Различная кристаллографическая плоскость - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Если у вас есть трудная задача, отдайте ее ленивому. Он найдет более легкий способ выполнить ее. Законы Мерфи (еще...)

Различная кристаллографическая плоскость

Cтраница 1


Различные кристаллографические плоскости одного и того же кристалла могут обладать довольно различной каталитической активностью. Так как каталитические процессы не всегда локализованы в самом поверхностном слое катализатора, а могут происходить и в более глубоких слоях, то возникает вопрос, будет ли катализ определяться ориентацией кристалла или строением внешнего слоя. Так как недавно по этим вопросам был сделан обзор [13], здесь можно ограничиться только их краткой сводкой. Удачные эксперименты Гуотми с сотрудниками [14] ( с 1948 г.), проведенные со сферическими монокристаллами, показали, что в некоторых каталитических реакциях те места сферического образца меди, которые параллельны наиболее плотно упакованным плоскостям ( 111), проявляют самую высокую активность. Поверхность в этих местах остается совершенно гладкой, но она оказывается значительно более шероховатой в тех участках, которые параллельны плоскостям ( 100) и на которых каталитическая реакция идет намного медленнее. Шероховатость приводит к образованию множества небольших граней ( 111) и ( ПО), но не приводит к увеличению скорости реакции.  [1]

Наличие различных кристаллографических плоскостей и направлений, так же как и появление дефектов решетки, несомненно, вызывает неоднородное распределение адсорбционных сил. Эта неоднородность более важна для физической адсорбции, нежели для хемосорбции.  [2]

Скорость окисления различных кристаллографических плоскостей меди, по-видимому, связана с числом возникающих на них ориентировок кристаллов закиси.  [3]

Наличие на поверхности различных Кристаллографических плоскостей, как, например, в порошках, также приводит к неоднородному характеру адсорбции.  [4]

Взаимное расположение атомов на различных кристаллографических плоскостях различно, а также различна и величина межатомных расстояний по разным кристаллографическим направлениям. Так как свойства вещества ( физические, химические и механические) зависят от взаимодействия атомов, то вследствие различия в расстояниях между атомами и их взаимном расположении свойства кристаллов неодинаковы по разным кристаллографическим направлениям. Различие свойств по разным направлениям называется анизотропией, которая характерна для кристаллического строения.  [5]

В таблице приведены значения е для различных кристаллографических плоскостей и направлений оси проволоки.  [6]

Важно отметить, что процессы наслоения на различные кристаллографические плоскости связаны, вообще говоря, с различными выигрышами в энергии. В этом различии также проявляется анизотропия кристаллов.  [7]

А-низотропией называется различие свойств кристаллов в направлениях различных кристаллографических плоскостей.  [8]

Таким образом, измеряя механический момент в различных кристаллографических плоскостях в магнитном поле, можно определить константу энергетической анизотропии монокристалла.  [9]

Характер упаковки молекул и силы межмолекулярных взаимодействий в различных кристаллографических плоскостях простых молекулярных кристаллов приблизительно одинаковы, поэтому одинаковой должна быть и межфазная гиббсова энергия на границе раздела расплава с различными гранями зародыша кристаллизации.  [10]

Коэффициент отражения при Я58 4 нм имеет следующие значения для различных кристаллографических плоскостей ( Ш) монокристалла вольфрама.  [11]

12 Окисление монокристалла меди. [12]

По предположениям Лоулесса и Гуатми [307], неодинаковая скорость окисления различных кристаллографических плоскостей может быть увязана с числом различных эквивалентных возможностей ориентации окисла по отношению к металлу для заданной общей взаимосвязи.  [13]

Можно сделать заключение, что поверхность поликристаллического материала, состоящая из различных кристаллографических плоскостей, является неоднородной вследствие того, что разные грани кристаллов характеризуются различными тепло-тами адсорбции. Но, как мы видели из данных по работам выхода на вольфраме, эти различия не очень велики. Поэтому указанная неоднородность, по-видимому, обусловливает только некоторую часть наблюдаемого уменьшения теплот хемосорбции с увеличением степени заполнения, но не весь эффект в целом.  [14]

15 Молекулы СО, адсорбированные на поверхности ( 111 никеля ( а - 0 33 в 0 5. б - в 0 57, насыцение [ Conrad H., Ertl G., Kuppers ]., Latta E.E., Surf. Sci., 64, 393 ( 1977 1.| Теплоты адсорбции ( кДж / моль СО на различных кристаллографических поверхностях. [15]



Страницы:      1    2    3    4