Облучение - пленка - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 2
Ты слишком много волнуешься из-за работы. Брось! Тебе платят слишком мало для таких волнений. Законы Мерфи (еще...)

Облучение - пленка

Cтраница 2


Засветка производится путем облучения пленки светом двух электрических ламп накаливания мощностью по 500 ватт, расположенных на расстоянии 1 м от пленки.  [16]

Засветка производится путем облучения пленки светом двух электрических ламп накаливания мощностью по 500 вт, расположенных на расстоянии 1 м от пленки.  [17]

При небольшой интенсивности облучения пленки из фторопласта увеличиваются в объеме без изменения основных геометрических форм даже при высокой степени прививки. При десятикратном увеличении веса ( степень прививки выше 10) пленки деформируются.  [18]

Показано, что при облучении пленок полисульфона УФ-излучением с интенсивностью потока 8 4 103 кДж / см2 при 423 К в вакууме 6 65 Па температура хрупкости и жесткость материала повышаются, растворимость снижается, изменяется молекулярно-массовое распределение, образуется нерастворимая часть полимера. С увеличением толщины пленки количество гель-фракции, образующейся при облучении, уменьшается. Поскольку обнаружилось появление нерастворимой фракции, что можно объяснить образованием поперечных связей, было определено изменение соотношения вероятности разрыва макромолекул и образования поперечных связей. С увеличением толщины пленки это соотношение возрастает.  [19]

В случае использования изотопа 14С облучение пленки длится от 1 до 7 дней. При использовании трития хроматограммы экспонируют более одной недели; если в состав определяемого вещества входит 32Р яли 13iJ, то хорошие радиоаутограммы можно получить за 0 5 - 6 час. Описываемый метод обеспечивает разрешение, аналогичное разрешению исходной хроматограммы. Количественную оценку полученных фотографий обычно проводят методом денситометрии. В связи с длительностью анализа аутогра-фический метод постепенно вытесняется другими, более быстрыми способами детектирования.  [20]

21 Изменение веса привитого сопэлимсра стирола и политетрафторэтилена в зависимости от продолжительности и интенсивности у-облучс. [21]

Полимакроради-калы, образующиеся в результате облучения пленок полимеров, характеризуются длительной жизнеспособностью, что объясняется их громоздкостью и высокой вязкостью средь, в которой они возникают. Такие пленки, будучи введены в мономер, инициируют не только привитую сополимеризацию, но и гомополи-меризацию. Облучение пленок в вакууме способствует повышению концентрации полимакрорадикалов, поскольку предотвращается их взаимодействие с кислородом.  [22]

Более эффективно получение привитого полимера путем облучения пленки в парах мономера.  [23]

24 Дихроизм в электронных спектрах поглощения ориентированных пленок ПВХ при параллельном ( II и перепен-дикулярном ( L к оси ориентации направлении поляроида. Цифры на кривых - степень вытяжки ( О - неориентированная пленка.| Дихроизм в электронных спектрах поглощения ориентированных и неориентированных пленок ПАН после ИК-облучения. [24]

Те же явления наблюдаются и при облучении пленки ПАН ИК-светом.  [25]

26 Схема технологического процесса получения ядерных. [26]

Организованное в СССР производство ядерных фильтров включает облучение пленок ( в основном полиэтилентерефталатных) ионами ксенона с интенсивностью пучка 1013 ионов / с и последующее травление растворами щелрчей.  [27]

Подробные исследования фотопревращения полиэти-лентерефталата [271-276] показали, что облучение пленок в вакууме светом с длиной волны 400 - 420 нм приводит к образованию СО и СО2 и накоплению СООН-групп в полимере. При облучении на воздухе возрастает количество образующегося диоксида углерода с соответствующим увеличением ( до 8 7) квантового выхода этого продукта. В этом случае все фотохимические превращения также локализованы в поверхностных слоях толщиной 0 17 - 0 19 мкм. В результате процессов, происходящих на поверхности при фотолизе или фотоокислении изменяются механические свойства. На основании детального исследования состава продуктов и кинетики их образования высказаны предположения о механизме протекающих реакций.  [28]

Как правило, квантовый выход разрыва цепи при облучении пленок аморфных или кристаллич. В последнем случае заметную роль играет также тип растворителя.  [29]

Как правило, квантовый выход разрыва цепи при облучении пленок аморфных или кристаллич. В последнем случае заметную роль играет также тин растворителя.  [30]



Страницы:      1    2    3    4    5