Плотность - вихревой ток
Cтраница 2
На рис. 14 - 20 приведена примерная кривая изменения плотности вихревых токов 5 по сечению цилиндрического сердечника. Плотность тока & м имеет максимальное значение в поверхностных слоях и минимальное - в центре. [16]
В - В ( х у, z, t) и плотностей вихревых токов проводимости J 7 ( я, у, г, t), если последние имеются. [17]
Здесь V - объем перемагничинаемого тела, / / - напряженность магнитного ноля, В - индукция, jf - плотность вихревых токов, р - удельное элек-трич. Первый интеграл в скобке берется но петле гистерезиса; он выражает потери на динамич. Второй член в скобке выражает потери на вихревые токи. Достаточно точный расчет их возможен только в простейших случаях. [18]
Вихретоковые методы основаны на анализе взаимодействия внешнего электромагнитного поля с электромагнитным полем вихревых токов, наводимых возбуждающей катушкой в электропроводящем объекте контроля. Плотность вихревых токов в объекте зависит от геометрических и электромагнитных параметров объекта, а также от взаимного расположения измерительного вихревого токового преобразователя ( 5777) и объекта. Синусоидальный ( или импульсный) ток, действующий в катушках ВТП, создает электромагнитное поле, которое возбуждает вихревые токи в электропроводящем объекте. Электромагнитное поле вихревых токов воздействует на катушки преобразователя, наводя в них ЭДС или изменяя их полное электрическое сопротивление. Регистрируя напряжение на зажимах катушки или ее сопротивление, получают информацию о свойствах объекта и о положении преобразователя относительно него. [19]
На рисунке 3.2.3 представлена обобщенная функциональная схема вихретокового контроля с накладным преобразователем. Плотность вихревых токов максимальна на поверхности объекта в контуре, диаметр которого близок к диаметру возбуждающей обмотки, и убывает до нуля на оси В ГП и при г - оо. Плотность вихревых токов убывает также и по глубине объекта контроля. [20]
Вихретоковые методы основаны на анализе взаимодействия внешнего электромагнитного поля с электромагнитным полем вихревых токов, наводимых возбуждающей катушкой в электропроводящем объекте контроля. Плотность вихревых токов в объекте зависит от геометрических и электромагнитных параметров объекта, а также от взаимного расположения измерительного вихревого токового преобразователя ( 5777) и объекта. Синусоидальный ( или импульсный) ток, действующий в катушках ВТП, создает электромагнитное поле, которое возбуждает вихревые токи в электропроводящем объекте. Электромагнитное поле вихревых токов воздействует на катушки преобразователя, наводя в них ЭДС или изменяя их полное электрическое сопротивление. Регистрируя напряжение на зажимах катушки или ее сопротивление, получают информацию о свойствах объекта и о положении преобразователя относительно него. [21]
На рисунке 3.2.3 представлена обобщенная функциональная схема вихретокового контроля с накладным преобразователем. Плотность вихревых токов максимальна на поверхности объекта в контуре, диаметр которого близок к диаметру возбуждающей обмотки, и убывает до нуля на оси ВТП и при г - да. Плотность вихревых токов убывает также и по глубине объекта контроля. [22]
Вихретоковые методы основаны на анализе взаимодействия внешнего электромагнитного поля с электромагнитным полем вихревых токов, наводимых возбуждающей катушкой в электропроводящем объекте. Плотность вихревых токов в объекте зависит от геометрических и электромагнитных параметров объекта, а также от взаимного расположения измерительного преобразования и объекта. В качестве преобразователя используют индуктивные катушки. [23]
Вихретоко-вые методы основаны на анализе взаимодействия внешнего электромагнитного поля с электромагнитным полем вихревых токов, наводимых возбуждающей катушкой в электропроводящем объекте контроля. Плотность вихревых токов в объекте зависит от геометрических и электромагнитных параметров объекта, а также от взаимного расположения измерительного вихретокового преобразователя ( ВТП) и объекта. Синусоидальный ( или импульсный) ток, действующий в катушках ВТП, создает электромагнитное поле, которое возбуждает вихревые токи в электропроводящем объекте. Электромагнитное поле вихревых токов воздействует на катушки преобразователя, наводя в них ЭДС или изменяя их полное электрическое сопротивление. Регистрируя напряжение на зажимах катушки или их сопротивление, получают информацию о свойствах объекта и о положении преобразователя относительно него. [24]
 |
Обобщенная схема вихретокового контроля с помощью накладного ВТП. [25] |
На рис. 8 представлена обобщенная функциональная схема вихретокового контроля с накладным преобразователем. Плотность вихревых токов максимальна на поверхности объекта в контуре, диаметр которого близок к диаметру возбуждающей обмотки, и убывает до нуля на оси ВТП и при г - оо. Плотность вихревых токов убывает таТоке и по глубине объекта контроля. [26]
 |
Зависимость удельных пульсационных. [27] |
Поэтому здесь целесообразно относить удельные потери к поверхности элемента, охваченной вихревыми токами, и выражать их в ваттах на квадратный дециметр. При этом имеются в виду такие условия, когда плотность вихревого тока на этой поверхности повсюду одинакова, в противном случае необходим учет действительного распределения вихревых токов по поверхности. [28]
Вследствие скин-эффекта плотность вихревых токов убывает по мере удаления от поверхности. Чем выше частота возбуждающего поля, тем интенсивнее убывает плотность вихревых токов по мере удаления от поверхности изделия. [29]
Плотность вихревых токов имеет неравномерное распределение в объекте контроля. Плотность максимальна на поверхности объекта в контуре, диаметр которого близок к диаметру контура возбуждающей катушки, и убывает до нуля на оси катушки при увеличении расстояния г. С увеличением глубины объекта контроля плотность вихревых токов также убывает. На рис. 8.2 приведены разрез объекта контроля по оси возбуждающей катушки и соответствующая эпюра распределения плотности вихревых токов в зависимости от удаления г от оси катушки. [30]
Страницы: 1 2 3 4