Концентрация - поле
Cтраница 2
 |
Фазовращатель-удлинитель. а - коаксиальный. б - вояноводный.| Фазовращатель с цир-кулятором. [16] |
При ее перемещении от узкой стенки к центру волновода происходит концентрация поля в месте расположения пластины, что эквивалентно увеличению фазового сдвига. Микрометрический механизм перемещения градуируют в градусах фазового сдвига. [17]
Это понятно, потому что на высоких частотах за счет концентрации поля значительная часть электромагнитной энергии сосредоточена в диэлектрике. [18]
Электростатическая эмиссия значительно усиливается при шероховатой поверхности, что объясняется концентрацией поля у микроскопических выступов этой поверхности. При наличии активирующих, особенно оксидных, покрытий электростатическая эмиссия также усиливается. Помимо уменьшения работы выхода, свойственного оксидному слою, здесь играют роль проникновение внешнего поля в полупроводниковый оксидный слой и шероховатость поверхности оксида. [19]
Последующая серия глубинных срезов ( рис. 23 и 24) иллюстрирует последовательную концентрацию поля максимальных температур в зонах, примыкающих к орогенной системе Кавказа, и экспансии полей относительно низких температур из области древней платформы в область Туран-ской плиты. [20]
Такое расположение плоскостей круговой поляризации обусловлено тем, что на высоких частотах за счет эффектов концентрации поля значительная часть энергии распространяется по диэлектрическим пластинам. К при малых заполнениях плоскости круговой поляризации начинают располагаться вне диэлектрических пластин, приближаясь к центру волновода. Это обусловлено уменьшением эффектов концентрации поля в диэлектрике. [21]
ЕЕ, равной / 2 о - При еще большем удалении от плоскости ЕЕ область концентрации поля также будет иметь размеры, значительно меньшие радиуса первой зоны Френеля. Указанное соотношение между г и WQ и составляет основной признак дифракции Фраунгофера. [22]
 |
Железная магнитная практически нет различия между. [23] |
В сильных полях, однако, использование ферромагнитных материалов становится все менее и менее эффективным для концентрации поля. Вследствие насыщения намагниченность материала не может превысить определенное значение. [24]
Характеристическое сопротивление при больших заполнениях и больших я / А мало зависит от частоты из-за эффекта концентрации поля диэлектрической пластиной. [25]
Как видно из упрощенного рассмотрения картины самовоздействия излучения, крупномасштабная самофокусировка ( КМС) должна приводить к концентрации поля в области максимума интенсивности пучка. Однако дифракция излучения препятствует такой концентрации. Отсюда ясно, что существует такая мощность пучка Р, при которой дифракционное расплывание компенсируется нелинейной рефракцией. [26]
 |
Нормированный критический размер оДКр2 первого высшего типа колебаний ТЕК как функция заполнения при различных е (. [27] |
В самом деле, при малых заполнениях в центре волновода при четном типе колебаний располагается узел напряженности электрического поля - и концентрация поля в диэлектрике проявляется слабо. При дальнейшем росте заполнения концентрация начинает проявляться заметнее. [28]
Из этого уравнения следует, что с ростом толщины диэлектрика ka замедление г стремится к значению У к / е0, следовательно, концентрация поля в диэлектрике увеличивается. [29]
Такой характер зависимости коэффициента замедления от заполнения определяется тем, что заполнение волновода начинается от узких стенок, где напряженность электрического поля минимальна и концентрация поля при малых заполнениях мала. [30]
Страницы: 1 2 3 4 5