Cтраница 1
Внешняя поверхность пленки, образовавшейся ир. и окислении железа на воздухе при 604 С в течение 45 мин. X 300. [1] |
Внешняя поверхность пленки, образовавшейся при окисления железа на воздухе при 604D С в течение 22 мин. [2]
Неоднородность внешней поверхности пленки, наличие включений могут усиливать смачиваемость поверхности пленки водой и ее проницаемость. Повышение проницаемости может произойти также из-за наличия воздушных полостей, которые ослабляют покрытия. Неполное смачивание поверхности металла, нарушение адгезии покрытия к металлу также могут привести к накоплению электролита под пленкой и коррозии. [3]
Температура на внешней поверхности пленки при конденсации чистого пара равна температуре насыщения ts; при р 3 614 бар / s1400 С. [4]
Вакансия образуется на внешней поверхности пленки МеХ ( плоскость CD) вследствие избыточного давления в этом месте атомов X, а их концентрация в направлении поверхности раздела АВ, где заряженные вакансии разряжаются, уменьшается. [5]
Вакансии образуются на внешней поверхности пленки MX вследствие избыточного давления в этом месте атомов X, а их концентрация в направлении поверхности раздела металл-пленка, где вакансии разряжаются, уменьшается. Движущей силой возникновения градиента концентрации атомов М по толщине пленки является изменение свободной энергии при протекании химической реакции. [6]
Так как скорость потока на внешней поверхности пленки относительно невелика, значение т0 подсчитывалось Кнут-том как для течения тазов в трубе без смачивающей пленки. [7]
Валковый агрегат для нанесения покрытий из расплавов полимеров.| Копировальный агрегат с ленточным прессом.| Охлаждающее устройство. [8] |
При получении рельефного рисунка на внешней поверхности пленок и слоистых материалов используется свойство формуе-мости полимера в термопластичном состоянии. Для нанесения тиснения на готовые плоские пленки и листы применяют специальный каландровый агрегат. Исходный материал через накопитель попадает на нагревательный барабан ( с паровым или масляным нагревом) и затем, проходя через поле инфракрасного излучения, попадает на агрегат для нанесения тиснения. [9]
Установка для измерения изменения электрического сопротивления и количества адсорбированного газа. [10] |
Если электронное взаимодействие происходит только на самой внешней поверхности пленки, то, чтобы изменение сопротивления было доступно измерению, толщина пленки не должна превышать 30 - 80 атомных слоев. [11]
Плотность потока испарения jmcn ( x) с внешней поверхности пленки зависит от температуры этой поверхности, связанной с локальной температурой стенки и распределением температуры по толщине пленки, а также от гидродинамических и диффузионных условий в газовой среде, - куда направлен поток испарения. [12]
В этих случаях полярность адсорбированной пленки обратна указанной выше: внешняя поверхность пленки заряжена положительно, а внутренняя отрицательно. [14]
Прямолинейная корреляция между интенсивностью потока / SiH4 и длительностью латентного периода, предшествующего зарождению и росту частиц Si. [15] |