Cтраница 2
Хорошие результаты дает двухслойное нанесение пленок хрома с извлечением на воздух после нанесения первого слоя. Видимые проколы в таких пленках не наблюдаются. [16]
Таким образом, высокая прочность пленок хрома является основной причиной значительного увеличения напряжений течения композиций. [18]
Как уже отмечалось ранее [409], пленки хрома, полученные при разложении быс-бензолхрома, содержат также и кислород. Именно наличием в пленках хрома окиси хрома авторы [433] объясняют тот факт, что в отличие от молибденовых хромовые пленки обладают чрезвычайно высокой коррозионной и кислотной стойкостью. Совместным присутствием карбидов и окислов хрома в пиролитических пленках хрома, очевидно, объясняется и их повышенная твердость и механическая прочность. [19]
В работе [353] исследованы условия получения пленок хрома термическим разложением широкого круга нейтральных ш / оареновых соединений хрома. [20]
Таким образом, показана возможность получения пленок хрома термическим разложением в паровой фазе большого числа хроморгапических соединений разных типов. Для каждого соединения хрома предпочтительна своя температура разложения. Нижний предел температуры подложки обусловлен температурой разложения соединения и в общем случае выше ее на 100 - 150 С. Верхний предел температуры подложки определяется также свойствами хроморганического соединения. При слишком высоких температурах органическая часть молекулы соединения будет разлагаться с образованием углерода, метана, этана и способных к полимеризации углеводородов, таких, как этилен и ацетилен, которые загрязняют осаждаемый хром. Оптимальной температурой процесса следует, вероятно, считать температуру на 75 С выше, чем температура разложения соединения. [21]
Напомним, что образование у катода пленки хромовокислого хрома используется при получении хлорноватистокислого натрия и других окисленных соединений для предотвращения катодного восстановления этих продуктов. Для этого к электролиту добавляют хромовокислые или двухромовокислые соли. [22]
Этот факт объясняется наличием в пиролитическнх пленках хрома окислов хрома, углерода и углерода в виде карбидов. Такая повышенная стойкость этих пленок делает затруднительным применение травления для получения требуемых рисунков в процессе фотолитографии. Повышение же температуры процесса травления приводит к разрушению фоторезиста и нарушению геометрии получаемого рисунка. Для создания точного рисунка на металлическом хроме был применен метод зонного электролитического травления [178], который дает качественные контролируемые результаты. Этот метод заключается в постепенном погружении образца под током при комнатной температуре в ванну, наполненную двумя нссмепшвающимися жидкостями. Верхний слой - 5 % - иый водный раствор соляной кислоты ( толщина 3 - 4 мм), нижний - токопепроводящий слой четыреххлористого углерода в количестве, необходимом для полного погружения образца. Образец в электролит подается автоматически. Применении этого метода травления дает возможность точно воспроизвести необходимый рисунок на зеркале хрома. При этом исключается подтравливапие и нарушение отдельных участков схемы путем введения обработанной части рисунка в токоиепроводящую среду. [23]
При создании контактных систем Сг - Аи пленки хрома и золота наносятся методом последовательного термического испарения навесок из молибденового или танталового тиглей. После нанесения пленки хрома наносят слой, содержащий хром и золото, а затем пленку чистого золота. Толщина пленки хрома обычно составляет - 100 нм, а пленки золота - - 300 нм. Улучшения свойств омической контактной системы Сг - Аи достигают термообработкой при Т 1170 К. [25]
По мнению других исследователей, высокая стойкость пленок хрома к воздействию агрессивных сред объясняется непосредственно составом образующихся покрытий. Основной примесью в пиролитических пленках хрома является углерод. Причинами загрязнения пленок хрома углеродом являются более глубокая деструкция исходного соединения, вторичные процессы пиролиза отщепляющихся лигандов, протекающие одновременно с разрывом связи металл-кольцо и катализируемые выделяющимся металлом. Согласно [417], источником углерода для образования карбидов являются органические соединения, сопутствующие основному продукту при его синтезе. [26]
Как правило, полученные в оптимальных условиях пленки хрома были сплошными и равномерными. При малых толщинах пленка повторяет рельеф поверхности. При увеличении толщины относительно неровная поверхность покрывается равномерной светлой пленкой хрома. Пленки хрома обычно обладают высокой отражательной способностью и имеют зеркальный вид. [27]
В табл. 3 приведено содержание углерода в пленках хрома, полученных по реакции термораспада бисэтилбензолхрома в потоке газа-носителя. [28]
У платиновых пленок они были выше, чему пленок хрома, но более чувствительны к изменениям температуры. [29]
По-видимому, следует считать, что углерод в ппролитических пленках хрома присутствует одновременно в свободном состоянии и в связанном - и форме карбидов. [30]