Пленка - хром
Cтраница 4
Пленки молибдена, полученные при термическом разложении бис-ареповых и арснтрикарбопильных соединений, содержат больше углерода, чем пленки хрома, полученные в тех же условиях из аналогичного типа соединений. Причем повышение температуры в большей степени влияет на содержание углерода в пленках, чем в случае МОС хрома. Полученные термическим разложением МОС пленки хрома обладали значительной механической прочностью и твердостью, повышенной коррозионной и кислотной стойкостью, что отличало их от пленок хрома, получаемых термическим испарением хрома в вакууме. [46]
Меньшая толщина debris - слоя при наличии на поверхности металла окисной пленки, в отличие от других инородных пленок например, пленок хрома и алюминия), объясняется тем, что окисная пленка представляет эпитаксильный слой с ориентировками кристаллических плоскостей, параллельными таковым в подложке, с небольшим отклонением в периодах решетки. В результате этого хотя такая пленка и требует для выхода дислокаций на ее поверхность большего их числа в скоплениях перед пленкой, чем при отсутствии последней, все же выход дислокаций на поверхность пленки осуществляется легче, чем в случае инородных пленок, состоящих не из окислов металлов подложки и имеющих существенное различие в строении по отношению к подложке. [47]
Электронографические исследования показали, что в пленках, полученных разложением ареновых я-комнлексов молибдена, присутствует карбид молибдена Мо2С и, в отличие от аналогичных пленок хрома, отсутствуют окислы. Электронно-микроскопические исследования пленок молибдена показали, что они в основном состоят из беспорядочно ориентированных зерен размером 100 - 200 А. [48]
Хромированные фотошаблоны обладают также более высокой разрешающей способностью, которая позволит обеспечить высокую степень интеграции элементов на пластине за счет вытравливания изображения на пленке хрома без существенных искажений размеров. [49]
В работах [340, 353, 433] при разложении большого числа бис-ареновых и арепкарбонильных соединений хрома установлено, что при проведении процесса в интервале температур 400 - 500 С пленки хрома содержат от 1 до 10 % углерода и от 0 3 до 0 5 % водорода. Содержание углерода возрастает с накоплением алкильных заместителей в ароматическом ядре я-комплекса и при переходе от ареновых соединений хрома к арентрикарбонилытым. Количество углерода в пленках увеличивается и с повышением температуры разложения соединений. [50]
Изготовление эталонного фотошаблона непосредственно на микрофотонаборной установке ЭМ-519Б или ЭМ-549 позволяет получить размеры электродов 5 - 10 мкм как на фотоэмульсии, так и на пленке хрома. Такие размеры соответствуют рабочим частотам фильтров ПАВ около 70 - 90 МГц с расщепленными и 140 - 180 МГц с нерасщепленными электродами. [51]
Описанная методика качественного анализа использована для определения примесей в образцах олова, серебра, германия, железа, ванадия, кремния, алюминия, углерода и пленок хрома, кремния и лантана. Все обнаруженные на масс-спектрограмме пики соответствуют одно -, двух - и трехзаряд-ным положительным атомарным ионам. Более сложных ионов на масс-спектрограмме обнаружено не было. [52]
Толщина debris - слоя для образцов с металлокерамическим покрытием принята равной 900 мкм на основании результатов измерения плотности дислокаций в монокристаллических образцах из алюминия, покрытых пленкой хрома, в которых наблюдалась более высокая плотность дислокаций ( на расстоянии 2 мм от поверхности) по сравнению с таковой на образцах без пленки. В пол и кристаллических образцах наличие границ зерен должно затруднять распространение повышенной плотности дислокаций во внутренние объемы, так как скольжение в этом случае связано со скоплениями дислокаций у границ зерен. Вследствие различия ориентировки кристаллографических плоскостей при одном и том же приложенном напряжении в активных плоскостях скольжения смежных зерен будет различная плотность дислокаций, лоэтому при увеличении расстояния от поверхности в поликристаллическом металле плотность дислокаций должна убывать интенсивнее, чем в монокристалле, В связи с этим толщина debris - слоя в образцах с металлокерамическим покрытием принята равной 900 мкм, что удовлетворительно согласуется с зависимостью (4.6) при обработке результатов испытаний на ползучесть образцов из стали Q6X16H9M2 различных диаметров. [53]
Другим недостатком металлизированных фотошаблонов, прес-сущих и фотоэмульсионных, является невозможность визуального наблюдения при совмещении экспонируемой подложки с фотошаблоном перед экспонированием ввиду непрозрачности участков, закрытых пленкой хрома. [54]
 |
Марки и химический состав ( в процентах металлического хрома. [55] |
В зависимости от толщлны пленки и условий ее осаждения ( скорость осаждения, температура подложки, давление и состав остаточных газов в камере) р и оц пленок хрома может изменяться в довольно широких пределах. [56]
В зависимости от толщины пленки и условий ее осаждения ( скорости осаждения, температуры подложки, давления и состава остаточных газов в камере) р и ар пленок хрома может изменяться в довольно широких пределах. [57]
Перед впаиванием остеклованного молибдена в стеклянную трубку или непосредственно в стеклянный прибор, если спай оксидный, свободную от стекла часть ввода иногда хромируют электрохимическим способом, защищая окисную пленку от испарения пленкой хрома толщиной 0 1 мм. После впаивания и охлаждения слой хрома удаляют, растворяя в концентрированной соляной кислоте или смывая раствором нитрата натрия. [58]
Страницы: 1 2 3 4