Пленка - хром
Cтраница 1
Пленки хрома, как и большинство резистивных пленок чистых металлов, состоят из относительно чистых островков металла в матрице изолирующей окиси хрома. Обнаружено ( рис. 8), что пленки с минимальным удельным сопротивлением могут быть получены только при одном сочетании температуры подложки и скорости осаждения. [2]
Пленка хрома, используемого в качестве контактного слоя, образует с кремнием невыпрямляющий контакт и обеспечивает хорошую адгезию наносимого на нее последующего слоя металла. Недостатком хрома является то, что, как и алюминий, он активно взаимодействует с SiO2 при температурах выше 470 К. Кроме того, пленки хрома обычно находятся в напряженном состоянии и достаточно пористы. [3]
Поскольку пленка хрома на стекле тонка, во время травления ширина линии рисунка ( в) не будет увеличиваться более чем на 0 1 мкм с каждой стороны. Оптическая плотность D рисунка изменяется от нуля на прозрачных ( вытравленных) участках до полной плотности непрозрачного хрома на длине 0 1 мкм. [4]
Адгезия пленок хрома, полученных из паровой фазы, очень высока и зависит от чистоты подложек так же, как и при других методах осаждения. При хорошей подготовке образцов адгезия настолько нелика, что пленка хрома отрывается от подложки ( ситалл, стекло, кварц, сталь, алюминий и др.) лишь вместе с частицами подложки. Авторы работы [413] обращают внимание на то, что особенно важна предварительная обработка полированных стекол, так как их поверхность песет электрический заряд, прочно удерживающий мелкие частицы пыли, что и является причиной пористости покрытий. Обезжиривание стеклянных подложек в чстыреххлористом углероде и обработка it парах изопропилового спирта позволяют значительно улучшить качество поверхности и создать благоприятные условия для получения прочного покрытия хрома. По данным работы [413], различие в коэффициентах термического расширения стекла и осаждаемого металла начинает сказываться при толщинах пленки хрома порядка 7 мкм, если процесс металлизации проводится при 400 С, и порядка 3 мкм - при температуре 600 С. В этом случае металлическое покрытие растрескивается, а дальнейшее увеличение толщины приводит к отслаиванию покрытия вместе со стеклом. [5]
Напыление пленки хрома производится в высоком вакууме ( до 1 10 6 мм рт. ст.) при скорости напыления 5 - 10 А / с предпочтительно с использованием планетарного вращения подложек для получения равномерной по толщине пленки и подавления роста крупных кристаллов. [6]
Широко распространены пленки хрома и тантала. Сплавы, из которых наиболее часто используют нихром, имеют большее значение ps по сравнению с пленками чистых металлов. На основе керметов, в состав которых входят хром и монооксид кремния, получают высокоомные резисторы. В зависимости от содержания хрома можно получить резистивные пленки, обладающие высокой стабильностью с удельным сопротивлением от сотен ом на квадрат до десятков килоом на квадрат. Однако в связи с тем что свойства керметных пленок в сильной степени зависят от технологических факторов, резисторы имеют худшую воспроизводимость номиналов и больший ТЮ. [7]
Так разрушаются пленки хрома, никеля, железа на меди, пленки меди, никеля, хрома, цинка на алюминии, пленки никеля на олове и свинце, пленки же относительно мягкие ( Ag, Zn, Cu, Cd, Sn - на меди, Cd и Sn на алюминии) деформируются вместе с металлом, не разрушаясь. Следует иметь в виду, что свойства пленок зависят от метода их получения и при других способах покрытия могут измениться. [8]
Значительная окисленность пленок хрома и снижение качества хромовых фотошаблонов могут быть вызваны недостаточной очисткой подложки, наличием на ней адсорбированных газов и паров воды, низкой скоростью осаждения хрома и заполнением вакуумной камеры после напыления воздухом при сравнительно высокой температуре подложки. [9]
 |
Схема изготовления легкого зеркала. [10] |
Покрытие состоит из пленки хрома толщиной 6 нм и защитного слоя SiO толщиной 6 - 25 мкм. [11]
Учитывая особенности mi политических пленок хрома, а именно высокую адгезию к подложке, повышенную механическую прочность, а также простоту нанесения тонких пленок хрома на стекло, можно ожидать, что такие хромовые покрытия могут быть использованы в производстве фотошаблонов. Действительно, в работах 178, 179 ] показана возможность использования бцс-ареновых соединений хрома для изготовления долговечных фотошаблонов. [12]
Для изготовления резисторов используют пленки хрома, нихрома, тантала, а также различного рода сплавов и металлокерами-ческих смесей, для изготовления конденсаторов - моноокись кремния, моноокись германия, окислы тантала и пленки органического происхождения, а для получения проводников и контактных площадок - медь, алюминий, золото, никель и другие материалы. [13]
Чтобы обеспечить прочное сцепление пленки хрома со сплавом-основой ( например, сплав типа 5ОН), применяется двойное покрытие: сначала никелем, а затем хромом, при толщине каждого слоя 2 5 мк. Затем покрытая деталь нагревается в атмосфере сухого водорода до 1 200 С в течение 5 мин, что обеспечивает взаимодиффузию двойного покрытия и сплава. После диффузионной обработки поверхностная пленка содержит около 20 % хрома и оказывается прочно связанной с металлом. [14]
Лнторы [409] отмечают, что штролитические пленки хрома также вели себя в растворах кислот, как и пленки электролитического хрома, если их поверхность была очень шероховатой. [15]
Страницы: 1 2 3 4