Последнее два - процесс
Cтраница 2
Мероприятия по защите металлических поверхностей аппаратов от коррозии под действием охлаждающей воды предусматривают не только выбор коррозионно-стойких металлов, покрытий и обработку воды для снижения ее агрессивных свойств, но и ликвидацию обрастания поверхностей охлаждения и накипеобразования на них. Последние два процесса являются мощными факторами коррозии ( см. гл. [16]
 |
Кузнечно термический цех ( участок. [17] |
Нагревание деталей ведется в электрических или камерных печах, печах-ваннах, а также токами высокой частоты или ацетилено-кислородным пламенем. Последние два процесса нагревания применяются только при закалке. Детали охлаждают при закалке и после отпуска в специальных ваннах, залитых водой или маслом. [18]
Судя по виду Н т (6.39), возможны, вообще говоря, следующие процессы: рассеяние квазичастиц на примесях, рождение и аннигиляция квазичастиц. Однако последние два процесса не могут осуществляться из энергетических соображений. Действительно, для рождения или аннигиляции необходима передача энергии как минимум 2А, в то время как взаимодействие с примесями является упругим. [19]
При этих определениях очень важно установить, что тот участок породы, из которого взят образец, не получил недавнего пополнения водом от дождя или от ирритации и что вода иго него не одарялась и не поглощалась растс-ниями. Эти последние два процесса извлекают воду, удерживаемую молекулярным притяжением вопреки силе тяжести. Если произошло недавнее увлажнение вследствие дождя или ирритации, полученная величина удельной водоотдачи может оказаться слишком малой, ж наоборот - она будет слишком1 высокой, если произошла потеря воды путем испарения или поглощения растениями. Если испытуемая порода находится близ поверхности), на нее влияет годовое колебание температуры, отражающееся на удельном водоудер-жмгии и удельной водоотдаче. Летом удельное водоудержание несомненно бывает наименьшим. [20]
Кривая изменения потенциала медного анода в щелочи с количеством пропущенного электричества имеет три задержки потенциала, отвечающие образованию закиси меди, окиси меди и выделению кислорода. Нами подробно изучались только последние два процесса, так как они имеют решающее значение для получения качественного оксидного покрытия. [21]
Одновременное воздействие на целлюлозу света, влаги и кислорода воздуха приводит к ее деструкции. При этом протекают процессы фотолиза, фотоокисления и фотогидролиза; последние два процесса преобладают. [22]
Только если геометрия состояний X и Y различается, как на рис. 4.7, в, возможен быстрый безызлуча-тельный переход между двумя состояниями с существенно различающимися значениями энергии. В общем случае разность энергий уменьшается в ряду ( Si - S0) ( Ti - S0) ( Si - Т а кинетические константы образуют обратную последовательность, даже если последние два процесса запрещены по спину, Мы отмечали в разд. [24]
Крекинг-процессы, в которых СНГ производятся как полупродукты, являются в основном процессами некаталитического действия. Последние два процесса применяют в основном для производства нефтяного кокса. [25]
Сравнительно высокая реакционная способность каучука и родственных ему соединений, связанная с присутствием в молекулах ненасыщенных групп, позволяет легко проводить модификацию структуры их макромолекул и расширяет круг технических материалов, получаемых на основе этих веществ, а также возможности их применения. Процессы циклизации и гидрохлорирования также приводят к модификации структуры полимеров и сообщают им ценные технические свойства. Последние два процесса являются реакциями, протекающими без разрыва цепи, и, как теперь известно, имеют ионный характер. [26]
Шлам обычно отделяют отстаиванием в течение 2 ч с одновременным орошением оксидата небольшим количеством воды. Хорошие результаты получают при центрифугировании. Но последние два процесса громоздки и трудоемки в заводских условиях из-за образования илистого осадка, быстро заволакивающего фильтрующую поверхность. [27]
Диффузия атомов в твердом теле представляет собой один из процессов направленного перемещения вещества и энергии. Если последние два процесса связаны лишь с перемещением зарядов и энергии, то при диффузии атомов в твердом теле наблюдается направленное перемещение вещества. [28]
Примесный ион, введенный в кристаллическую матрицу, обладает характерной только для него системой дискретных ( штарковских) энергетических уровней, являющейся своеобразным мостом, который обеспечивает физическую связь протекающих в активированной среде разнообразных квантовых процессов с полем излучения. В основе этой связи лежат энергетические переходы между отдельными уровнями активатора, которые и обусловливают поглощение или излучение средой электромагнитной энергии. В своей знаменитой работе Эйнштейн [1] с термодинамических позиций постулировал существование следующих элементарных процессов в квантовой системе с дискретным спектром состояний: спонтанное излучение, индуцированное или стимулированное поглощение и излучение. Последние два процесса возможны только при наличии падающего на вещество электромагнитного излучения. [29]
Сжатие могут вызвать и вязкое течение, и движение дислокаций. Напротив, вещество может переноситься к шейке между частицами по диффузионному механизму. Этот процесс следует подавить, если спекание нежелательно. Испарение и конденсация или поверхностная диффузия приводят к образованию шеек и росту сцепления или прочности, но не вызвшают сжатия. Последние два процесса лишь изменяют форму пор, но не ведут к их сжатию. Обусловленное этими двумя процессами округление пор снижает кривизну шейки между частицами, что в свою очередь уменьшает тенденцию к спеканию. [30]
Страницы: 1 2 3