Cтраница 1
Глубина восстановления V2C5 без носителя невелика и мало изменяется при варьировании условий проведения опытов. [1]
Глубина восстановления увеличивается с повышением температуры и уменьшается с возрастанием молекулярного веса сульфоланов, однако мало зависит от характера и положения замещающего радикала. [2]
В каком случае глубина восстановления КМпО4: а) наибольшая; б) наименьшая. [3]
Существенное значение имеет глубина восстановления Ni, Co и Fe в катализаторах. Значительно более сложен вопрос восстановления железо-медных катализаторов. [4]
Существенное значение имеет глубина восстановления Ni, Со и Fe в катализаторах. [5]
Наибольшее воздействие на глубину восстановления урана из UFg оказывает изменение температуры смешения реагентов Тм на входе в реактор. В рамках рассматриваемой газофазной кинетической схемы процесса водородного восстановления урана из UFg протекающая в потоке ( и - Г - Н) - плазмы брутто-реакция (11.85) имеет эндотермический характер. [6]
Наибольшее воздействие на глубину восстановления урана из UFg оказывает изменение температуры смешения реагентов Тм на входе в реактор. В рамках рассматриваемой газофазной кинетической схемы процесса водородного восстановления урана из UFe протекающая в потоке ( и - Р - Н) - плазмы брутто-реакция (11.85) имеет эндотермический характер. [7]
Для сульфонов монозамещенных тиофанов глубина восстановления уменьшается с возрастанием молекулярного веса и, по-видимому, мало зависит от характера и положения заместителя. Сульфоксиды, как и следовало ожидать, восстанавливаются легче и быстрее, нежели сульфоны с близким молекулярным весом. [8]
На рис. 13.8 показана зависимость глубины восстановления слоя меди, содержащей Си2О, от температуры и концентрации водорода. [10]
Для всех образцов восстановление V2Os на носителе происходит легче, чем массивной ( табл. 133), глубина восстановления растет с уменьшением содержания V2Os на носителе. [11]
Естественно, различное валентное и координационное состояние родия влияет на формы и размеры частиц активной фазы и глубину восстановления контакта, т.е. распределение металлической фазы на поверхности носителя будет иным, чем в случае формирования образца из необлученного раствора хлорида трехвалентного родия. [12]
Пропорционально уменьшению этой степени превращения уменьшается и вес контакта, а это, очевидно, происходит вследствие того, что глубина восстановления V2Os пропорциональна концентрации нафталина, а количество накапливающихся на поверхности органических веществ - концентрации продуктов его окисления. [13]
Это, возможно, связано с тем, что при различных соотношениях А1 / Ме в системе присутствуют различные по свойствам активные центры [175], появление которых может быть обусловлено изменением глубины восстановления переходного металла при увеличении соотношения А1 / Ме. [14]
Как показали Болдырева, Долгоплоск и Кроль [69], четыреххлористый титан под влиянием триалкилалюминия восстанавливается до Ti3, Ti2 и даже до металлического титана. Глубина восстановления зависит от природы алкильной группы. [15]