Поверхностная диффузия - атом
Cтраница 1
Поверхностная диффузия атомов не приводит к изменению суммарного объема пор. [1]
Происходит в результате поверхностной диффузии атомов, образовавшихся в результате диссоциативной хемосорбции. [2]
Быстрым ( вследствие низких значений энергии активации поверхностной диффузии атомов водорода на неактивных участках поверхности) захватом водородом активных центров, совмещением актов химической реакции и встраиванием выделившихся в результате химической реакции атомов тугоплавкого металла на таких активных центрах объясняется возможность роста правильных кристаллических слоев при столь низких гомологических температурах ( 0 2 - f - 0 3) Тпя. [3]
Это соотношение справедливо безотносительно к тому, каков детальный механизм поверхностной диффузии атомов. [4]
Температура подложки должна быть выше некоторого значения 70, при котором поверхностная диффузия атомов обеспечивает их высокую подвижность. Следовательно, текстуры зарождения могут наблюдаться лишь в определенном интервале температур конденсации Т0 Т 0Ь Здесь, как и ранее ( см. гл. [5]
Это указывает на то, что хемосорбированный кислород разрыхляет поверхность и поэтому уже при низких температурах обеспечивает интенсивную поверхностную диффузию атомов меди. [6]
Переход метастабильной фазы В в стабильную J3 согласно схеме (3.14) может - осуществляться и в результате прямого, неэлектрохимического, превращения, протекающего путем поверхностной диффузии атомов. [7]
При этом происходит одновременно ряд физико-химических процессов: испарение жидкого кремния, смачивание и растекание жидкого кремния по поверхности графита, капиллярная пропитка пористой графитовой основы, поверхностная диффузия атомов кремния по стенкам пор, карбидообразование на межфазной границе и в объеме жидкого кремния, текущего в порах. В связи с этим механизм силицирования весьма сложен и в целбм не совсем ясен. [8]
 |
Хронопо-тенцирграммы меди ( 1, 2, яатуней Cu33Zn ( 3 я Cu28Zn2Al ( 4 при плотности тока 4 10 - 3 А / см2 в растворе 0 1 М НС1 0 01 М СиС12 с добавкой 1 % бензтриазола ( 2 - 4 и без добавки. [9] |
Аналогичным, по-видимому, является и механизм влияния поверхностно-активных веществ на коррозионное развитие поверхности Ag. Замедляя поверхностную диффузию атомов золота, органические добавки препятствуют его рекристаллизации в собственную фазу. [10]
В отношении механизма накопления благородного компонента на поверхности, существуют две точки зрения. Еще более вероятным является процесс поверхностной диффузии благородных атомов, так как скорости поверхностной диффузии могут значительно превосходить скорость объемной диффузии. При JTOM атомы благородного компонента могут кристаллизоваться на поверхности в виде самостоятельной фазы. Нам кажется, что в отношении благородных компонентов ( палладий, платина), термодинамически устойчивых в условиях коррозии, более вероятным является второй механизм. [11]
Такой слой возникает вследствие заметной скорости поверхностной диффузии накапливающихся атомов более стойкого компонента и перекристаллизации их в собственную фазу. [12]
Нулевой порядок реакции можно объяснить, приняв, что в электрохимическом процессе участвует только активная часть поверхности, на которой скорость адсорбции Н2 достигает достаточной величины. На активной части поверхности имеет место адсорбционное равновесие с молекулярным водородом, соответствующее значительному заполнению, а скорость суммарного процесса определяется скоростью некоторой стадии, следующей за адсорбцией, например скоростью ионизации адсорбированного водорода или поверхностной диффузией атомов от центров, на которых происходит адсорбция, к центрам, на которых происходит ионизация. Таким образом, порядок реакции электрохимического окисления водорода зависит в основном от соотношения между скоростями различных стадий процесса. [13]
Обогащение поверхностного слоя сплава атомами более стойкого компонента приводит не только к повышению его концентрации в поверхностном слое твердого раствора, но в ряде условий и к возможному образованию в поверхностном слое новых фаз и интерметаллических соединений. Не исключено также образование в поверхностном слое выделений более электрохимически положительного компонента сплава в виде микрокристалликов собственной фазы. Этот процесс может протекать как в результате поверхностной диффузии атомов более электрополжительного компонента к центрам их кристаллизации, так и вследствие обратного высаживания атомов более электроположительного компонента из раствора. [14]
Для осуществления р О необходимо выполнение двух условий: во-первых, замедленность одной из стадий, следующих за адсорбцией, во-вторых, степень заполнения активной части поверхности должна быть близка к. Нулевой порядок реакции можно объяснить, приняв, что в электрохимическом процессе участвует только активная часть поверхности, на которой скорость адсорбции Н2 достигает достаточной величины. На активной части поверхности имеет место адсорбционное равновесие с молекулярным водородом, соответствующее значительному заполнению, а скорость суммарного процесса определяется скоростью некоторой стадии, следующей за адсорбцией, например скоростью ионизации адсорбированного водорода или поверхностной диффузией атомов от центров, на которых происходит адсорбция, к центрам, на которых происходит ионизация. Таким образом, порядок реакции электрохимического окисления водорода зависит в основном от соотношения между скоростями различных стадий процесса. [15]
Страницы: 1 2