает. В результате этого сглаживание микрорельефа идет быстрее, чем при равномерном микрораспределении скорости осаждения. Небольшое отрицательное выравнивание и соответствующее относительное возрастание толщины слоя на мнкровыступах может компенсироваться эффектом геометрического выравнивания микроуглублений. [24]
Страницы: 1 2