Cтраница 4
Первые две стадии показывают, как образуется поверхностный комплекс СХОУ, третья стадия отражает термический распад поверхностного комплекса, четвертая - разрушение поверхностного тсомплекса за счет удара молекулы СО2 и пятая - процесс десорбции окиси углерода. [46]
При установившихся условиях скорости образования и разрушения поверхностных комплексов равны. [47]
Узел сооружений по подготовке отходов к захоронению поверхностного комплекса является начальным на пути движения отходов в пласт-коллектор. [48]
Разрушение поверхностного пузыря вызывает нарушение взаимной ориентации поверхностных комплексов и влечет за собой перераспределение ионов в поверхностной оболочке. Чем более гидратирован ион, тем меньше силы взаимодействия между ним и соседними ионами. [49]
В стационарном состоянии скорости образования и удаления поверхностных комплексов одинаковы. [50]
В стационарном состоянии скорости образования и разрушения поверхностных комплексов равны. [51]