Cтраница 3
С использованием комплексных кислот, образуемых четырех-хлористым оловом, а также хлороловянных и хлороловянистых кислот производятся в промышленном масштабе циклокаучуки9, известные под названиями плиоформ и плиолит NR. Получаются растворимые в бензоле вещества, пластичные при низкой температуре, легко окисляющиеся. [31]
Степень диссоциации комплексных кислот зависит от двух основных факторов. [32]
Соли этой комплексной кислоты - тетрафторобораты ( Ш) металлов обычно хорошо растворимы в воде, применяются в гальванотехнике для приготовления электролитов. [33]
Меньшая прочность комплексной кислоты H2 [ HgJJ хН2О по сравнению с комплексной кислотой H [ HgJ3 ] 4Н2О может быть объяснена ббльшим контрполяризующим действием внешней сферы первого соединения по сравнению со вторым. В первом случае комплексный радикал подвергается поляризующему действию двух водородных ионов в то время, как во втором случае комплексный радикал поляризует только один водородный ион. [34]
В виде комплексных кислот из растворов галогеноводородных кислот извлекается большинство элементов, которые способны образовывать отрицательно заряженные галогенидные комплексы. Например, хорошо экстрагируются Fe ( III), Au ( III), Ga, In, Tl ( III), Sb ( V), V ( V), Pa ( V), Pd ( II), Pt ( IV), U ( VI) и др. В виде одноосновных комплексных кислот элементы хорошо экстрагируются практически всеми кислородсодержащими растворителями. [35]
Кроме самих комплексных кислот, могут экстрагироваться и некоторые их соли, например с литием или кальцием. Так же как и кислоты, соли переходят в органическую фазу только при использовании активных растворителей. [36]
Вследствие образования комплексной кислоты H SnCU ] гидролизу подвергается только одна треть взятого хлорида олова, которая превращается при этом в Sn ( OH) 4 практически полностью. [37]
Устойчивость солей комплексных кислот типа Н2ЭГв, в общем, возрастает по ряду Ti-Zr-Hf и уменьшается по ряду галоидов F - С1 - Вг-I. [38]
Устойчивость солей комплексных кислот типа Н2ЭГб, в общем, возрастает по ряду Ti-Zr-Hf и уменьшается по ряду галоидов F - С1 - 5г - I. Ядерные расстояния Э - Г в ионах TiFg, TiCl и ZrCl равны соответственно 1 92; 2 35 и 2 45 А. [39]
В результате образуется комплексная кислота Н [ IF6 ], фторный аналог НЮз. Дан-дое соединение интересно тем, что в его анионе содержатся только атомы галогенов. [40]
Под последними разумеются комплексные кислоты, комплексный анион которых кроме кислорода содержит несколько атомов другого элсме нта. [41]
Борная кислота образует комплексные кислоты с глицерином и ман-нитом; с рядом других органических реагентов, содержащих гидроксиль-ные группы ( ализарин, хинализарин, пурпурин, хромотроп 2В и др.), в кислой среде - окрашенные комплексы. [42]
В результате образуется комплексная кислота H [ IF6 ], фторный аналог НЮз; получены многие соли этой кислоты. Данное соединение своеобразно тем, что в его анионе содержатся только атомы галогенов. [43]
В результате образуется комплексная кислота H [ IFe ], для которой могут быть получены многие соли. Данное вещество интересно тем, что в его анионе содержатся только атомы галогенов. [44]
В результате образуется комплексная кислота H IF61, фторный аналог Н1СЬ; получены многие соли этой кислоты. Данное соединение своеобразно тем, что в его анионе содержатся только атомы галогенов. [45]