Cтраница 1
Диффузия кремния в поверхность деталей, изготовленных из низкоуглеродистых сталей, осуществляется путем выдержки детали в смеси ферросилиция и шамота при температуре не менее 1100 С или путем пропускания хлора через ферросилиций и направления полученных летучих составляющих на деталь при температуре 900 - 1000 С. Детали, подвергнутые силицированию, обладают высокой коррозионной стойкостью и твердостью при хорошей пластичности. [1]
![]() |
Микроструктуры диффузионных слоев на сталях 09Г2С ( а, 15Х5М ( б и 10Х23Н18 ( в, 200х. [2] |
Диффузия кремния вглубь металла приводит к образованию силициро-ванного слоя, который, в зависимости от условий процесса и состава насыщающего материала, может состоять из одной или двух фаз. На рис. 2 показаны типичные микроструктуры, получаемые при силицировании исследуемых сталей предложенными методами при двухчасовом насыщении. [3]
Диффузия кремния в молибден носит реактивный характер. Глубина слоя защитного покрытия зависит от кривизны насыщаемой поверхности. [4]
Коэффициент диффузии кремния в фазе MoSi2 соответственно равен 0.5 10 - см2 / сек. [5]
Очевидно, относительные скорости диффузии кремния, алюминия, калия и натрия, как свидетельствуют реакции в известковых мигматитах, приблизительно в некоторой степени пропорциональны величине их ионного радиуса. Иммиграция титана всегда происходит одновременно с иммиграцией алюминия. В то время как на ранних стадиях преобладающее значение имеет миграция ионов с очень малым радиусом, например ионов кремния и алюминия. [6]
При этом в результате двухсторонней диффузии кремния и больших объемных изменений при образовании соединения образец в конце отжига разделялся на две половины. При таком методе получения состояние внешней ( соприкасавшейся с кремнием) и внутренней ( поверхности раздела) поверхностей неодинаково. [7]
Так, например, если исследуется диффузия кремния в железо и известно, что при T. [9]
![]() |
Зависимость температуры пайки t, от размеров зазора Д для оловянно-свин-цовых припоев из условия получения максимальной прочности соединений. [10] |
Так, например, если исследуется диффузия кремния в железо и известно, что при тх 3 6 - 103 с и TL 1223 К толщина слоя л 0 0072 см, а при Т2 14 4Х X 103 с и Т2 1323 К х2 0 0265 см, то при решении системы уравнений, согласно формуле ( 63), получим значения А 3 46 - 10 - 2H В 1 964 - 10, позволяющие всесторонне изучить взаимодействие кремния и железа при любых Тит. [11]
![]() |
Схема строения кристалла, изображенная в виде семейства атомных плоскостей. а - идеальный кристалл. б - кристалл с краевой дяс юка-циеп. в - с винтовой дислокацией. [12] |
В последних двух случаях в результате диффузии кремния в молибдене образуется защитный слой, как правило, из MoSi2 ( иногда присутствуют др. фазы - MosSi. [13]
Как показано многими исследователями и нами, диффузия кремния в молибден носит реактивный характер. [15]