Химически активные газы - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Ничто не хорошо настолько, чтобы где-то не нашелся кто-то, кто это ненавидит. Законы Мерфи (еще...)

Химически активные газы

Cтраница 2


Комплектный токопро-вод может быть установлен в пыльной среде, но для работы в среде, содержащей химически активные газы и испарения, а также в пожаро - и взрывоопасных средах он не предназначен.  [16]

К этим средам относятся такие, в которых по условиям производства постоянно или в течение длительного времени содержатся химически активные газы, пары или на окружающих предметах образуются отложения веществ, разрушающие электротехнические устройства.  [17]

18 Давление и плотность насыщенного водяного пара при разных температурах. [18]

Иногда применение серной кислоты может быть неудобно, так как при попадании в ее некоторых органических вещесге выделяются химически активные газы.  [19]

Инициирование может осуществляться путем добавки специальных веществ - инициаторов, легко образующих свободные радикалы ( например, пероксиды, азосоединения, некоторые химически активные газы NO, NO2, НВг); под действием света - фотохимическое инициирование; под действием ионизирующих излучений; если вещества не поглощают свет - с применением фотосенсибилизатора.  [20]

Высокая эффективность процесса нагревания обрабатываемого материала может быть достигнута при использовании химически активных плазмообразующих газов и прежде всего воздуха. Химически активные газы способны вступать в экзотермические реакции с обрабатываемым материалом и повышать эффективность процесса нагревания. Именно поэтому, а также в связи с дешевизной и наличием воздухоподводящей сети, на машиностроительных предприятиях в большинстве случаев при ПМО в качестве плазмообразующего газа используют воздух. При этом, однако, следует иметь в виду, что применение воздуха в качестве плазмообразующего газа в плазмотронах вызывает необходимость оснащения металлорежущих станков системой интенсивного местного отсоса и удаления газов ( см. ниже, гл.  [21]

22 Схема установки для ванесеиия покрытий методом CVD. [22]

Понижение давления способствует десорбции хлористого водорода с поверхности детали, на которую наносится покрытие. После нанесения покрытия химически активные газы заменяются инертным газом и изделия охлаждаются до комнатной температуры. Для получения высококачественного слоя карбида титана необходимо использовать очень чистые ( прежде всего по кислороду) газы с минимальным содержанием влаги. За одну загрузку обрабатывается большое количество деталей.  [23]

В работе [47] впервые было высказано мнение, что соответствующие границам зерен у-фазы бороздки образуются вследствие избирательного испарения. Для выявления зерен аустенита не применяют химически активные газы. Медленного охлаждения образцов следует избегать, так как вследствие происходящего превращения появляется несколько перекрывающих друг друга сеток границ зерен, которые затрудняют однозначное определение размеров зерен. При скоростях охлаждения выше критических образуется игловидный поверхностный рельеф, который также препятствует выявлению границ зерен аустенита.  [24]

Распределительные пункты серии ПР9000 предназначены только для внутренней устаниики в местах, не подверженных ударам и вибрации. Их запрещается устанавливать во взрывоопасной среде, а также в среде, содержащей химически активные газы и пары в концентрациях, разрушающих металлы и изоляцию.  [25]

Химически активными считаются среды, содержащие агрессивные газы или пары, вредно действующие на проводники, изоляцию и поддерживающие их конструкции. К ним относятся также среды, в которых по условиям производства постоянно или длительно содержатся химически активные газы, пары или на окружающих предметах образуются отложения веществ, разрушающе действующие на электротехнические изделия и устройства.  [26]

Охлаждение блоков, как правило, воздушное. Однак выпускаются блоки с водяным охлаждением ( рис. 2 - 17 бч предназначенные для применения в среде с высокой тел пературои или содержащей химически активные газы ил пыль. За исключением охладителя, конструкция и габ; ритныс размеры соответствующих блоков одинаковы.  [27]

Если элементы расположить по возрастанию атомных весов ( а следовательно, и по возрастанию масс атомов), то легко можно заметить, что их свойства изменяются постепенно и однообразно. Например, при последовательном рассмотрении элементов от щелочного металла лития ( через бериллий, бор, углерод, азот, кислород) до фтора видно, как постепенно теряются свойства металлов и на их место приходят все более химически активные газы.  [28]

Для перемещения воздуха с температурой до 70 С и нормальной влажностью можно применять воздуховоды из листовой или кровельной стали. При транспортировании воздуха с повышенной влажностью, а также при прокладке вентиляционных каналов вне помещения применяют воздуховоды из кровельной или листовой стали с покрытием из защитных водостойких лаков и красок, а также из полимерных материалов или из оцинкованной стали. Для перемещения воздуха, содержащего химически активные газы и пары кислот или щелочей, применяют воздуховоды из кислотостойкой стали, листовой стали с защитными покрытиями, ставинила, винипласта, керамики и кислотоупорного бетона, В отдельных случаях возможно применение воздуховодов из алюминия. Для перемещения воздуха с температурой выше 100 С, не содержащего химически активных газов, применяют воздуховоды из листовой стали толщиной более 1 мм.  [29]

Установка откачивалась обычными форвакуумным н диффузионным ( ЦВЛ-100) насосами, причем для вымораживания паров масла после каждого насоса стоит ловушка, заливаемая жидким азотом. Для быстрой откачки газов и паров из самой ячейки и зазоров между цилиндрами в нагревателе и достижения статического высокого вакуума в самом рабочем пространстве вся установка промывается несколько раз аргоном спектральной чистоты. В результате такого промывания значительно быстрее удаляются химически активные газы ( Оз, N2, СОа) и пары ( ШО, пары смазки), а ячейка и зазоры заполняются инертным газом. Кроме того, во всей установке остаточным газом будет аргон. Одним из авторов ( Д. В. Игнатовым) еще ранее было показано, что тонкие пленки алюминия ( толщиной 300 - 400 А) при нагревании их в вакууме 10 - 6 мм рт. ст. до 700 окисляются полностью. Образование окисных ( и других) пленок на поверхности нагреваемых образцов металлов может существенно исказить значение скоростей испарения.  [30]



Страницы:      1    2    3