Последующий гомолог

Cтраница 1

Последующие гомологи могут существовать в виде нескольких изомеров. [1]

Последующие гомологи дают смесь различных нитропарафиноз вследствие попутно идущего расщепления. [2]

Последующие гомологи дают смесь различных нитропарафинов вследствие попутно идущего расщепления. [3]

Каждый последующий гомолог может быть выведен из предыдущего путем замещения на метальную группу атома водорода, связанного с углеродным атомом углеродного скелета, или путем внедрения метиленовой группы между двумя углеродными атомами скелета. [4]

Каждый последующий гомолог может быть выведен из предыдущего путем замещения на метильную группу атома водорода, связанного с углеродным атомом углеродного скелета, или путем внедрения метиленовой группы между двумя углеродными атомами скелета. [5]

Для последующих гомологов возможно еще большее число изомеров. [6]

У последующих гомологов могут быть изомеры по положению групп ОН в углеродной цепи. [7]

В последующих гомологах оксикислот положение спиртовых групп в углеродной цепи может быть различным. [8]

Поэтому каждый последующий гомолог из-за неравноценности атомов углерода дает несколько радикалов. При отнятии водорода от любого из двух первичных атомов углерода пропана получают радикал н-пропил ( нормальный пропил), а от вторичного атома углерода - радикал изопропил. Бутан и изобутан каждый образуют по два радикала. Буква н ( нормальный) перед названием радикала указывает, что свободная валентность находится на конце неразветвленной цепи. Приставка втор ( вторичный) означает, ч - fo свободная валентность находится у вторичного атома углерода, а приставка трет ( третичный) - у третичного. [9]

Это означает, что для каждого последующего гомолога концентрация, вызывающая одинаковое понижение поверхностного натяжения, уменьшается примерно втрое. Ленгмюр определил, что правило Траубе справедливо лишь при свободном расположении адсорбированных молекул в поверхностном слое параллельно поверхности. [10]

Увеличение индекса удерживания сорбата при переходе к каждому последующему гомологу должно составлять 100 единиц. [11]

Скрытая теплота испарения парафинов. [12]

В гомологических рядах количество теплоты, необходимое для нагревания каждого последующего гомолога от 0 до температуры его кипения, естественно, возрастает, причем это возрастание отнюдь не компенсируется постепенным уменьшением скрытой теплоты кипения согласно вышеизложенному. Отсюда понятно, что полная теплота испарения в гомологических рядах по мере возрастания молекулярного веса увеличивается. [13]

Поверхностная активность возрастает с ростом длины цепи в 3 - 3 5 раза при переходе к каждому последующему гомологу ( на одно звено СН2) по правилу Дюкло-Траубе, теоретически выведенному Ланг-мюром. [14]

Крафта значение ККМ мало отличается от молекулярной растворимости, внутри данного гомологического ряда ККМ уменьшается также в - 3 - 3 5 раза при переходе к каждому последующему гомологу. Для мицеллообразующих ПАВ, как и для обычных, максимально возможное снижение поверхностного натяжения их водных растворов на границе с воздухом в пределах данного гомологического ряда оказывается практически постоянным. [15]

Страницы: 1 2 3