Испарение - атом
Cтраница 1
Испарение атомов с металлической нити при высоких температурах не является процессом динамического равновесия в том смысле, что скорость испарения с горячей нити не равна скорости конденсации на нить. Наоборот, испарившиеся молекулы проходят от поверхности горячей нити к более холодным стенкам сосуда, где они конденсируются и тем самым удаляются из паровой фазы. Таким образом, устанавливаются условия, при которых скорость конденсации на горячей поверхности металла практически равна нулю, а скорость испарения протекает нормально, вне зависимости от процесса конденсации. Уравнение ( 9) применимо к процессу испарительной перегонки. [1]
Скорость испарения атомов пленки при рабочей температуре катода должна быть возможно меньшей. [2]
При испарении атомов с плоской площадки в вакуум, из-за разницы скоростей происходят столкновения вдогонку. [3]
При испарении атомов в поверхностном слое кристалла образуются вакансии, которые диффундируют затем в глубь кристалла. Этим вакансиям уже нельзя сопоставить дислоцированные атомы; такого рода вакансии называются дефектами по Шоттки. Если речь идет о кристалле химического соединения, для сохранения электронейтральности должны быть вакансии как катионов, так и анионов. Недостаток заряда, возникающий при образовании вакансии в ионном кристалле, может быть скомпенсирован захватом вакансией электрона или дырки. Комбинация анионной вакансии и электрона называется F-центром, а комбинация кати-онной вакансии и дырки - У-центром. Оба эти вида - дефектов называются центрами окрашивания. Благодаря наличию F-цент-ров кристалл NaCI окрашивается в желтовато-коричневый, а КС1 - в голубой цвет. F-цептры, как правило, более устойчивы, чем 1 / - центры. [4]
Так как испарение атомов пленки и ее разрушение ионной бомбардировкой являются неизбежными процессами во время работы катода, то необходимо обеспечение возобновления пленки в процессе работы. Иначе говоря, система должна обеспечивать поступление на поверхность атомов активирующего металла взамен уходящих с поверхности. [5]
Этот процесс аналогичен испарению атома с поверхности при повышении температуры. В кристалле происходит как бы внутреннее испарение атома в между-узлне. [6]
Серная кислота препятствует испарению атомов лития из частиц аэрозоля и почти не влияет при введении через другой распылитель. [7]
Здесь Ne - скорость испарения атомов в см - с 1; Ре - выраженное в Па равновесное давление пара испаряемого вещества в условиях насыщения при температуре Т М - молекулярная масса частиц пара. Преодолев промежуточную среду, атомы пара конденсируются на подложке в виде тонкой пленки. Скорость конденсации или осаждения атомов пара зависит от взаимного расположения испарителя и подложки, а также от коэффициента конденсации при данном физическом состоянии поверхности. [8]
 |
Графический анализ твердые помещены в герметичную. [9] |
Изотопный обмен происходит следующим образом: испарение атомов с поверхности одной фазы и конденсация атомов на поверхности другой фазы. В общем случае на кинетике обмена должна сказываться и диффузия атомов в конденсированных фазах. Герметичность обменной камеры обеспечивает отсутствие потерь вещества из системы. Обычно обменивающиеся фазы имеют одинаковый химический состав и отличаются только изотопным составом. Все это, а также изотермичность камеры обеспечивает неизменность количества вещества в фазах в ходе изотопного обмена. Если происходит обмен между двумя жидкими, хорошо перемешиваемыми фазами одинакового химического, но разного изотопного состава, то обменивающаяся форма распределена равномерно в объеме фаз. [10]
Это равновесие описывает как пример процесс конденсации и испарения атомов у поверхности твердого германия. [11]
К образованию нелетучих или труднолетучих соединений, затрудняющих испарение атомов лития из твердых частиц аэрозоля, приводит присутствие в анализируемом растворе некоторых кислот и их солей. Влияние кислот, или так называемый анионный эффект, обычно сказывается в понижении интенсивности излучения ( при органических кислотах и в повышении) и зависит как от рода кислоты или ее соли, так и от их концентрации. [12]
Дефекты по Френкелю возникают в результате элементарных актов испарения глубинных атомов твердого тела. При этом испаряющийся атом не покидает объема тела, а переходит из данного узла кристаллич. Таким образом, дефект по Френкелю представляет собой вакансию и дислоцированный атом и в этом смысле всегда является парным дефектом. Возможность образования дефектов по Френкелю определяется неравномерным распределением энергии между атомами твердого тела. Те из атомов, к-рые в данный момент приобрели значительную избыточную энергию, могут покинуть положение равновесия ( узел решетки) и переместиться в соседнее междоузлие. [13]
Дефекты по Френкелю возникают в результате элементарных актов испарения глубинных атомов твердого тела. При этом испаряющийся атом не покидает объема тела, а переходит из данного узла кристаллич. Таким образом, дефект по Френкелю представляет собой вакансию и дислоцированный атом и в этом смысле всегдп является парным дефектом. Возможность образования дефектов по Френкелю определяется неравномерным распределением энергии между атомами твердого тела. Те из атомов, к-рые в данный момент приобрели значительную избыточную энергию, могут покинуть положение равновесия ( узел решетки) и переместиться в соседнее междоузлие. [14]
Было найдено, что скорость падения давления водорода пропорциональна скорости испарения атомов железа и не зависит от парциального давления водорода. Это оказывалось справедливым даже при тех давлениях, когда скорость исчезновения водорода, казалось, должна была бы заметно падать. [15]
Страницы: 1 2 3 4