Cтраница 3
Слои системы полимер - - диазид обычно получают следующим образом: первоначально растворяют полимер в подходящем растворителе и добавляют диазид, затем полученный раствор наносят на подложку и сушат до удаления растворителя. Очевидно, что молекулы диазнда в слое могут оказаться в граничных областях смежных макромолекул только в том случае, если они и в растворе находились между макромолекул-клубков и не проникали в последние. Поскольку для получения слоев готовят довольно высоко концентрированные растворы полимеров ( 5 - 30 %), то вероятность такого события в случае большинства полимеров невелика и в полученных слоях при облучении не происходит образования молекулярной сетки. [31]
В настоящей работе проведена перегруппировка диазидов пири-дин-2 5 - и пиридин-2 6-дикарбоновых кислот в бензоле и толуоле с целью получения пиридиндиизоцианатов для изучения их реакционной способности и выяснения возможности применения в синтезе полиуретанов. [32]
В отличие от композиций с диазидом I и другими сопряженными диазидами, указанные системы нечувствительны к кислороду, а из-за их спектральных свойств работа с ними может проводиться целиком при обычном дневном освещении помещений. Нанесение композиции на SiO2 / Si и проявление экспонированного Хе-Hg - лампой слоя проводят с помощью органических растворителей; диазидодифенилсульфид придает слою светочувствительность, в сотни раз превышающую светочувствительность ПММА, она приближается к светочувствительности сенсибилизированного поли-метилизопропенилкетона и обычных негативных фоторезистов. Однако разрешающая способность резиста мала, она ограничена деформациями, вызываемыми набуханием слоя при проявлении. Набухание, а следовательно, и деформации отсутствуют при проявлении щелочью экспонированных композиций азидов и полимеров с арилгидроксигруппами, что обеспечивает субмикронное разрешение. [33]
В отличие от композиций с диазидом I и другими сопряженными диазидами, указанные системы нечувствительны к кислороду, а из-за их спектральных свойств работа с ними может проводиться целиком при обычном дневном освещении помещений. Нанесение композиции на SiOj / Si и проявление экспонированного Хе-Hg - лампой слоя проводят с помощью органических растворителей; диазидодифенилсульфид придает слою светочувствительность, в сотни раз превышающую светочувствительность ПММА, она приближается к светочувствительности сенсибилизированного поли-метилизопропенилкетона и обычных негативных фоторезистов. Однако разрешающая способность резиста мала, она ограничена деформациями, вызываемыми набуханием слоя при проявлении. Набухание, а следовательно, и деформации отсутствуют при про-явле нии щелочью экспонированных композиций азидов и полимеров с арилгидроксигруппами, что обеспечивает субмикронное разрешение. [34]
Фотолитический процесс приводит в этих диазидах к различным продуктам фотолиза. [35]
Однако наибольший практический интерес представляет часть диазидов второй группы - на основе циклоалканонов. [36]
Промышленность выпускает ряд составов на основе диазида I и полиметилизопропенилкетона. Их проявляют смесью циклогек-сана и 2-нитропропана. [37]
Характер изображения, получаемого при помощи п-хинон - диазидов, зависит от строения диазосоединений и методов обработки экспонированного материала и может быть как позитивным, так и негативным. [38]
В отличие от композиций с диазидом I и другими сопряженными диазидами, указанные системы нечувствительны к кислороду, а из-за их спектральных свойств работа с ними может проводиться целиком при обычном дневном освещении помещений. Нанесение композиции на SiO2 / Si и проявление экспонированного Хе-Hg - лампой слоя проводят с помощью органических растворителей; диазидодифенилсульфид придает слою светочувствительность, в сотни раз превышающую светочувствительность ПММА, она приближается к светочувствительности сенсибилизированного поли-метилизопропенилкетона и обычных негативных фоторезистов. Однако разрешающая способность резиста мала, она ограничена деформациями, вызываемыми набуханием слоя при проявлении. Набухание, а следовательно, и деформации отсутствуют при проявлении щелочью экспонированных композиций азидов и полимеров с арилгидроксигруппами, что обеспечивает субмикронное разрешение. [39]
В отличие от композиций с диазидом I и другими сопряженными диазидами, указанные системы нечувствительны к кислороду, а из-за их спектральных свойств работа с ними может проводиться целиком при обычном дневном освещении помещений. Нанесение композиции на SiOj / Si и проявление экспонированного Хе-Hg - лампой слоя проводят с помощью органических растворителей; диазидодифенилсульфид придает слою светочувствительность, в сотни раз превышающую светочувствительность ПММА, она приближается к светочувствительности сенсибилизированного поли-метилизопропенилкетона и обычных негативных фоторезистов. Однако разрешающая способность резиста мала, она ограничена деформациями, вызываемыми набуханием слоя при проявлении. Набухание, а следовательно, и деформации отсутствуют при про-явле нии щелочью экспонированных композиций азидов и полимеров с арилгидроксигруппами, что обеспечивает субмикронное разрешение. [40]
В ряде патентных разработок последних лет по-прежнему основой азидсодержащих фоторезистов являются диазид I и циклокаучук. В то же время предлагаются различные способы совершенствования качества фоторезистного слоя. [41]
Вводят в обычную композицию позитивного фоторезиста ( 15 - 25 % диазида, 65 - 85 % НС) 6 - 10 % от массы компонентов слоя продукта кислотно-катализируемой конденсации 2 4-ди -; или 2 4 6 -, 2 3 4 -, 2 4 4 -три -; 2 3 4 4 -тетра-гпдроксибензофенона и формальдегида [ пат. ФРГ 2847878 ]; добавка гидрокспбензофенонсвпй смолы повышает светочувствительность на 76 / о, при этом другие параметры слоя не ухудшаются. [42]
Вводят в обычную композицию позитивного фоторезиста ( 15 - 25 % диазида, 65 - 85 % НС) 6 - 10 % от массы компонентов сЛоя продукта кислотно-катализируемой конденсации 2 4-ди -; или 2 4 6 -, 2 3 4 -, 2 44 -три -; 2 3 4 4 -тетра-гидроксибензофенона и формальдегида [ пат. ФРГ 2847878 ]; добавка гидроксибензофеноновой смолы повышает светочувствительность на 76 %, при этом другие параметры слоя не ухудшаются. [43]
Композиции очувствляются диазидом I и 4 4 -диазидостильбен - 2 2 -дисульфокислотой ( диазидом III) [ пат. [44]
Как связующее в твердых ракетных топлнвах предложены полимеры на основе дицианфуроксана и органических диазидов ( ср. [45]