Cтраница 1
Поверхность исследуемых образцов и эталона рассчитывается по средним значениям диаметра и высоты, измеренным в нескольких сечениях. [1]
Поверхность исследуемого образца шлифуют и полируют ( лучше применять электролитическое полирование, не вызывающее наклепа в приповерхностном слое), а при необходимости - подвергают травлению. [2]
![]() |
Прибор для определения влияния вентиляции на плесневение материала.| Влияние скорости и продолжительности вентиляции на рост плесени. [3] |
Часть поверхности исследуемых образцов была инфицирована водной суспензией смеси отмытых спор плесеней. [4]
![]() |
Микрофотография каолинитовой сухарной глины ( увеличение в 13 000 раз. [5] |
Снятая с поверхности исследуемого образца, эта пленка ( реплика) воспроизводит его рельеф. Пленку помещают затем между конденсорной и объективной линзами и, пропуская через нее пучок электро нов, получают соответствующее изображение на экране. При помощи электронного микроскопа удается исследовать вещества, частицы которых имеют размеры менее 0 2 i. На рис. 33 дана микрофотография каолинитовой сухарной глины. При научном исследовании силикатов и особенно в практике стекловарения большое значение имеют вязкость, поверхностное натяжение, плотность и электропроводность силикатных расплавов. Эти показатели определяют при помощи специальных приборов. Вязкость измеряют методами вращающегося цилиндра ( вискозиметр М. П. Воларовича) или шара ( вискозиметр И. В. Гребенщикова), или падающего шара. [6]
![]() |
Микрофотография каолинитовой сухарной глины ( увеличение в. [7] |
Снятая с поверхности исследуемого образца, эта пленка ( реплика) воспроизводит его рельеф. Пленку помещают затем между конденсориой и объективной линзами и, пропуская через нее пучок электронов, получают соответствующее изображение на экране. На рис. 33 дана микрофотография каолинитовой сухарной глины. При научном исследовании силикатов и особенно в практике стекловарения большое значение имеют вязкость, поверхностное натяжение, плотность и электропроводность силикатных расплавов. Эти показатели определяют при помощи специальных приборов. Вязкость измеряют методами вращающегося цилиндра ( вискозиметр М. П. Воларовича) или шара ( вискозиметр И. В. Гребенщикова), или падающего шара. [8]
В этом случае поверхность исследуемого образца с р - n - переходом очищалась следующим образом: сначала производилось травление в СР4 в течение 0 5 мин. [9]
![]() |
Схема оттенения реплики ( - угол оттенения.| Схема установки для вакуумного напыления реплик. [10] |
Напыление реплики на поверхность исследуемого образца осуществляют с помощью вакуумного универсального поста. В рабочей камере устанавливают держатели для образца и для распыляемого материала на расстоянии 60 - 100 мм друг от друга. В качестве распыляемого вещества чаще всего применяют углерод, кварц, серебро, платину, хром и другие материалы. Материал испаряют с помощью электрического тока силой 60 - 80 А. [11]
Было установлено, что у поверхности исследуемых образцов ориентация молекулярных структур выражена наиболее ярко, затем она снижается по направлению к центру поперечного сечения. В центре всегда наблюдается незначительная ориентация, материал здесь может быть признан изотропным. Это объясняется протеканием при медленном застывании расплава релаксационных явлений, обусловленных броуновским движением частиц материала. Подобная ориентация наблюдается и в тех деталях, конструкция которых обеспечивает расплаву достаточно короткий путь течения. При более длинном пути потока ориента-ционные явл / ения существенно усложняются. [12]
![]() |
Виды поляризации. [13] |
При отражении поляризованного луча света от поверхности исследуемого образца параметры эллипса поляризации изменяются. [14]
Теперь рассмотрим схему отражения рентгеновского луча от поверхности исследуемого образца. Пучок, падающий по нормали к поверхности, охватывает площадку 1 5 - 2 мм в диаметре. На этой площадке, как показывает опыт, среди большого числа освещенных кристалликов находится обычно достаточное количество таким образом ориентированных кристаллов, что определенные их плоскости находятся в соотношении Брегга с параметрами падающего луча. [15]