Поверхность - чистый металл
Cтраница 1
 |
Краевые углы смачивания для. [1] |
Поверхность чистых металлов, так же как и поверхность парафина в воде, гидрофобна. Однако наличие оксидной пленки делает ее гидрофильной. [2]
На поверхности чистого металла присутствует облако электронов. Часть этих электронов, обладающих максимальной кинетической энергией wv может покинуть металл. Эти электроны вместе с положительными ядрами атомов металла на его поверхности образуют двойной электрический слой, являющийся стационарным барьером для выхода электронов с энергией меньшей, чем щг, из металла. Однако и электроны с максимальной кинетической энергией wi не могут покинуть металл при установившемся равновесии в двойном электрическом слое. Силы электрического притяжения удерживают их при удалении от поверхности. Работа выхода электрона, обычно выражаемая в электронвольтах, является важной характеристикой металла, но то обстоятельство, что поверхностные пленки из чужеродных частиц могут изменять ее величину, заставляет с осторожностью пользоваться значениями ее, полученными на основании экспериментальных данных. [3]
Скорость загрязнения поверхностей чистых металлов [94] была установлена уже в начале 1930 - х годов, поэтому предельное значение, даваемое формулой [51], является общепринятым и бесспорным. Однако условия, при которых можно было значительно уменьшить давление, не всегда были четко определены. [4]
Расплавленное стекло плохо смачивает поверхность чистого металла. В противоположность этому, к окисленной поверхности металла стекло обнаруживает сильное сродство. Для обеспечения хорошего сцепления достаточно уже небольшой видимой пленки. Контакт между стеклом и окисной пленкой всегда бывает хорошим. При механическом разрушении спаев металлов со стеклом наблюдаются сколы по стеклу или отставание окисной пленки от самого металла. Таким образом, прочность спая металла со стеклом сильно зависит от прочности сцепления окисной пленки с металлом. [5]
Гетерогенность различных плоскостей кристаллов н-а поверхности чистых металлов [15, 18] для хемосорбции и в отношении скоростей реакций не вызывает сомнений, но изучение влияния ориентации различных граней кристалликов еще не продвинулось достаточно далеко. [6]
У многих типов сложных катодов на поверхность чистого металла наносится активирующий слой, который обеспечивает интенсивную эмиссию при сравнительно невысоких температурах. [7]
Внешний фотоэффект имеет место как с поверхности чистых металлов или покрывающих такую поверхность тонких пленок, так и при более сложном строении поверхностного слоя тела, эмигрирующего фотоэлектроны. В дальнейшем мы будем называть всякое эмиттирующее фотоэлектроны тело, безразлично, будет ли это чистый металл или нет, - катодом, самое явление внешнего фотоэффекта мы будем сокращенно называть просто фотоэффектом. [8]
 |
Потенциальные кривые. [9] |
В большинстве других случаев скорость хемосорбции на поверхности чистых металлов даже при низких температурах настолько высока, что энергия активации, по-видимому, равна нулю или во всяком случае очень мала. [10]
Однако опыт показывает, что однородной является только поверхность чистого металла в жидком состоянии. Кристаллическое строение твердой поверхности приводит к тому, что даже в случае спектроскопически, чистого металла поверхность его не является однородной, так как различные грани, ребра и углы кристаллов обладают различным запасом энергии. Фрумкин и Шлыгин изучали поведение поверхности твердой платины при ее заряжении положительным электричеством. Платина, насыщенная водородом, заряжалась анодно, одновременно измерялся ее потенциал. [11]
Работа выхода электрона е0ф обязана наличию электрического поля на поверхности чистого металла. Потенциал Ф, который должен быть преодолен, является одновременно мерой сродства поверхности металла к электрону. Если преобладает сродство поверхности металла к электрону, то при достаточно большой электронной поляризуемости адсорбированной молекулы АФ будет отрицательной величиной, так как электроны смещаются к поверхности металла. Если сродство к электрону будет больше у молекулы, то АФ будет положительно, так как в этом случае электроны металла смещаются по направлению к адсорбированной молекуле. [12]
 |
Минимальная толщина оло-няиного покрытия, дающего пассивную пленку в растворах хлористого натрия. Покрываемый материал - сталь 15. [13] |
Задача подготовительных операций перед нанесением гальванических покрытий состоит нов обнажении поверхности чистого металла, а в искусственном создании защитной к данному электролиту пленки, типа пассивной. Получающаяся пленка должна оставаться достаточно проницаемой для тока при электролизе. Сплошные, непроницаемые, толстые пленки ослабляют сцепление покрытия с основным металлом. [14]
Если же говорить о концентрации, то она, конечно, тоже постоянна на поверхности чистого металла. Таким образом, активность ( или концентрация) окисляющегося металла не может изменяться во времени по мере течения процесса. [15]
Страницы: 1 2 3 4