Поверхность - исследуемый - образец - Большая Энциклопедия Нефти и Газа, статья, страница 1
Русский человек на голодный желудок думать не может, а на сытый – не хочет. Законы Мерфи (еще...)

Поверхность - исследуемый - образец

Cтраница 1


Поверхность исследуемых образцов и эталона рассчитывается по средним значениям диаметра и высоты, измеренным в нескольких сечениях.  [1]

Поверхность исследуемого образца шлифуют и полируют ( лучше применять электролитическое полирование, не вызывающее наклепа в приповерхностном слое), а при необходимости - подвергают травлению.  [2]

3 Прибор для определения влияния вентиляции на плесневение материала.| Влияние скорости и продолжительности вентиляции на рост плесени. [3]

Часть поверхности исследуемых образцов была инфицирована водной суспензией смеси отмытых спор плесеней.  [4]

5 Микрофотография каолинитовой сухарной глины ( увеличение в 13 000 раз. [5]

Снятая с поверхности исследуемого образца, эта пленка ( реплика) воспроизводит его рельеф. Пленку помещают затем между конденсорной и объективной линзами и, пропуская через нее пучок электро нов, получают соответствующее изображение на экране. При помощи электронного микроскопа удается исследовать вещества, частицы которых имеют размеры менее 0 2 i. На рис. 33 дана микрофотография каолинитовой сухарной глины. При научном исследовании силикатов и особенно в практике стекловарения большое значение имеют вязкость, поверхностное натяжение, плотность и электропроводность силикатных расплавов. Эти показатели определяют при помощи специальных приборов. Вязкость измеряют методами вращающегося цилиндра ( вискозиметр М. П. Воларовича) или шара ( вискозиметр И. В. Гребенщикова), или падающего шара.  [6]

7 Микрофотография каолинитовой сухарной глины ( увеличение в. [7]

Снятая с поверхности исследуемого образца, эта пленка ( реплика) воспроизводит его рельеф. Пленку помещают затем между конденсориой и объективной линзами и, пропуская через нее пучок электронов, получают соответствующее изображение на экране. На рис. 33 дана микрофотография каолинитовой сухарной глины. При научном исследовании силикатов и особенно в практике стекловарения большое значение имеют вязкость, поверхностное натяжение, плотность и электропроводность силикатных расплавов. Эти показатели определяют при помощи специальных приборов. Вязкость измеряют методами вращающегося цилиндра ( вискозиметр М. П. Воларовича) или шара ( вискозиметр И. В. Гребенщикова), или падающего шара.  [8]

В этом случае поверхность исследуемого образца с р - n - переходом очищалась следующим образом: сначала производилось травление в СР4 в течение 0 5 мин.  [9]

10 Схема оттенения реплики ( - угол оттенения.| Схема установки для вакуумного напыления реплик. [10]

Напыление реплики на поверхность исследуемого образца осуществляют с помощью вакуумного универсального поста. В рабочей камере устанавливают держатели для образца и для распыляемого материала на расстоянии 60 - 100 мм друг от друга. В качестве распыляемого вещества чаще всего применяют углерод, кварц, серебро, платину, хром и другие материалы. Материал испаряют с помощью электрического тока силой 60 - 80 А.  [11]

Было установлено, что у поверхности исследуемых образцов ориентация молекулярных структур выражена наиболее ярко, затем она снижается по направлению к центру поперечного сечения. В центре всегда наблюдается незначительная ориентация, материал здесь может быть признан изотропным. Это объясняется протеканием при медленном застывании расплава релаксационных явлений, обусловленных броуновским движением частиц материала. Подобная ориентация наблюдается и в тех деталях, конструкция которых обеспечивает расплаву достаточно короткий путь течения. При более длинном пути потока ориента-ционные явл / ения существенно усложняются.  [12]

13 Виды поляризации. [13]

При отражении поляризованного луча света от поверхности исследуемого образца параметры эллипса поляризации изменяются.  [14]

Теперь рассмотрим схему отражения рентгеновского луча от поверхности исследуемого образца. Пучок, падающий по нормали к поверхности, охватывает площадку 1 5 - 2 мм в диаметре. На этой площадке, как показывает опыт, среди большого числа освещенных кристалликов находится обычно достаточное количество таким образом ориентированных кристаллов, что определенные их плоскости находятся в соотношении Брегга с параметрами падающего луча.  [15]



Страницы:      1    2    3    4