Плотность - вихревой ток
Cтраница 1
 |
Вытеснение электромагнитного поля вихревыми токами в экране. а - внешнее поле. б - поле от вихревых токов. в-суммарное поле. [1] |
Плотность вихревых токов уменьшается в металлическом экране от поверхности в глубь него. [2]
 |
Распределение плотности. [3] |
Плотность вихревых токов имеет неравномерное распределение в объекте контроля. Плотность максимальна на поверхности объекта в контуре, диаметр которого близок к диаметру контура возбуждающей катушки, и убывает до нуля на оси катушки при увеличении расстояния г. С увеличением глубины объекта контроля плотность вихревых токов также убывает. На рис. 8.2 приведены разрез объекта контроля по оси возбуждающей катушки и соответствующая эпюра распределения плотности вихревых токов в зависимости от удаления г от оси катушки. [4]
Плотность вихревых токов зависит от частоты и силы тока, протекающего по катушке преобразователя, электрической проводимости и магнитной проницаемости материала изделия, взаимного расположения преобразователя и изделия, а также от расстояния между преобразователем и поверхностью изделия. [5]
 |
Распределение плотности. [6] |
Плотность вихревых токов имеет неравномерное распределение в объекте контроля. Плотность максимальна на поверхности объекта в контуре, диаметр которого близок к диаметру контура возбуждающей катушки, и убывает до нуля на оси катушки при увеличении расстояния г. С увеличением глубины объекта контроля плотность вихревых токов также убывает. На рис. 8.2 приведены разрез объекта контроля по оси возбуждающей катушки и соответствующая эпюра распределения плотности вихревых токов в зависимости от удаления г от оси катушки. [7]
Плотность вихревых токов в объекте зависит от геометрических и электромагнитных параметров объекта, а также от взаимного расположения измерительного вихревого преобразователя и объекта. Синусоидальный ток, действующий в катушках преобразователя, создает электромагнитное поле, которое возбуждает вихревые токи в электропроводящем объекте. Электромагнитное поле вихревых токов воздействует на катушки преобразователя, наводя в них ЭДС или изменяя их полное электрическое сопротивление. [8]
 |
Схемы использования искательных катушек при. [9] |
Вследствие скин-эффекта плотность вихревых токов убывает по мере удаления от поверхности. Чем выше частота возбуждающего поля, тем интенсивнее убывает плотность вихревых токов по мере удаления от поверхности изделия. [10]
 |
Функциональная схема ультразвукового дефектоскопа. [11] |
Вихретоковая дефектоскопия основана на изменении распределения плотности вихревых токов в объектах из электропроводящих материалов под влиянием дефектов и позволяет обнаруживать поверхностные и подповерхностные дефекты в металлах и сплавах. [12]
На рис. 8 - 3 показано распределение плотности вихревых токов S - / оууА в зубцовом делении ротора при Ьк 0 03 м, 63б 0 0235 м, / IK 0 023 м, Тк1 75 - 107 См / м, 7зб 0 4 - 10 См / м, Цзб ЮО Ц0, ш 628 с-1. [13]
При установке за немагнитной нажимной плитой экрана уменьшается плотность вихревого тока на нижней кромке нажимной плиты ( рис. 5 - 10), так как в плите с экраном изменение направления тока происходит на меньшем расстоянии по оси у от кромки плиты по сравнению с плитой без экрана. Таким образом, электромагнитный экран, устанавливаемый за немагнитной нажимной плитой, в основном снижает вихревые токи в самой нажимной плите, что приводит к уменьшению ее нагрева. [14]
 |
Схема конструкции индукционной.| Примерная кривая изменения плотности вихревых токов в ферромагнитном цилиндрическом.| Вихревые токи в сплошном при индукционном нагреве. [15] |
Страницы: 1 2 3 4