Концентрация - акцепторная примесь - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 3
Россия - неунывающая страна, любой прогноз для нее в итоге оказывается оптимистичным. Законы Мерфи (еще...)

Концентрация - акцепторная примесь

Cтраница 3


31 Структурные схемы транзисторов типа р-п - р ( а и п-р - п ( б и их условные обозначения ( в и ( г. [31]

В структуре типа р-п - р исходный монокристалл имеет п-прово-димость. В два наружных слоя его вводятся путем сплавления с примесным элементом ( сплавной триод) либо путем диффузии ( диффузионный триод) атомы акцепторной примеси. Концентрация акцепторной примеси в наружных слоях превышает примерно на два-три порядка концентрацию ранее введенной донорной примеси.  [32]

33 Образование электронно-дырочного перехода путем диффузии сурьмы в р-германий. [33]

Рассмотрим случай, когда в р-германий вводится сурьма. Диффундируя в глубь германия, сурьма создает там некоторую концентрацию донор-ных примесей, меняющуюся в соответствии с полученным решением. Если концентрация акцепторных примесей в исходной пластинке р-типа германия достигает N0, то, когда концентрация сурьмы превысит Л 0, в германии образуется участок / г-типа и возникнет электронно-дырочный переход.  [34]

Рассмотрим случай, когда в р-германий вводится сурьма. Диффундируя в глубь германия, сурьма создает там какую-то концентрацию донорных примесей, меняющуюся в соответствии с полученным решением уравнения. Если концентрация акцепторных примесей в исходной пластинке р-типа германия достигает N0, то когда концентрация сурьмы с превысит NO, в германии образуется участок - типа и возникает электронно-дырочный переход.  [35]

36 Межзонные переходы в р - / г-перехо-де из вырожденных полупроводников при прямом смещении.| Конструкция лазера на р - - переходе и спектр его излучения. [36]

Во-первых, уменьшится Eg и, во-вторых, уровень Ферми будет расположен в разрешенной зоне. Аналогичные изменения произойдут и при увеличении концентрации акцепторной примеси в полупроводнике р-типа, но уровень Ферми будет расположен в валентной зоне. Такие полупроводники называются вырожденными вследствие того, что электроны ведут себя подобно вырожденному электронному газу.  [37]

38 Локальная диффузия примеси. [38]

Во время второй диффузии в полученный р-слой, но уже на меньшую глубину вводится донорная примесь и образуется n - слой. В результате получается трехслойная структура. Очевидно, что концентрация донорной примеси, вводимой при второй диффузии, должна быть больше концентрации акцепторной примеси, вводимой при первой диффузии.  [39]

На одну сторону накладывают фольгу из подходящего сплава ( например, золотую), содержащую немного сурьмы, в то время как другую прикрывают алюминиевой фольгой. При нагревании держателя до 600 - 700 С золото с сурьмой с одной стороны и алюминий с другой сплавляются с кремнием, проникая на глубину, определяемую температурой и толщиной фольги. Если осторожно охлаждать держатель, жидкий сплав кремния с золотом, содержащий как акцепторные, так и донорные атомы, затвердевает, образуя монокристаллический слой кремния, который растет вследствие взаимодействия твердой и жидкой фаз. Относительно высокая концентрация донорных примесей в расплаве по сравнению с концентрацией акцепторной примеси приводит к образованию слоя с n - проводимостью. На другой стороне кремниевой пластинки охлаждается расплав кремния с алюминием, образуя подобным же образом р - р-переход. Часто со стороны алюминия прикладывают также переходную пластинку. В этом случае слой алюминия с кремнием служит припоем.  [40]

41 Энергетические диаграммы кремния р-типа ( а и двуокиси кремния ( б. [41]

Имеет место также другой механизм, способствующий образованию первоначального инверсного слоя. Он обусловлен разностью работ выхода кремния, двуокиси кремния и материала затвора. Рассмотрим сначала искривление энергетических зон на границе раздела полупроводник - диэлектрик, вызванное разностью работ выхода кремния и двуокиси кремния. Однако следует иметь в виду, что работа выхода зависит от концентрации легирующей акцепторной примеси, так как уровень легирования определяет положение уровня Ферми. Работа выхода двуокиси кремния 7psio, для слоев толщиной 1500 - 6000 А составляет - 4 4 эВ, причем двуокись кремния проявляет свойства полупроводника n - типа.  [42]



Страницы:      1    2    3