Электронно-лучевое испарение

Cтраница 1

Электронно-лучевое испарение позволяет формировать покрытия с достаточно высокой производительностью и управлять их составом и свойствами. Основной недостаток этого метода заключается в сравнительно низком проценте ионизированных частиц в общем потоке испаряемого материала, что влияет на прочность адгезионной связи осаждаемых покрытий. [1]

Удельный расход электроэнергии при электронно-лучевом переплаве некоторых.| Схемы типичных способов электроннолучевой плавки и литья. [2]

Весьма эффективно электронно-лучевое испарение используется для нанесения защитных антикоррозионных покрытий на стальную ленту для получения ленточных композиционных материалов и при производстве фольги. [3]

Влияние способа испарения на зависимость микротвердости ( 1, 2 и временного сопротивления ( 3, 4 пле - [ IMAGE ] Диаграммы растяжения пленок. [4]

Как видно, электронно-лучевое испарение по сравнению с тигельным дает значительно более низкие характеристики прочности. [5]

При лазерном или электронно-лучевом испарении удается испарять вещество из малого объема, достигая высоких локальных температур испарения. При этом отпадает проблема выбора материала испарительной камеры, а также его влияния на испаряемую систему. Использование методов мгновенного испарения заметно уменьшает вероятность фракционного разделения. [6]

Еще одной областью использования электронно-лучевого испарения является нанесение ( при производстве силовых полупроводниковых приборов и фотопреобразователей солнечных батарей) покрытий, которые используются в качестве контактов. [7]

Влияние способа испарения на зависимость микротвердости ( 1, 2 и временного сопротивления ( 3, 4 пле - [ IMAGE ] Диаграммы растяжения пленок. [8]

Необходимо подчеркнуть, что при электронно-лучевом испарении вследствие увеличения ресурсов пластичности появляется возможность существенного снижения температуры осаждения и, следовательно, повышения уровня прочности. [9]

Общий вид разделительной ячейки в АВЛИС-установке. [10]

Это обстоятельство обычно учитывается при электронно-лучевом испарении. [11]

Технологическая схема процесса изготовления конденсаторов на основе пятиокиси тантала. [12]

Они создаются либо катодным распылением либо осаждением тонкой пленки тантала электронно-лучевым испарением с последующим его окислением на подложке. [13]

Новые возможности для формирования жаростойких покрытий предоставляют такие способы, как электронно-лучевое испарение, плазменное напыление, в том числе напыление в динамическом вакууме, ионно-плазменное распыление и др. Эти способы используются для нанесения покрытий типа MeCrAlY ( Me - Ni, Co, Fe), причем их толщина может быть 100 мкм. Сплавы системы Me - Сг - А1 являются основой покрытия, а иттрий вводится в небольших количествах ( обычно 1 %) для повышения адгезионной прочности оксидной пленки, формирующейся при окислении. Покрытия системы FeCrAlY перспективны для защиты деталей от газовой коррозии при температурах 700 С. [14]

Работа по обслуживанию иногда проводится на внутренней поверхности камер осаждения системы электронно-лучевого испарения, называемых колпаками. Когда техники, занимающиеся обслуживанием, засовывают свои головы внутрь этих колпаков, они могут подвергнуться значительному воздействию химических веществ. Удаление остатков металлов, оседающих на внутренней поверхности колпаков, могут привести к серьезному воздействию. [15]

Страницы: 1 2 3