Cтраница 2
В табл. 14 - 4 представлены ориентировочные сведения о взаимодействии материалов испарителей с некоторыми металлами при температурах их испарения. [16]
Во всех случаях применения подогревного испарителя происходит химическое взаимодействие испаряемого вещества с материалом испарителя. Степень этого взаимодействия может быть малой, но полностью его исключить невозможно. Особенно велика химическая активность при испарении кремния даже при умеренных температурах, а также никеля, железа и кобальта, легко образующих эвтектические сплавы с тугоплавкими металлами. [17]
Разложение испаряемых в вакууме окислов может быть следствием химического взамодействия окислов с материалом испарителя. Такое взаимодействие протекает с большой скоростью при использовании в качестве материала испарителя графита или тугоплавких металлов. Для предотвращения или по крайней мере для резкого снижения скорости процесса восстановления окислов материал испарителя часто покрывают платиной. При использовании угольных испарителей процесс восстановления сопровождается образованием карбида соответствующего металла и окиси углерода. [18]
Наиболее распространены водоох-лаждаемые тигли, которые позволяют избежать взаимодействия испаряемого материала с материалом испарителя, а также позволяют испарять самые тугоплавкие материалы. С помощью электронно-лучевого нагрева трудно осуществлять испарение диэлектрических материалов из-за накопления на испаряемом материале электрического заряда. Наличие заряженных частиц, в том числе и вторичных электронов, приводит к необходимости принятия мер предосторожности против - попадания их на подложку, что может привести к пробоям по поверхности подложки. [19]
Таким образом, в ряде случаев необходимо пересматривать известные рекомендации [61] по выбору материала испарителей, так как взаимодействие металла с огнеупором носит сложный характер и изучено недостаточно. [20]
Испарение целого ряда тугоплавких окислов из резистивного испарителя оказывается невозможным из-за реакции окисла с материалом испарителя при высокой температуре и термической диссоциации. Для испарения таких тугоплавких материалов как SiO2, A12O3) MgO и др. применяют элек-тронный луч. Однако, несмотря на высокую 20 30 US скорость осаждения ( до 2400 нм / мин для 4.16. Вольт-ампер - Si 2) ПРИ напылении все же возможна дис-ные характеристики кон - социация испаряющегося материала. [21]
Следует, однако, помнить, что некоторые металлы ( например, А1) образуют с материалом испарителя сплавь с низкой температурой испарения. В связи с этим для испарителей таких металлов следует подбирать определенное соотношение сечений материала испарителя и испаряемого вещества. Для А1 применяются испарители в виде множества вольфрамовых проволочек, обладающие значительно большей смачивающей поверхностью. [22]
Искажение в результаты анализа может внести разложение антиоксиданта, происходящее за счет загрязнений испарителя, каталитического действия материала испарителя и колонок, а также носителя. Для проверки и исключения подобных ошибок перед началом работы следует проанализировать искусственную смесь наиболее неустойчивого из определяемых антиоксидантов со стандартом. Полученная при этом хроматограмма изучается, определяется правильность формы пика антиоксиданта ( отсутствие размывания переднего и заднего фронтов пика, отсутствие ложных пиков) и рассчитывается состав пробы с учетом поправочных коэффициентов, который затем сравнивается с составом взятой искусственной смеси. Свежеприготовленный сорбент и колонка, как правило, дают неудовлетворительные результаты по первым пробам, так как при этом происходит насыщение каталитически и адсорбци-онно активных центров сорбента и материала стенок колонки. После того как эти центры насыщаются ( за счет первых проб), проводят вышеуказанное испытание на искусственной смеси и приступают к анализу. [23]
Примесями в пленке могут быть атомы остаточного газа, захваченные при формировании пленки, а также продукты возгонки материала испарителя. [24]
Из таблицы видно, что степень дисперсности структуры особенно высокая в конденсатах Ni, в которые попадала примесь материала испарителя. В них блоки-кристаллиты в 3 - 5 раз меньше, чем в автотигельных и бестигельных конденсатах при практически такой же температуре подложки. Различия в их размерах ОКР обусловлены различиями в степени вакуума. [25]
В табл. 2.1 перечислены материалы испарителей, которые рекомендуются при испарении соответствующих металлов с учетом общих требований к материалам испарителей. [26]
Испаряемый материал обычно удерживается на проволочных испарителях силами адгезии, поэтому испаряемый материал в жидком состоянии должен хорошо смачивать материал испарителя. Однако при хорошем смачивании материала подогревателя испаряемым материалом всегда имеет место более или менее активное взаимодействие между этими веществами, что в конечном счете приводит к разрушению испарителя. Этим и объясняется относительная недолговечность проволочных испарителей. Большим недостатком этих испарителей является также то, что при помощи их очень трудно проводить испарение порошкообразных диэлектрических материалов. [27]
В этой связи следует рассматривать неравновесные пленки, которые содержат микропримеси, попадающие в конденсат в процессе осаждения и являющиеся продуктом взаимодействия расплавленного металла с материалом испарителя. Так, исследованные пленки меди и никеля, препарированные испарением из алундовых тиглей, содержат 10 - 3 % ( объемн. [28]
Несомненную роль в процессах атомизации играет состав атмосферы аналитической зоны, зависящей от рода защитного газа, присутствия в нем малых примесей других газов или паров материала испарителя и анализируемой основы. При этом обнаруживаются новые, не известные ранее эффекты. Эксперименты [37] показывают роль кинетики в механизме газофазных процессов при непламенной атомизации. [29]
Получение диэлектрических пленок для тонкопленочных конденсаторных структур на основе метода термического испарения встречает принципиальные трудности, связанные с тремя побочными явлениями: диссоциация окислов при испарении, взаимодействие с материалом испарителя и фоновой атмосферой, поляризационный захват примесей. [30]